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11. 发明申请

WO2006066563A1 THERMISCH STABILER MULTILAYER-SPIEGEL FÜR DEN EUV-SPEKTRALBEREICH 审中-公开
标题翻译：热安定性等多层镜的用于EUV光谱范围
公开(公告)号：WO2006066563A1
公开(公告)日：2006-06-29
申请号：PCT/DE2005/002315
申请日：2005-12-23
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , BENOIT, Nicolas , FEIGL, Torsten , KAISER, Norbert , YULIN, Sergiy
发明人： BENOIT, Nicolas , FEIGL, Torsten , KAISER, Norbert , YULIN, Sergiy
IPC分类号： G02B5/08 , G02B1/10 , G21K1/06
CPC分类号： G02B5/0833 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： Bei einem Multilayer-Spiegel (1) zur Reflexion von EUV- Strahlung, der eine Mehrzahl alternierender Molybdänschichten (4) und Siliziumschichten (3) enthält, ist an mehreren Grenzflächen zwischen den Molybdänschichten (4) und den Siliziumschichten (3) jeweils eine Barriereschicht (5) angeordnet, die ein Siliziumnitrid oder ein Siliziumborid enthält. Durch die Barriereschichten (5) aus einem Siliziumnitrid oder einem Siliziumborid wird eine hohe thermische Stabilität, insbesondere eine hohe Langzeitstabilität bei Temperaturen von mehr als 3000C, bei gleichzeitig hoher Reflexion des Multilayer- Spiegels erreicht. Ein derartiger Multilayer-Spiegel (1) kann insbesondere als heizbarer Kollektorspiegel einer EUV- Strahlungsquelle verwendet werden.
摘要翻译：在多层反射镜（1），用于EUV辐射的包括多个交替的钼层（4）和硅层（3）的反射，是在钼层（4）和所述硅层（3）各自具有的阻挡层之间的多个接口（放置5）含有硅氮化物或硅硼化物。通过由氮化硅或硼化物的阻挡层（5）是一个高的热稳定性，特别是在高于300℃更高的温度下具有高的长期稳定性，与所述多层反射镜的高反射率相结合。这种多层反射镜（1）可以用作特别是EUV辐射源的可加热的收集器反射镜。

12. 发明申请

WO2006007895A1 RÜCKFLÄCHENSPIEGEL 审中-公开
标题翻译： BACK SPACE镜子
公开(公告)号：WO2006007895A1
公开(公告)日：2006-01-26
申请号：PCT/EP2005/005350
申请日：2005-05-17
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , SCHELER, Michael , STÖCKL, Wieland , UHLIG, Hein , KAISER, Norbert
发明人： SCHELER, Michael , STÖCKL, Wieland , UHLIG, Hein , KAISER, Norbert
IPC分类号： F21V7/22
CPC分类号： C03C17/3663 , C03C17/36 , C03C17/3618 , C03C17/3639 , C03C17/3644 , C03C17/3649 , C03C2218/154 , F21V7/22 , G02B5/0808 , G02B5/085 , Y10T428/26
摘要： Die Erfindung betrifft einen Rückflächenspiegel mit einem für das zu reflektierende Licht transparenten Substrat (2) und einer auf seiner Rückseite aufgebrachten Silberschicht (3), wobei zwischen dem Substrat und der Silberschicht zumindest bereichsweise eine erste Zwischenschicht (4) als Unterschicht eingebracht ist, die aus einem hochschmelzenden Oxid besteht oder dieses enthält und einen höheren Schmelzpunkt als Silber aufweist, und auf der dem Substrat abgewandten Seite der Silberschicht zumindest bereichsweise eine weitere Deckschicht (6) aufgebracht ist, die aus einem der hochschmelzenden Metalle Ruthenium, Iridium, Osmium, Palladium, Platin, Rhenium und/oder Rhodium besteht oder diese enthält.
摘要翻译：本发明涉及具有透明的光被反射基底的背表面反射镜（2）和施加到其背面侧的银层（3），至少局部地，在衬底和银层之间的第一中间层（4）被引入作为由一个子层的力施加高熔氧化物是或包含，并且具有比银更高的熔点，并且在银层的基板侧的相反侧的至少部分，（6）由耐熔金属中的一种钌，铱，锇，钯，铂的另一层，铼和/或铑，或包含。

13. 发明申请

WO2006000445A1 HOCHREFLEKTIV BESCHICHTETER MIKROMECHANISCHER SPIEGEL, VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG SOWIE DESSEN VERWENDUNG 审中-公开
标题翻译：高反射镀膜微机械视镜，其制造方法相同，及其用途
公开(公告)号：WO2006000445A1
公开(公告)日：2006-01-05
申请号：PCT/EP2005/006901
申请日：2005-06-27
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , SCHMIDT, Jan, Uwe , SANDNER, Thilo , SCHENK, Harald , GATTO, Alexandre , YANG, Minghong , HEBER, Jörg , KAISER, Norbert
发明人： SCHMIDT, Jan, Uwe , SANDNER, Thilo , SCHENK, Harald , GATTO, Alexandre , YANG, Minghong , HEBER, Jörg , KAISER, Norbert
IPC分类号： G02B26/08
CPC分类号： G02B26/0833 , G02B5/08
摘要： Die Erfindung betrifft hochreflektiv beschichtete mikromechanische Spiegel für den tief-ultravioletten (DUV)- und vakuum-ultravioletten (VUV)-Spektralbereich, basierend auf einem Substrat, das mit einer Aluminium-Schicht und einer transparenten Vergütungsschicht überzogen ist. Ebenso betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung derartiger hochreflektiv beschichteter mikromechanischer Spiegel sowie deren Verwendung zur Herstellung von Mikrosensoren, optischen Datenspeichern oder Video- und Datenprojektionsdisplays.
摘要翻译：本发明涉及用于深紫外线（DUV）的高反射涂层的微机械镜 - 基于其上涂覆有铝层和透明涂层的基材上，并在真空紫外（VUV）光谱。本发明还涉及一种用于制造这种高反射涂布的微机械镜以及它们用于生产微型传感器，光学数据储存或数据和视频投影显示器的使用的方法。

14. 发明申请

WO2003079062A1 OPTISCHES ELEMENT, VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG UND ZUR BESTIMMUNG SEINER OPTISCHEN EIGENSCHAFTEN 审中-公开
标题翻译：光学元件制造方法和SUR测定其光学性能的影响
公开(公告)号：WO2003079062A1
公开(公告)日：2003-09-25
申请号：PCT/DE2003/000810
申请日：2003-03-07
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , INSTITUT FÜR PHYSIKALISCHE HOCHTECHNOLOGIE E.V. , HEBER, Jörg , KAISER, Norbert , MÜHLIG, Christian , TRIEBEL, Wolfgang
发明人： HEBER, Jörg , KAISER, Norbert , MÜHLIG, Christian , TRIEBEL, Wolfgang
IPC分类号： G02B5/20
CPC分类号： G02B5/283
摘要： Die Erfindung betrifft optische Elemente, Verfahren zur Herstellung solcher optischer Elemente und die Bestimmung der erreichten optischen Eigenschaften. Bei den optischen Elementen handelt es sich insbesondere um solche für die Reflexion, Transmission, Führung und/oder Filterung elektromagnetischer Strahlung im Wellenlängenbereich zwischen 100 und 400 nm. Auf einem Substrat ist dabei mindestens eine Schicht eines metallischen Fluorides ausgebildet. Mit der erfindungsgemässen Lösung sollen die optischen Eigenschaften verbessert und insbesondere der störende Einfluss von Lumineszenz weitestgehend vermieden werden. Im Anschluss an die Schichtausbildung können die so hergestellten optischen Elemente durch Bestrahlung mit elektromagnetischer Strahlung einer vorgebbaren Wellenlänge bestrahlt und die Lumineszenzintensität mit optischen Detektoren bestimmt werden.
摘要翻译：本发明涉及一种光学元件，用于产生这样的光学元件和所取得的光学特性的测定方法。光学元件特别是那些用于反射，透射，管理和/或在过滤100和400nm之间的波长范围内的电磁辐射。在基板是形成的金属氟化物的至少一种的层。本发明的方案是，以改善光学性能，特别是发光的干扰影响可以大大避免。在膜形成之后，由此制得的光学元件可以通过暴露于预定波长和发光强度的电磁辐射可以与光学检测器来确定照射。

15. 发明申请

WO2003071317A1 MONOCHROMATORSPIEGEL FÜR DEN EUV-SPEKTRALBEREICH 审中-公开
标题翻译：单色的用于EUV光谱范围
公开(公告)号：WO2003071317A1
公开(公告)日：2003-08-28
申请号：PCT/EP2003/001842
申请日：2003-02-21
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , FEIGL, Torsten , KAISER, Norbert , KUHLMANN, Thomas , YULIN, Sergey
发明人： FEIGL, Torsten , KAISER, Norbert , KUHLMANN, Thomas , YULIN, Sergey
IPC分类号： G02B5/08
CPC分类号： B82Y10/00 , G02B5/0891 , G21K1/062
摘要： Monochromatorspiegel für den EUV-Spektralbereich mit einer auf ein Substrat aufgebrachten Schichtanordnung, die eine periodische Abfolge von zwei eine Periode mit der Periodendicke d bildenden Einzelschichten (A,B) unterschiedlicher Materialien als Spacer-Schicht bzw. als Absorber-Schicht aufweist, so dass die Reflektivität der zweiten oder einer höheren Bragg-Ordnung verwendet wird und wobei d eine Grössenabweichung von höchstens plusminus 3% aufweist und wobei das Verhältnis der Schichtdicke der Absorber-Schicht zur Periodendicke kleiner ist als das Verhältnis von 0,8 zur verwendeten Ordnung der Bragg-Reflexion.
摘要翻译：单色用于EUV光谱范围与施加到基材层结构的涂层具有两个一周期与形成各层的周期厚度d的周期序列（A，B）不同的材料作为间隔层或吸收层，以使得所述第二或更高布拉格顺序的反射率被使用，并且其中d是加或减3％，并且其中的尺寸偏差的吸收层的周期厚度的层厚度之比大于0.8至布拉格反射的使用顺序的比率较小，

16. 发明申请

WO2013190005A1 MULTILAYER-SPIEGEL FÜR DEN EUV-SPEKTRALBEREICH 审中-公开
标题翻译：多层镜的用于EUV光谱范围
公开(公告)号：WO2013190005A1
公开(公告)日：2013-12-27
申请号：PCT/EP2013/062787
申请日：2013-06-19
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V.
发明人： YULIN, Sergiy , NESTERENKO, Viatcheslav , KAISER, Norbert
IPC分类号： G02B5/08 , G21K1/06
CPC分类号： G02B5/0891 , B82Y10/00 , G21K1/062 , G21K2201/067
摘要： Es wird ein Multilayer-Spiegel (100) für den EUV- Spektralbereich angegeben, umfassend - eine erste periodische Schichtenfolge (10), die eine Vielzahl von Schichtpaaren (12) aufweist, wobei die Schichtpaare (12) jeweils eine Schicht (1) aus einem ersten Material und eine weitere Schicht (2) aus einem zweiten Material aufweisen, und - eine auf der ersten periodische Schichtenfolge (10) angeordnete zweite periodische Schichtenfolge (20), die mindestens zwei Schichtpaare (34) aufweist, wobei die Schichtpaare (34) der zweiten periodischen Schichtenfolge (20) jeweils eine Schicht (3) aus einem dritten Material und eine weitere Schicht (4) aus einem vierten Material aufweisen, wobei - das dritte Material von dem ersten und dem zweiten Material verschieden ist, - das dritte Material ein Oxid oder Nitrid von einem Übergangsmetall ist, und - das vierte Material Silizium ist.
摘要翻译：它是用于EUV光谱范围中指定的多层反射镜（100），包括： - 第一周期系列的层（10），具有多个层对（12），其中，所述层对（12），每一个都具有层（1）由一具有第一材料和第二材料的另外的层（2），以及 - 在所述第一周期层序列布置的所述一个（10）第二次定期层具有至少两个对层（34）序列（20），其中，所述层对（34）在每种情况下的第三材料层（3）和具有第二周期的层序列（20）的第四材料的另外的层（4），其特征在于， - 所述第三材料是从所述第一和第二材料，不同 - 第三材料是氧化物或过渡金属的氮化物，以及 - 所述第四材料是硅。

17. 发明授权

EP2864825B1 MULTILAYER-SPIEGEL FÜR DEN EUV-SPEKTRALBEREICH 有权转让
标题翻译：多层镜的用于EUV光谱范围
公开(公告)号：EP2864825B1
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：EP13732411.7
申请日：2013-06-19
申请人： Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
发明人： YULIN, Sergiy , NESTERENKO, Viatcheslav , KAISER, Norbert
IPC分类号： G02B5/08 , G21K1/06
CPC分类号： G02B5/0891 , B82Y10/00 , G21K1/062 , G21K2201/067

18. 发明公开

EP3011370A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER ENTSPIEGELUNGSSCHICHT 有权
标题翻译：制造方法抗反射涂层
公开(公告)号：EP3011370A1
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：EP14727817.0
申请日：2014-06-02
申请人： Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung E.V.
发明人： SCHULZ, Ulrike , MUNZERT, Peter , RICKELT, Friedrich , KAISER, Norbert
IPC分类号： G02B1/11 , B29C59/14 , C08J7/12 , G02B1/12
CPC分类号： G02B1/111 , B29C59/14 , B29C2059/147 , B29D11/00865 , C08J7/123 , G02B1/118 , G02B1/12
摘要： A method for producing an antireflective layer on a substrate (10) is specified, comprising the method steps of: - creating a first nano structure (11) in a first material by a first plasma etching process, wherein the first material is the material of the substrate (10) or the material of a layer (1) of a first organic material applied to the substrate (10), - applying a layer (2) of a second material to the first nano structure (11), wherein the second material is an organic material, and - creating a second nano structure (12) in the layer (2) of the second material by a second plasma etching process, wherein the second material has a greater etching rate than the first material during the implementation of the second plasma etching process.

19. 发明授权

EP1786945B1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES STRAHLUNGSABSORBIERENDEN OPTISCHEN ELEMENTS 失效
标题翻译：用于生产辐射光学元件
公开(公告)号：EP1786945B1
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：EP05798053.4
申请日：2005-09-08
申请人： Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
发明人： KAISER, Norbert , KALESS, Antje , MUNZERT, Peter , SCHELER, Michael , SCHULZ, Ulrike
IPC分类号： B29C59/14 , C23C14/48 , C23C14/02 , C23C14/20 , G02B1/12 , G02B5/00
CPC分类号： G02B5/003 , B29C59/14 , B29K2033/12 , B29K2995/0031 , B29L2011/00 , Y10T428/31678

20. 发明授权

EP1828818B1 THERMISCH STABILER MULTILAYER-SPIEGEL FÜR DEN EUV-SPEKTRALBEREICH 有权
标题翻译：热安定性等多层镜的用于EUV光谱范围
公开(公告)号：EP1828818B1
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：EP05821542.7
申请日：2005-12-23
申请人： Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
发明人： BENOIT, Nicolas , FEIGL, Torsten , KAISER, Norbert , YULIN, Sergiy
IPC分类号： G02B5/08 , G02B1/10 , G21K1/06
CPC分类号： G02B5/0833 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G21K1/062 , G21K2201/067

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