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11. 发明授权

KR101352509B1 신너 조성물 有权
标题翻译：薄膜组成
公开(公告)号：KR101352509B1
公开(公告)日：2014-01-20
申请号：KR1020120048431
申请日：2012-05-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 신성건 , 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 정세환 , 장두영 , 권오환 , 박선주
IPC分类号： G03F7/42 , C11D3/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/426 , G02B5/3016
摘要： 본 발명은 신너 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 반도체 제조에 사용되는 웨이퍼의 가장자리와 후면 부위에 사용되어 불필요하게 부착되어진 포토레지스트를 단시간에 효율적으로 제거할 수 있을 뿐만 아니라, 포토레지스트 RRC(Reisist Reduce Coating) 성능을 좋게 하여 포토레지스트 사용을 줄일 수 있으며, 인체에 대한 안정성이 높으며, 계면의 단차를 줄여 다양한 공정에 적용 가능하고, 반도체 제조공정을 간편화하여 경제적으로 생산수율을 향상시킬 수 있는 신너 조성물에 관한 것이다.

12. 发明公开

KR1020130125029A 신너 조성물 有权
标题翻译：薄膜组成
公开(公告)号：KR1020130125029A
公开(公告)日：2013-11-18
申请号：KR1020120048431
申请日：2012-05-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 신성건 , 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 정세환 , 장두영 , 권오환 , 박선주
IPC分类号： G03F7/42 , C11D3/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/426 , G02B5/3016 , C11D3/20 , G03F7/42 , H01L21/0274
摘要： The present invention relates to a thinner composition and, more specifically, to a thinner composition which effectively removes photoresist attached unnecessarily to the edge and rear part of a wafer used in semiconductor manufacturing in a short time, reduces the use of the photoresist by raising photoresist resist reduce coating (RRC) performance, has high safety to the human body, is applied to various processes by reducing the step of an interface and increases the production yield rate by simplifying a semiconductor manufacturing process.
摘要翻译：本发明涉及一种较薄的组合物，更具体地说，涉及一种较薄的组合物，其可以有效地去除在短时间内对半导体制造中使用的晶片的边缘和后部不必要地附着的光致抗蚀剂，通过提高光致抗蚀剂来减少光致抗蚀剂的使用抵抗降低涂层（RRC）性能，对人体具有高安全性，通过减少界面的步骤并通过简化半导体制造工艺提高生产成品率来应用于各种工艺。

13. 发明公开

KR1020110041052A 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법 无效
标题翻译：清洁组合物和使用该清洁组合物的清洁方法
公开(公告)号：KR1020110041052A
公开(公告)日：2011-04-21
申请号：KR1020090098057
申请日：2009-10-15
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： C11D7/60
CPC分类号： C11D7/00 , C11D7/06 , C11D7/10 , C11D7/34 , C11D11/0047
摘要： PURPOSE: A cleaning composition is provided to prevent the corrosion of a metal film while having excellent cleansing effect, flammability, and storage property, and to replace alcohol, KOH, TMAH dilutant chemical substances. CONSTITUTION: A cleaning composition comprises 1-10 weight% of quaternary ammonium hydroxide, 0.01-1 weight% of alkali metal or earth metal hydroxide, 0.01-20 weight% of phosphate ammonium salt, 0.01-5 weight% of mercapto compound, and the remaining amount of deionized water.
摘要翻译：目的：提供清洁组合物，以防止金属膜的腐蚀，同时具有优异的清洁效果，易燃性和储存性能，并可替代醇，KOH，TMAH稀释剂。构成：清洁组合物包含1-10重量％的季铵氢氧化物，0.01-1重量％的碱金属或土壤金属氢氧化物，0.01-20重量％的磷酸铵盐，0.01-5重量％的巯基化合物，和剩余量的去离子水。

14. 发明公开

KR1020100132586A 유기절연막 박리액의 제조방법 有权
标题翻译：用于剥离有机介质层的液体组合物的制备方法
公开(公告)号：KR1020100132586A
公开(公告)日：2010-12-20
申请号：KR1020090051254
申请日：2009-06-10
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/3105 , C11D1/72 , G03F7/004 , G03F7/32 , G03F7/11 , G03F7/075
CPC分类号： G03F7/422 , C11D1/72 , H01L21/31053
摘要： PURPOSE: A method for preparing a liquid composition for stripping an organic dielectric layer is provided to prevent damage of metal wiring and color resist located at the lower part of the organic dielectric layer and to remove a negative type organic dielectric layer for TFT-LCD in a short time. CONSTITUTION: A method for preparing a liquid composition comprises the steps of: stirring 3-15 parts by weight of tetramethyl ammonium hydroxide or its salt, 10-60 parts by weight of glycol ether, and 9-45 parts by weight of water at 90-120 °C for 2-72 hours; and adding 20-40 parts by weight of water-soluble amine to the mixture cooled to a room temperature. The pressure within mixer is maintained to 1.5-5 atm.
摘要翻译：目的：提供一种制备用于剥离有机电介质层的液体组合物的方法，以防止位于有机介电层下部的金属布线和着色抗蚀剂的损坏，并除去用于TFT-LCD的负型有机介电层很短的时间。构成：制备液体组合物的方法包括以下步骤：搅拌3-15重量份的四甲基氢氧化铵或其盐，10-60重量份的乙二醇醚和9-45重量份的水，在90℃ -120℃2-72小时; 并向冷却至室温的混合物中加入20-40重量份的水溶性胺。混合器内的压力保持在1.5-5atm。

15. 发明公开

KR1020100024225A 플라즈마 디스플레이 패널의 유전층 및 격벽 제거제 조성물 无效
标题翻译：用于去除等离子显示面板的电介质层和栅栏的组合物
公开(公告)号：KR1020100024225A
公开(公告)日：2010-03-05
申请号：KR1020080082982
申请日：2008-08-25
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 정세환 , 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： G03F7/42 , G03F7/32
CPC分类号： G03F7/42 , G03F7/063 , G03F7/30 , G03F7/32 , G03F7/34 , H01J11/36 , H01J11/38 , H01J11/40
摘要： PURPOSE: A partition wall remover composition for a dielectric layer of a plasma display panel is provided to reduce damage to an electrode layer in the lower side of the dielectric layer and to improve perviousness and removal efficiency. CONSTITUTION: A partition wall remover composition for a dielectric layer of a plasma display panel contains 0.05~10wt% of an inorganic salt compound, 3~30wt% of an alkylene glycol class or a derivative, 3~30wt% of ethyleneglycol monoalkyl ethers or their derivative, 0.5~10wt% of organic amine with a boiling point over 160 deg C, and the remaining amount of water. The inorganic salt compound is selected from a group consisting of potassium acetate, potassium nitrate, potassium carbonate, potassium pyrophosphate, potassium oleate, potassium benzoate, potassium laurate, potassium tert-butoxide, potassium sulfate, potassium sorbate, potassium aminobenzoate, potassium disulfate, potassium cyanate, potassium sulfide, sodium xylene sulfonate, and naOH.
摘要翻译：目的：提供用于等离子体显示面板的电介质层的分隔壁去除剂组合物，以减少对电介质层下侧的电极层的损伤并改善透光性和去除效率。构成：用于等离子体显示面板的电介质层的隔壁除去剂组合物含有0.05〜10重量％的无机盐化合物，3〜30重量％的亚烷基二醇类或衍生物，3〜30重量％的乙二醇单烷基醚或它们的衍生物，沸点为160℃以上的有机胺的0.5〜10重量％，剩余量的水。无机盐化合物选自乙酸钾，硝酸钾，碳酸钾，焦磷酸钾，油酸钾，苯甲酸钾，月桂酸钾，叔丁醇钾，硫酸钾，山梨酸钾，氨基苯甲酸钾，二硫酸钾，钾氰酸盐，硫化钾，二甲苯磺酸钠和naOH。

16. 发明授权

KR101706987B1 유기절연막 박리액의 제조방법 有权
标题翻译：用于剥离有机电介质层的液体组合物的制备方法
公开(公告)号：KR101706987B1
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：KR1020090051254
申请日：2009-06-10
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/3105 , C11D1/72 , G03F7/004 , G03F7/32 , G03F7/11 , G03F7/075
摘要： 본발명은유기절연막박리액의제조방법에관한것으로, 특히 a) 환류장치가구비된가압조건의교반기내에서테트라메틸암모늄하이드록사이드(TMAH) 또는이의염, 글리콜에테르및 물을고온에서교반하는단계; b) 상기 a)단계의교반후 실온으로냉각된교반물에수용성아민을첨가하는단계;를포함하는것을특징으로하는유기절연막박리액의제조방법및 이에의하여제조된유기절연막박리액에관한것이다. 본발명에의하여제조된유기절연막박리액은유기절연막의하부에위치하고있는금속배선및 칼라레지스트는손상시키지않으면서유기절연막, 특히티에프티엘시디(TFT-LCD)용네가티브형유기절연막만을짧은시간내에용이하게제거할수 있다.
摘要翻译：目的：提供一种制备用于剥离有机介电层的液体组合物的方法，以防止位于有机介电层下部的金属布线和着色抗蚀剂的损坏，并除去用于TFT-LCD的负型有机介电层很短的时间。构成：制备液体组合物的方法包括以下步骤：搅拌3-15重量份的四甲基氢氧化铵或其盐，10-60重量份的乙二醇醚和9-45重量份的水，在90℃ -120℃2-72小时; 并向冷却至室温的混合物中加入20-40重量份的水溶性胺。混合器内的压力保持在1.5-5atm。

17. 发明授权

KR101696390B1 ＴＦＴ-ＬＣＤ 또는 반도체 소자용 세정제 조성물 有权
标题翻译： - 用于TFT-LCD或半导体显示器的清洁组合物
公开(公告)号：KR101696390B1
公开(公告)日：2017-01-13
申请号：KR1020100054033
申请日：2010-06-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환 , 김영건 , 김민아
IPC分类号： C11D7/32 , C11D7/34 , H01L21/304
摘要： 본발명은 TFT-LCD 또는반도체소자용세정제조성물에관한것으로, 보다상세하게는테트라메틸암모늄하이드록사이드 10-15 중량부, 모노에탄올아민 10-15 중량부, 및잔부의물을포함하여, 모든막에대한세정효과가우수하고, 금속막질에대한부식방지와작업성이향상되고, 안정성및 환경친화성을확보할수 있는 TFT-LCD 또는반도체소자용세정제조성물에관한것이다.
摘要翻译：目的：提供TFT-LCD或半导体清洁组合物，以提高加工性，对金属膜的防腐蚀性能和对所有膜的清洁效果，并且满足稳定性和环保要求。构成：用于TFT-LCD或半导体的清洁组合物包含10-15重量份氢氧化四甲基铵，10-15重量份单乙醇胺和水的残余物。基于总计100份重量的四甲基氢氧化铵，单乙醇胺和水，清洁组合物另外包含0.01-0.1巯基化合物。巯基化合物是选自巯基甲基咪唑，巯基甲基咪唑，硫代甘油和硫羟乳酸中的一种或多种。

18. 发明公开

KR1020110134185A ＴＦＴ-ＬＣＤ 또는 반도체 소자용 세정제 조성물 有权
标题翻译：一种用于TFT-LCD或半导体显示器的清洁组合物
公开(公告)号：KR1020110134185A
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：KR1020100054033
申请日：2010-06-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환 , 김영건 , 김민아
IPC分类号： C11D7/32 , C11D7/34 , H01L21/304
CPC分类号： C11D7/34 , C11D7/00 , C11D7/32 , H01L21/304
摘要： PURPOSE: A cleaning composition for TFT-LCD or semiconductor is provided to improve workability, anti-corrosion property to the metal membrane and cleaning effect to the all membrane, and satisfy stability and environmental-friendly. CONSTITUTION: A cleaning composition for TFT-LCD or semiconductor comprises 10-15 parts by weight tetramethylammonium hydroxide, 10-15 parts by weight monoethanolamine, and the residue of water. A cleaning composition additionally comprises 0.01-0.1 mercapto based compound on the basis of the total 100 parts by weight of the tetramethylammonium hydroxide, monoethanolamine and water. The mercapto based compound is one or more selected from the group consisting of mercaptomethyl imidazole, mercaptomethyl imidazole, thioglycerol, and thiolactic acid.
摘要翻译：目的：提供TFT-LCD或半导体清洁组合物，以提高加工性，对金属膜的防腐蚀性能和对所有膜的清洁效果，并且满足稳定性和环保要求。构成：用于TFT-LCD或半导体的清洁组合物包含10-15重量份氢氧化四甲基铵，10-15重量份单乙醇胺和水的残余物。基于总计100份重量的四甲基氢氧化铵，单乙醇胺和水，清洁组合物另外包含0.01-0.1巯基化合物。巯基化合物是选自巯基甲基咪唑，巯基甲基咪唑，硫代甘油和硫羟乳酸中的一种或多种。

19. 发明公开

KR1020110095814A 증착 재료 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정 방법 审中-实审
标题翻译：用于沉积物质的洗涤液体组合物和使用其的洗涤方法
公开(公告)号：KR1020110095814A
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：KR1020110011876
申请日：2011-02-10
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 신성건 , 정세환 , 장두영 , 박선주 , 권오환
IPC分类号： C11D7/32 , H05B33/10 , C11D11/00
CPC分类号： C11D7/32 , C11D11/0047 , C11D11/0094 , H05B33/10
摘要： PURPOSE: A cleaning solution composition for deposition materials is provided to shorten the time of a production process and to save production costs by rapidly removing the deposition materials attached to the production apparatus of an electric optical device. CONSTITUTION: A cleaning solution composition for deposition materials comprises: 5-80 weight% of N-methyl-2-pyrrolidone; and 20-95 weight% of 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. A cleaning method comprises a step of removing the deposition materials attached to the production apparatus of an electric optical device using the cleaning solution composition for deposition materials.
摘要翻译：目的：提供用于沉积材料的清洁溶液组合物，以缩短生产过程的时间并通过快速去除附着在电光学装置的生产设备上的沉积材料来节省生产成本。构成：用于沉积材料的清洁溶液组合物包含：5-80重量％的N-甲基-2-吡咯烷酮; 和20-95重量％的1,3-二甲基-2-咪唑烷酮。清洁方法包括使用沉积材料的清洁溶液组合物除去附着到电光学装置的制造装置上的沉积材料的步骤。

20. 发明公开

KR1020150096126A 반도체 소자 세정용 조성물 审中-实审
标题翻译：用于清洁半导体器件的组合物
公开(公告)号：KR1020150096126A
公开(公告)日：2015-08-24
申请号：KR1020140017171
申请日：2014-02-14
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 권오환 , 신성건 , 김병욱 , 조태표 , 윤석일 , 한영규
IPC分类号： C11D7/06 , C11D7/26 , H01L21/306
摘要： 본 발명은 반도체 소자 세정용 조성물에 관한 것이다. 본 발명에 따른 반도체 소자 세정용 조성물은, 다양한 종류의 불순물에 대하여 우수한 세정력을 나타낼 수 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于清洁半导体器件的组合物。该组合物包括季铵氢氧化物，有机酸，糖醇，氟化物和水。该组合物可以对各种杂质具有优异的清洁能力。

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