专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

11. 发明专利

TW524713B CVD排氣之處理回收方法及裝置失效
简体标题： CVD排气之处理回收方法及设备
公开(公告)号：TW524713B
公开(公告)日：2003-03-21
申请号：TW090115044
申请日：2001-06-21
申请人：日本酸素股份有限公司 , 大見忠弘
发明人：石原良夫 , 大見忠弘
IPC分类号： B01D
摘要：一種化學氣相沈積(CVD)排氣之處理回收方法及裝置，係將化學氣相沈積排氣中所含有之原料氣體或中間產物轉化反應成高揮發性的鹵化物，以防止排氣系統管路之附著、堆積、可將具有再利用價值的資源進行分離回收、以及減少保養維護。將化學氣相沈積排氣中所含有之原料氣體與中間產物進行分解處理或轉化反應處理，待一部份分解後，即進行氫鹵化矽氣體與氯化氫之分離回收。又，原料氣體及中間產物也可完全分解成氯化氫再進行回收。
简体摘要：一种化学气相沉积(CVD)排气之处理回收方法及设备，系将化学气相沉积排气中所含有之原料气体或中间产物转化反应成高挥发性的卤化物，以防止排气系统管路之附着、堆积、可将具有再利用价值的资源进行分离回收、以及减少保养维护。将化学气相沉积排气中所含有之原料气体与中间产物进行分解处理或转化反应处理，待一部份分解后，即进行氢卤化硅气体与氯化氢之分离回收。又，原料气体及中间产物也可完全分解成氯化氢再进行回收。

12. 发明专利

TW408030B 排氣處理方法及裝置有权
简体标题：排气处理方法及设备
公开(公告)号：TW408030B
公开(公告)日：2000-10-11
申请号：TW087120603
申请日：1998-12-11
申请人：大見忠弘 , 日本氧氣股份有限公司
发明人：大見忠弘 , 石原良夫 , 君島哲也 , 松本功
IPC分类号： B01D
CPC分类号： B01D53/8659
摘要：本發明係關於使從使用矽系氣體的CVD(化學氣相沈積)裝置所排出的排氣內所包含的原料氣體或是高沸點中間產物，與加熱至指定溫度的鎳等過渡金屬或是其矽化物接觸，藉此使其分解或是轉化為安定的鹵化物之後將排氣中的有害成份予以無害化處理的排氣處理方法及裝置。
简体摘要：本发明系关于使从使用硅系气体的CVD(化学气相沉积)设备所排出的排气内所包含的原料气体或是高沸点中间产物，与加热至指定温度的镍等过渡金属或是其硅化物接触，借此使其分解或是转化为安定的卤化物之后将排气中的有害成份予以无害化处理的排气处理方法及设备。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式