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    • 12. 发明公开
    • 광대역 서비스를 제공하는 무선통신 시스템에서 스케쥴링 방법 및 장치
    • 提供宽带宽度服务的无线通信系统中的调度方法和装置
    • KR1020160140217A
    • 2016-12-07
    • KR1020150076555
    • 2015-05-29
    • 삼성전자주식회사
    • 김영범곽용준여정호이주호
    • H04W72/12H04W72/04
    • H04W72/1289H04L1/1812H04L5/0057H04W28/20H04W72/04H04W72/042H04W72/0453H04W72/12
    • 본개시는 4G 시스템이후보다높은데이터전송률을지원하기위한 5G 통신시스템을 IoT 기술과융합하는통신기법및 그시스템에관한것이다. 본개시는 5G 통신기술및 IoT 관련기술을기반으로지능형서비스 (예를들어, 스마트홈, 스마트빌딩, 스마트시티, 스마트카 혹은커넥티드카, 헬스케어, 디지털교육, 소매업, 보안및 안전관련서비스등)에적용될수 있다. 본개시는광대역송수신을지원하는이동통신시스템에서기지국의데이터스케쥴링방법을제공함으로써, 무선자원의효율적인사용을지원하도록한다. 본개시의실시예에따른무선통신시스템에서단말의통신방법은, 광대역전송모드에상응하는제어정보를제 1 대역폭을통해수신하는단계, 및상기제어정보에기반하여, 상기제 1 대역폭에서제 2 대역폭만큼확장된대역폭을최대대역폭으로하는하향링크데이터를수신하는단계를포함할수 있다.
    • 本发明涉及一种用于与IoT技术相结合的用于支持比4G系统的数据传输速率更高的数据传输速率的5G通信系统的通信技术及其系统。 本发明可以应用于智能服务(例如,智能家居,智能建筑,智能城市,智能车或连接车,医疗保健,数字教育,零售业务,安全和安全相关服务等) 5G通信技术和IoT相关技术的基础。 本发明提供了支持宽带发送/接收的移动通信系统中的基站的数据调度方法,从而支持无线资源的有效利用。 根据本发明的实施例的无线通信系统中的终端的通信方法可以包括以下步骤:通过第一带宽接收对应于宽​​带传输模式的控制信息; 以及基于所述控制信息接收具有从所述第一带宽扩展到第二带宽的带宽的最大带宽的下行链路数据。
    • 14. 发明公开
    • 노광 방법 및 이를 이용한 패턴 형성 방법
    • 使用曝光方法形成图案的曝光方法和方法
    • KR1020140096750A
    • 2014-08-06
    • KR1020130009728
    • 2013-01-29
    • 삼성전자주식회사
    • 김인성박창민여정호
    • H01L21/027G03F7/20
    • H01L21/0274G03F7/2022G03F7/213
    • An exposing method comprises the steps of: radiating a first light having first energy to a first exposed region of a photoresist film through a first shot region of a mask; and radiating a second light having second energy to the first exposed region of the photoresist film through a second shot region of the mask. Thus, total energy required to expose the exposed region of the photoresist film is equally divided, and the divided energy is provided to a plurality of lights. Each light is radiated to a same exposed region through multiple shot regions of the mask. Therefore, an exposed region exposed by the total energy has an average shape of the multiple shot regions.
    • 曝光方法包括以下步骤:通过掩模的第一射出区域将具有第一能量的第一光照射到光致抗蚀剂膜的第一曝光区域; 以及通过所述掩模的第二射出区域将具有第二能量的第二光辐射到所述光致抗蚀剂膜的所述第一曝光区域。 因此,曝光光致抗蚀剂膜的曝光区域所需的总能量被等分,并且将分割的能量提供给多个光。 每个光通过掩模的多个射出区域辐射到相同的曝光区域。 因此,通过总能量曝光的曝光区域具有多个拍摄区域的平均形状。
    • 18. 发明公开
    • 동일 리티클을 사용하는 복수의 패턴 형성 방법
    • 使用相同标线的多种图案形成方法
    • KR1019970017951A
    • 1997-04-30
    • KR1019950031818
    • 1995-09-26
    • 삼성전자주식회사
    • 여기성여정호남정림
    • H01L21/027
    • 본 발명은 동일한 리티클을 사용하여 반도체기판상에 복수의 패턴을 형성하는 반도체장치의 제조방법에 관한 것으로서, 그 방법은 상기 반도체기판상에 층간절연막을 도포하는 공정과; 리터클을 사용하여 소정패턴의 제1감광막을 형성하는 공정과; 상기 소정패턴의 감광막패턴을 마스크로 사용하여 상기 층간절연막을 선택적으로 제거하여 콘택홀을 형성하는 공정과; 상기 콘택홀을 충진하면서 상기 층간절연막상에 패턴대상막을 도포하는 공정과; 상기 동일한 리티클을 사용하여 소정패턴의 제2감광막을 형성하는 공정과, 상기 소정패턴의 제2감광막패턴을 마스크로 사용하여 상기 패턴대상막을 선택적으로 제거하는 공정을 포함한다. 본 발명의 패턴형성방법에 의하면 동일한 리티클을 사용하여 복수의 패턴을 형성할 수 있기 때문에 많은 리티클을 사용할 필요가 없을 뿐만 아니라, 적층에 대한 층대층의 오정렬을 방지할 수 있다.