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11. 发明授权

KR101322133B1 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 이를 이용한 임프린트리소그래피 방법 有权
标题翻译：用于印刷图像的印记和使用其的印刷方法
公开(公告)号：KR101322133B1
公开(公告)日：2013-10-25
申请号：KR1020060116764
申请日：2006-11-24
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 김병욱 , 유재원 , 신승협 , 이기만 , 송준용 , 이기범 , 이원영 , 이성현 , 곽은진 , 이명수 , 김진욱 , 남연희
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 임프린트 리소그래피용 몰드 및 이를 이용한 임프린트 리소그래피 방법에 관한 것으로 특히, 임프린트 리소그라피용 스탬프(Stamp)에 있어서, 패턴형성을 위한 요철을 일면에 형성하고 있는 고분자 수지 몰드, 및 상기 고분자 수지 몰드 일면의 반대 면에 부착되고, 광 투과성과 전도성을 가지는 배면 지지체를 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 이를 이용한 임프린트 리소그래피 방법에 관한 것이다. 즉, 고분자 수지인 스탬프를 이용한 성형물 제조 공정인 임프린트 리소그래피에서, 발생되는 정전기로 인하여 발생할 수 있는 이물질의 점착 및 하부 패턴 훼손을 방지할 수 있는 방법에 관한 것으로 이에 따르면, 스탬프를 이용하여 패턴을 형성하는데 있어서, 패턴형상이 있는 고분자 수지 몰드 이면에 부착되는 배면 지지체의 소재로 광 투과율이 높고, 전기전도도가 높은 소재를 사용함으로써, 정전기의 발생을 억제하여, 기판에서 양호한 품질의 패턴을 제공할 수 있다.
임프린트 리소그래피, 정전기, 배면 지지체

12. 发明公开

KR1020090107336A 잉크 조성물 有权
标题翻译：墨水组合物
公开(公告)号：KR1020090107336A
公开(公告)日：2009-10-13
申请号：KR1020080032791
申请日：2008-04-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 김병후 , 신승협 , 송준용 , 이기범 , 이명수 , 김진욱
IPC分类号： C09D11/03 , C09D11/10 , H01L21/02
CPC分类号： C09D11/033 , C09D11/03 , H01L21/02
摘要： 본발명은잉크조성물에관한것으로, 특히실리콘고분자를사용하는임프린트리소그래피및 롤프린트를이용한패턴형성에적용되며, 실리콘고분자의팽윤현상을억제시킴과동시에잉크조성물의증발속도를늦추며, 끈끈한택성을가지는젤 상태를유지시켜실리콘고분자의대기시간개선및 사용빈도횟수를증가시킬수 있으며, 또한패턴전사율을높여서수율개선및 공정의효율성을향상시킬수 있는임프린트리소그래피및 롤프린트용잉크조성물에관한것이다.
摘要翻译：目的：提供油墨组合物以保持具有粘性粘性的凝胶状态，延迟蒸发速率，并改善硅聚合物的待机时间。构成：油墨组合物用于压印光刻工艺和辊印工艺。压印光刻工艺通过使油墨组合物与具有图案的硅聚合物接触而在基材上转印图案。油墨组合物包括5〜45重量份的聚合物树脂，5〜45重量份的增粘剂和50〜90重量份的有机溶剂。

13. 发明公开

KR1020100051451A 잉크 조성물 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법 有权
标题翻译：油墨组合物及使用其制造液晶显示装置的方法
公开(公告)号：KR1020100051451A
公开(公告)日：2010-05-17
申请号：KR1020080110624
申请日：2008-11-07
申请人： 엘지디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김성희 , 김병걸 , 김병욱 , 이기범 , 김병후 , 신승협 , 송준용 , 이명수 , 류순성 , 김진욱
IPC分类号： C09D11/02 , G02B5/20 , G02F1/133
CPC分类号： C09D11/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C09D11/033 , G03F7/0002
摘要： PURPOSE: An ink composition is provided to improve the precision of a pattern, and to maintain the line width and line pitch of the pattern by using a polymer resin and an additive capable of enduring the high temperature. CONSTITUTION: An ink composition contains 5~45 parts of polymer resin by weight, 5~45 parts of additive by weight for maintaining the thermal stability, and 50~90 parts of organic solvent. The ink composition is capable of enduring the high temperature of 90~250 deg C. The polymer resin is selected from the group consisting of a novolak resin, an acrylic resin, and their compound. The ink composition also contains 0.01~3 parts of surfactant to prevent a smudge and a hold of the ink composition at a poly silicon.
摘要翻译：目的：提供油墨组合物以提高图案的精度，并且通过使用聚合物树脂和能够耐受高温的添加剂来维持图案的线宽和线间距。构成：油墨组合物含有5〜45重量份的聚合物树脂，5〜45重量份的添加剂用于保持热稳定性，和50〜90份有机溶剂。油墨组合物能够耐受90〜250℃的高温。聚合物树脂选自酚醛清漆树脂，丙烯酸树脂及其化合物。油墨组合物还含有0.01〜3份表面活性剂，以防止油墨组合物在多晶硅上的污迹和滞留。

14. 发明公开

KR1020080033676A 임프린트 리소그래피용 수지몰드 및 이의 제조방법 有权
标题翻译：用于印刷胶版的树脂模具及其制备方法
公开(公告)号：KR1020080033676A
公开(公告)日：2008-04-17
申请号：KR1020060099632
申请日：2006-10-13
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 유재원 , 이원영 , 이기만 , 이성현 , 이기범 , 신승협 , 송준용 , 곽은진 , 이명수 , 김병욱 , 김진욱
IPC分类号： G03F7/00 , H01L21/027
CPC分类号： B41D7/00 , B29C33/3842 , B29C35/0266 , G03F7/0002
摘要： A resin mold for imprint lithography and a manufacturing method thereof are provided to effect deformation prevention and dimensional stabilization of the resin mold even without using a rear supporter. A resin mold for imprint lithography includes: a resin mold(102a) in which an unevenness for pattern formation is formed on the one surface thereof; and a resin mold reinforcing layer(103) which is formed of a material having higher strength than the resin mold, is inserted into the resin mold in an up-down direction of the resin mold or on the upper part of the resin mold, and has at least one through part. The resin mold for imprint lithography further includes a rear supporter(104) to be attached to the other surface of the resin mold.
摘要翻译：提供了用于压印光刻的树脂模具及其制造方法，以便即使不使用后支撑件来实现树脂模具的变形防止和尺寸稳定性。用于压印光刻的树脂模具包括：在其一个表面上形成图案形成不均匀的树脂模具（102a）; 并且在树脂模具的上下方向或树脂模具的上部将具有比树脂模具强度高的材料形成的树脂模具加强层（103）插入到树脂模具中，以及至少有一部分。用于压印光刻的树脂模具还包括附着到树脂模具的另一表面的后支撑件（104）。

15. 发明授权

KR101473877B1 잉크 조성물 有权
标题翻译：墨水组成
公开(公告)号：KR101473877B1
公开(公告)日：2014-12-26
申请号：KR1020070129813
申请日：2007-12-13
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 김병후 , 신승협 , 송준용 , 이기범 , 이명수 , 김진욱
IPC分类号： C09D11/02 , B29C59/02
摘要： 본발명은잉크조성물에관한것으로, 특히임프린트리소그래피및 롤프린트를이용한패턴형성에적용되어패턴지지체의역할과더불어잉크조성물로인한팽윤현상의발생을최소화하여패턴형성의정밀도를높일수 있고, 또한패턴전사율을높여서수율개선및 공정의효율성을향상시킬수 있는임프린트리소그래피및 롤프린트용잉크조성물에관한것이다.

16. 发明授权

KR101367044B1 임프린트 리소그래피용 수지몰드 및 이의 제조방법 有权
标题翻译：用于印刷胶版的树脂模具及其制备方法
公开(公告)号：KR101367044B1
公开(公告)日：2014-02-25
申请号：KR1020060099632
申请日：2006-10-13
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 유재원 , 이원영 , 이기만 , 이성현 , 이기범 , 신승협 , 송준용 , 곽은진 , 이명수 , 김병욱 , 김진욱
IPC分类号： G03F7/00 , H01L21/027
摘要： 본 발명은 임프린트 리소그래피용 수지몰드 및 이의 제조방법에 관한 것으로 특히, 패턴형성을 위한 요철을 일면에 형성하고 있는 수지몰드 및, 상기 수지몰드보다 높은 강도를 가지는 재질로 이루어지고, 상기 수지몰드의 상하방향을 기준으로 그 사이 또는 상부에 삽입되어지며, 적어도 하나의 관통부를 가지는 수지몰드 보강층을 포함하는 것을 특징으로 하는 임프린트 리소그래피용 수지몰드 및 이의 제조방법에 관한 것으로 이를 통하여 강도가 보강된 임프린트 리소그래피용 수지몰드를 적용함으로써 고분자 수지몰드의 휨 내지 처짐 등의 변형방지 및 치수안정화를 높이는 효과가 있고, 이에 따라 패턴형성의 정밀도를 높일 수 있고, 수지몰드의 내구성을 향상시켜, 생산성 및 유지비용을 절감할 수 있는 효과가 있다.
임프린트 리소그래피, 보강층, 수지몰드

17. 发明公开

KR1020090062510A 잉크 조성물 有权
标题翻译：墨水组合物
公开(公告)号：KR1020090062510A
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：KR1020070129813
申请日：2007-12-13
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 김병후 , 신승협 , 송준용 , 이기범 , 이명수 , 김진욱
IPC分类号： C09D11/02 , B29C59/02
CPC分类号： C09D11/02 , C09D11/03
摘要： An ink composition is provided to act on pattern supporter by being applied to imprint lithography and pattern formation, and to increase precision of pattern formation by minimizing swelling phenomenon. An ink composition comprises (a) polymer resin 5-45 parts by weight, (b) tackifier 5-45 parts by weight and (c) organic solvent 50-90 parts by weight. The ink composite is used for imprint lithography or pattern formation using roll print. The polymer resin is selected from the group consisting of novolac resin, acrylic resin and their mixture. The ink composition further includes silicon-based surfactant or fluorine-based surfactant.
摘要翻译：提供油墨组合物作用于图案支持体上，通过施加压印光刻和图案形成，并通过最小化溶胀现象来提高图案形成的精度。油墨组合物包含（a）5-45重量份的聚合物树脂，（b）5-45重量份的增粘剂和（c）50-90重量份的有机溶剂。油墨复合材料用于压印光刻或使用辊印的图案形成。聚合物树脂选自酚醛清漆树脂，丙烯酸树脂及其混合物。油墨组合物还包括硅基表面活性剂或氟基表面活性剂。

18. 发明公开

KR1020080046986A 임프린트 리소그래피용 스탬프 및 이를 이용한 임프린트리소그래피 방법 有权
标题翻译：用于印刷图像的印记和使用其的印刷方法
公开(公告)号：KR1020080046986A
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：KR1020060116764
申请日：2006-11-24
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 김병욱 , 유재원 , 신승협 , 이기만 , 송준용 , 이기범 , 이원영 , 이성현 , 곽은진 , 이명수 , 김진욱 , 남연희
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0002 , B41K3/02 , B81C1/0046 , G03F7/70916
摘要： A stamp for imprint lithography and imprint lithography method using the same are provided to avoid attachment of particles and obtain uniform patterns with generation of static electricity suppressed, since the material of a back support with high light transmissivity and conductivity is coated on a backside of a polymer resin mold having a pattern. A stamp for imprint lithography comprises a polymer resin mold(102b), a back support(103), and a discharge plate or ground wire. The polymer resin mold has one uneven side to form a pattern. The back support having desired light transmissivity and conductivity is attached onto the other side of the uneven side of the polymer resin mold. The discharge plate or ground wire is connected to the back support.
摘要翻译：提供用于压印光刻的印模和使用其的压印光刻方法，以避免颗粒的附着，并获得抑制静电产生的均匀图案，因为具有高透光率和导电性的背部支撑体的材料涂覆在具有图案的聚合物树脂模具。用于压印光刻的印模包括聚合物树脂模具（102b），背部支撑件（103）和放电板或接地线。聚合物树脂模具具有一个不均匀的侧面以形成图案。具有期望的透光率和导电性的背部支撑体附着在聚合物树脂模具的不平坦侧的另一侧。放电板或接地线连接到后支撑。

19. 发明公开

KR1020110018030A 잉크조성물 无效
标题翻译：墨水组合物
公开(公告)号：KR1020110018030A
公开(公告)日：2011-02-23
申请号：KR1020090075621
申请日：2009-08-17
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병후 , 이명수 , 신승협 , 송준용
IPC分类号： C09D11/101
CPC分类号： C09D11/101 , B41M5/00 , C08K5/54 , C09D11/03 , C09D11/033
摘要： PURPOSE: An ink composition is provided to protect micro-patterns by suppressing the attack of acids in pattern formation of a substrate and to increase the precision of thin films and micro-patterns and to improve yield and process effectiveness. CONSTITUTION: An ink composition comprises (a) 5-45 weight% of a polymer resin, (b) 5-45 weight% of tackifier, and (c) 50-89.99 weight% of organic solvent, and (d) 0.01-10 weight% of silane coupling agents as an acid-resistant reinforcing agent. The polymer resin is a novolac resin or acrylic resin with 2,000-100,000 of average molecular weight. The ink composition further includes surfactants, adhesive sensitizers, or visible compounds.
摘要翻译：目的：提供一种油墨组合物，通过抑制底物图案形成中的酸的侵蚀来保护微图案，并提高薄膜和微图案的精度并提高产量和工艺有效性。构成：油墨组合物包含（a）5-45重量％的聚合物树脂，（b）5-45重量％的增粘剂和（c）50-89.99重量％的有机溶剂，和（d）0.01-10 重量％的硅烷偶联剂作为耐酸增强剂。聚合物树脂是具有2,000-100,000平均分子量的酚醛清漆树脂或丙烯酸树脂。油墨组合物还包括表面活性剂，粘合敏化剂或可见化合物。

20. 发明公开

KR1020100088285A 롤 프린트 공법에 적용되는 유기절연막 형성용 잉크조성물 有权
标题翻译：用于在滚筒印刷方法中形成有机绝缘体的墨水组合物
公开(公告)号：KR1020100088285A
公开(公告)日：2010-08-09
申请号：KR1020090007404
申请日：2009-01-30
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병후 , 신승협 , 송준용 , 이기범 , 이명수
IPC分类号： C09D11/10 , C09D11/03 , H01B3/30
CPC分类号： C09D11/02 , B32B2457/00 , C09D11/101 , H01B3/44
摘要： PURPOSE: An ink composition for forming an organic insulator is provided to improve the permeability, the drug resistance, and the adhesive force of an organic insulator using the ink composition, and to use the composition for thermal curing or photo-curing. CONSTITUTION: An ink composition for forming an organic insulator contains the following: 1~10 parts of acrylic copolymer resin by weight; 5~55 parts of acrylic monomer by weight; 0.9999~40 parts of cross linkable monomer by weight with more than two double bonds; and 5~93 parts of organic solvent by weight. The acrylic copolymer resin has the polystyrene conversion average molecular weight of 2,000~50,000.
摘要翻译：目的：提供一种用于形成有机绝缘体的油墨组合物，以提高使用该油墨组合物的有机绝缘体的渗透性，耐药性和粘附力，并使用该组合物进行热固化或光固化。构成：用于形成有机绝缘体的油墨组合物包含以下重量份的1〜10份丙烯酸共聚物树脂; 5〜55份丙烯酸单体重量; 0.9999〜40份可交联单体，重量多于两个双键; 和5〜93份重量的有机溶剂。丙烯酸共聚物树脂的聚苯乙烯换算平均分子量为2,000〜50,000。

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