专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

11. 发明专利

DE102008018589A1 未知
公开(公告)号：DE102008018589A1
公开(公告)日：2009-11-05
申请号：DE102008018589
申请日：2008-04-08
申请人： FRAUNHOFER GES FORSCHUNG
发明人： GRABAU PATRICK , ROCH JULIUS , HOPFE VOLKMAR , DANI INES
IPC分类号： H05H1/26
摘要： A method and an apparatus relate to an ignition an arc between an anode and a cathode of a plasma source which can be used for a substrate surface modification at environmental atmosphere conditions. The cathode is arranged at a spacing from the anode. This method and the apparatus may reduce the effort for the ignition of an arc of a plasma source and to make the ignition process safer. The method is such that a barrier discharge is ignited with a supplied gas by means of two electrodes which are arranged parallel to the longitudinal axis between the anode and the cathode and are connected to a high-voltage generator and are supplied with a radio frequency electric AC voltage on the ignition. When an electric DC voltage is applied to the anode and to the cathode, an arc can thereby be ignited by means of the charge carriers present between the anode and the cathode due to the barrier discharge.

12. 发明专利

DE102006042328A1 未知
公开(公告)号：DE102006042328A1
公开(公告)日：2008-03-20
申请号：DE102006042328
申请日：2006-09-01
申请人： FRAUNHOFER GES FORSCHUNG
发明人： DRESLER BIRTE , HOPFE VOLKMAR , DANI INES
IPC分类号： C23C16/48 , C23C16/52
摘要： The invention relates to an apparatus and to a method of forming thin films on substrate surfaces. It is the object of the invention to provide possibilities with which thin layers can be manufactured on substrate surfaces which have a specific layer material formation with desired properties. The apparatus in accordance with the invention is made such that a feed is present for at least one gaseous precursor, which contributes to the layer formation, at a reaction chamber region above a substrate surface to be coated. A source which is a plasma source and which emits electromagnetic radiation is moreover arranged such that a photolytic activation of atoms and/or molecules of the precursor(s) takes place with the emitted electromagnetic radiation. In this respect, the plasma source should be arranged and should also be operated such that no direct influence of the plasma on the substrate surface and on the precursors resulting in the layer formation takes place.

13. 发明专利

DE102006042327A1 未知
公开(公告)号：DE102006042327A1
公开(公告)日：2008-03-20
申请号：DE102006042327
申请日：2006-09-01
申请人： FRAUNHOFER GES FORSCHUNG
发明人： DRESLER BIRTE , HOPFE VOLKMAR , DANI INES , ROSINA MILAN
IPC分类号： H01L21/318

14. 发明专利

DE102016208196B4 Verfahren zur generativen Herstellung von dreidimensionalen Verbundbauteilen 未知
公开(公告)号：DE102016208196B4
公开(公告)日：2019-08-29
申请号：DE102016208196
申请日：2016-05-12
申请人： FRAUNHOFER GES FORSCHUNG
发明人： KORDASS RICHARD , DANI INES
IPC分类号： B22F3/105 , B29C64/141 , B33Y10/00
摘要： Verfahren zur generativen Herstellung von dreidimensionalen Verbundbauteilen, bei demein ungebundener pulverförmiger Basiswerkstoff schichtweise auf eine absenkbare Bauplattform (1) aufgebracht und ein lokal definiertes Verschmelzen oder Versintern des ungebundenen pulverförmigen Basiswerkstoffs durch einen Energieeintrag, der mit einem auslenkbaren Energiestrahl erreicht wird, erfolgt, undungebundener pulverförmiger Basiswerkstoff lokal definiert und selektiv aus mindestens einem vorgegebenen Bereich (4) entfernt undder/die Bereich(e) (4) mit mindestens einem weiteren Werkstoff, der sich vom Basiswerkstoff unterscheidet, in Form einer Suspension oder Schmelze gefüllt und anschließend daraneine Trocknung, ein Verschmelzen, ein Versintern und/oder ein Verfestigen des/der weiteren Werkstoffe(s) durcheine Erwärmung des mit dem ungebundenen pulverförmigen Basiswerkstoff gebildeten Pulverbetts, durch Bestrahlung mit einem weiteren Energiestrahl, einem NIR- oder UV-Strahler oder eine Atmosphärendruckplasmaquelle erreicht wird oderein weiterer Energiestrahl auf eine Stirnseite eines aus einem weiteren Werkstoff gebildeten Drahts oder Stabs gerichtet und in folge Absorption ein Abschmelzen von der Stirnseite erfolgt und der geschmolzene Werkstoff in einen von ungebundenem Basiswerkstoff befreiten Bereich (4) hinein tropft.

15. 发明专利

DE102006042328B4 Verfahren zur Ausbildung dünner Schichten auf Substratoberflächen 未知
公开(公告)号：DE102006042328B4
公开(公告)日：2012-07-05
申请号：DE102006042328
申请日：2006-09-01
申请人： FRAUNHOFER GES FORSCHUNG
发明人： DRESLER BIRTE , HOPFE VOLKMAR , DANI INES
IPC分类号： C23C16/48 , C23C16/52
摘要： Verfahren zur Ausbildung dünner Schichten auf Substratoberflächen, bei dem mindestens ein gasförmigeäche in einen Reaktionskammerbereich zugeführt wird; im Reaktionskammerbereich (11) eine Plasmaquelle (2) so angeordnet und betrieben wird, dass die Ausbildung einer dünnen Schicht ausschließlich in Folge photolytischer Aktivierung von Atomen und/oder Molekülen des Precursors/der Precursoren durch von der Plasmaquelle (2) emittierte elektromagnetische Strahlung erreicht, dabei das Plasma den/die Precursor(en) und die Substratoberfläche nicht unmittelbar beeinflusst und dabei die Ausbildung der Schicht bei Atmosphärendruck durchgeführt wird; wobei ein Volumenstrom und ein Druck für zugeführtes Plasmagas gewählt werden, die für die Emission elektromagnetischer Strahlung ausreichen aber verhindert, dass Plasma in einen Bereich der Reaktionskammer (11) gelangt, in dem Precursor für die Ausbildung dünner Schichten vorhanden ist und die elektromagnetische Strahlung unter Verzicht auf ein dazwischen angeordnetes Fenster emittiert wird.

16. 发明专利

DE102006042327B4 未知
公开(公告)号：DE102006042327B4
公开(公告)日：2009-10-22
申请号：DE102006042327
申请日：2006-09-01
申请人： FRAUNHOFER GES FORSCHUNG
发明人： DRESLER BIRTE , HOPFE VOLKMAR , DANI INES , ROSINA MILAN
IPC分类号： H01L21/318 , C23C16/34 , C23C16/48 , C23C16/54

17. 发明专利

AT390626T 未知
公开(公告)号：AT390626T
公开(公告)日：2008-04-15
申请号：AT05755490
申请日：2005-05-27
申请人： FRAUNHOFER GES FORSCHUNG
发明人： DANI INES , GRAEHLERT WULF , HOPFE VOLKMAR , MAEDER GERRIT
IPC分类号： G01N21/35 , G01N21/15 , G01N21/59 , G01N21/85
摘要： The invention relates to a device and a method for the optical detection of substances contained in exhaust gases of chemical processes, wherein exhaust gases are conducted all the way through a channel element that forms an optical measuring section; at the channel element there are two flanges, closed off to the ambient area, and at least one window element through which electromagnetic radiation for the optical detection can be directed from a radiation source to a optical detector through the channel element; a purge gas is fed through the flanges into the channel element, whereby with a purge gas led into one of the flanges a closed laminar purge gas flow is to be formed in the bottom area of the interior of the channel element.

18. 发明专利

DE102019206539A1 Vorrichtung zum dreidimensionalen Ab- oder Verlegen von mit einer Ummantelung versehenen Filamenten 未知
公开(公告)号：DE102019206539A1
公开(公告)日：2020-11-12
申请号：DE102019206539
申请日：2019-05-07
申请人： FRAUNHOFER GES FORSCHUNG
发明人： LÖFFLER DAVID , DANI INES , MELTKE ROBERT , KNOBLOCH MARCUS
IPC分类号： B29C64/209 , B33Y30/00
摘要： Bei der Vorrichtung zum dreidimensionalen Ab- oder Verlegen von mit einer Ummantelung versehenen Filamenten sind ein Düsenkopf (1) mit mindestens einer Zuführeinheit für mindestens ein Filament und mindestens eine Kunststoffzuführeinheit an einem in mindestens drei Freiheitsgraden bewegbaren Manipulator befestigt. Im Düsenkopf (1) sind mindestens eine Durchführung (2) für das mindestens eine Filament, durch die das mindestens eine Filament in Richtung auf eine Oberfläche eines Bauteils oder einer Plattform förderbar ist, und mindestens eine Düse (3) ausgebildet, die so ausgebildet und angeordnet ist, dass plastisch verformbarer Kunststoff, mit dem die Ummantelung des/der Filamente(s) ausgebildet wird, das/die Filament(e) umspritzt, vorhanden sind. Dabei ist die Düse (3) mit der Kunststoffzuführeinheit verbunden.

19. 发明专利

DE102005040596B4 未知
公开(公告)号：DE102005040596B4
公开(公告)日：2009-02-12
申请号：DE102005040596
申请日：2005-08-16
申请人： FRAUNHOFER GES FORSCHUNG , CENTROTHERM PHOTOVOLTAICS AG
发明人： HOPFE VOLKMAR , DANI INES , ROSINA MILAN , HEINTZE MORITZ , MOELLER RAINER , WANKA HARALD , LOPEZ ELENA
IPC分类号： H01L21/3065
摘要： The invention relates to a method for the one-sided removal of a doped surface layer on rear sides of crystalline silicon solar wafers. In accordance with the object set, doped surface layers should be able to be removed from rear sides of such solar wafers in a cost-effective manner and with a handling which is gentle on the substrate. In addition, the front side should not be modified. In accordance with the invention, an etching gas is directed onto the rear side surface of silicon solar wafers with a plasma atmospheric pressure.

20. 发明专利

DE102006042329B4 未知
公开(公告)号：DE102006042329B4
公开(公告)日：2008-08-21
申请号：DE102006042329
申请日：2006-09-01
申请人： FRAUNHOFER GES FORSCHUNG
发明人： HOPFE VOLKMAR , DANI INES
IPC分类号： H01L21/311

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式