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11. 发明公开

KR1020010008882A 금속세선 제조장치 无效
标题翻译：用于制造金属细线的装置
公开(公告)号：KR1020010008882A
公开(公告)日：2001-02-05
申请号：KR1019990026922
申请日：1999-07-05
申请人： 주식회사제4기한국
发明人： 백태일
IPC分类号： B21C3/00
摘要： PURPOSE: A device for manufacturing a metal fine line is provided to manufacture metal fine lines of various diameters in large quantities during a short time by changing a molten metal of a rotational can into a fine line nozzle due to a centrifugal force. CONSTITUTION: A device for manufacturing a metal fine line is composed of a truck(20), a vacuum chamber(4), a crucible(2), a rotational can(5) and a gas injection ring(15). The truck(20) mounted movable by a travelling wheel(19) fixes a vacuum chamber(4) on upper portion and maintains vacuum by a vacuum pump. The vacuum chamber(4) controls an atmosphere temperature corresponding to a molten point of a metal by a heater(9) on an inside wall of the truck(20) and installs a crucible(2) inside by a prop. The crucible(2) manufactures a molten metal(3) by a calorific action of an induction coil(1) and exhausts to a lower portion. The rotational can(5) serves the molten metal(3) of the crucible(2) and exhausts the molten metal(3) via a fine line nozzle(5-1) using a centrifugal rotated by a drive axis(8) of a motor(11). The gas injection ring(15) establishes according to a periphery face of the rotational can(5) and injects non-active gas to cool the metal fine line(13) exhausted via the fine line nozzle(5-1).
摘要翻译：目的：提供一种用于制造金属细线的装置，用于通过将旋转罐的熔融金属通过离心力改变为细线喷嘴，在短时间内大量生产各种直径的金属细线。构成：用于制造金属细线的装置由卡车（20），真空室（4），坩埚（2），旋转罐（5）和气体注入环（15）组成。通过行驶轮（19）可移动的卡车（20）将真空室（4）固定在上部，并通过真空泵保持真空。真空室（4）通过卡车（20）的内壁上的加热器（9）来控制对应于金属熔点的气氛温度，并通过支架将坩埚（2）安装在里面。坩埚（2）通过感应线圈（1）的发热作用制造熔融金属（3）并排放到下部。旋转罐（5）用于坩埚（2）的熔融金属（3），并通过细线喷嘴（5-1）排出熔融金属（3），使用离心机由驱动轴（8）旋转离心电动机（11）。气体注入环（15）根据旋转罐（5）的周面形成，并且喷射非活性气体以冷却经由细线喷嘴（5-1）排出的金属细线（13）。

12. 发明公开

KR1019980047301A 가시광선 발광분석기를 구비한 플라즈마 침탄공정의 콘트롤 시스템 失效
标题翻译：用可见光发射分析仪控制等离子渗碳过程
公开(公告)号：KR1019980047301A
公开(公告)日：1998-09-15
申请号：KR1019960065777
申请日：1996-12-14
申请人： 볼보건설기계코리아 주식회사 , 주식회사제4기한국
发明人： 권광우 , 유인석 , 백태일
IPC分类号： C23C8/20
摘要： 본 발명은 실시간으로 플라즈마내의 탄화 수소 가스의 농도를 측정하여 기초 데이터로 확보된 탄화 수소의 양과 피처리물의 표면 탄소 농도 사이의 상관 관계를 구하여 이를 공정 콘트롤 시스템에 내장하여 측정치와 목표치 사이의 차이를 즉각 보정할 수 있으며, 플라즈마 침탄 공정의 안정화 및 공정 변수를 일정하게 유지함으로써 침탄 열처리 품질을 개선하고 생산 효율을 대폭 향상시킨 가시광선 발광 분석기(OES)를 구비한 플라즈마 침탄 공정의 콘트롤 시스템에 대한 것이다.
본 발명의 가시광선 발광 분석기를 구비한 플라즈마 침탄 공정의 콘트롤 시스템은, 내부에 침탄처리될 피처리물을 수용하는 침탄실을 구비한 침탄 용기와, 침탄 용기의 측부에 설치되며 침탄 공정에서 발생되는 플라즈마내의 원소가 발생하는 발광 스펙트럼을 측정하기 위한 스펙트럼 분석 수단과, 침탄실내에서 피처리물을 침탄처리하기 위한 플라즈마를 발생하도록 전원을 공급하는 플라즈마 파워 공급 수단과, 침탄실 내에서 안정된 플라즈마를 유지하기 위하여 플라즈마의 이상 상태를 측정하기 위한 측정 수단과, 침탄실내로 탄소 공급원 가스를 공급하고 침탄을 위한 탄소 공급원 가스의 양을 조정하는 자동 가스 공급 수단, 및 작업자가 설정한 침탄 공정 변수에 따라 피처리물 표면에 설정된 탄소량을 침탄시키도록 침탄 공정을 제어하기 위한 � ��어 수단으로 구성된다.

13. 发明公开

KR1019960008965A 디씨 반응성 스파크의 이상 방전 방지 전원 无效
标题翻译：直流电抗火花放电防护电源
公开(公告)号：KR1019960008965A
公开(公告)日：1996-03-22
申请号：KR1019940019278
申请日：1994-08-04
申请人： 주식회사제4기한국
发明人： 배규호
IPC分类号： H01L21/00
摘要： 1.도전성(導電性) 물체에 플러스(+) 전압이 인가되면 플라즈마(PLASMA) 상태에서의 전자(電子)가 물체의 표면에 침투, 확산하게 되며 이때 생성된 절연체(絶緣體)에 축적된 플라즈마 전하와 중화됨으로서 이상방전(異狀放電)을 방지한다.
2.일반적인 직류전원에 플러스(+) 전압을 펄스(PULSE)로 인가해 사용하므로 전원장치 자체의 가격면에서 저하된다.
3.이상방전방지전원(異常放電防止電源)은 알에프(RF) 전원이나 디씨(DC) 전원에 비교해서 기판의 온도를 낮게 제어시키고 플러스(+)치크 기판이나 플러스(+)치크 필름등 내열성이 나쁜 기판에 성막을 하는 경우 매우 효과적이다.
4.기존의 반도체 제조장비나 이온질화처리장치에 사용하고 이 는 박막코팅 전원장치에서는 석출속도의 느림기판의 온도급상승, 전원의 고가(高價)등의 문제점이 있었으나 본 발명인 이상방전방지전원장치에서는 석출속도를 빠르게하며 기판의 온도상승을 억제하며 전원의 가격을 저렴하게 하는 등의 문제해결을 가져왔다.
5.기존의 반도체 제조장비나 이온질화처리장치에 옵션(OPTION) 형태로 부착하여 사용할 수 있으므로 설치비용이 싸며 설치가 간단하다.
6.기존의 장비에서 가공물을 처리 할 경우에는 처리품 표면에 붙어있는 불순물에 의해 이상방전(異常放電)이 발생, 처리품의 품질이 떨어지는 현상이 있었지만 본 발명에서는 요약서 1번 항의 현상을 이용 이상방전현상을 완전히 제거함으로서 좋은 품질의 물건을 생산할 수 있다.

14. 发明授权

KR101963266B1 바이어스 장치 有权
公开(公告)号：KR101963266B1
公开(公告)日：2019-03-28
申请号：KR1020130131428
申请日：2013-10-31
申请人： 삼성전기주식회사 , 주식회사제4기한국
发明人： 백승민 , 백태일 , 박남선 , 한성 , 박상명 , 권영도
IPC分类号： H01J37/32 , H01J37/24 , H01L21/67

15. 发明授权

KR101058886B1 플라즈마 처리장치의 ＰＣＢ 이송장치 有权
公开(公告)号：KR101058886B1
公开(公告)日：2011-08-23
申请号：KR1020090015303
申请日：2009-02-24
申请人： 주식회사제4기한국
发明人： 백태일 , 박남선 , 박윤철 , 노진명 , 권기석 , 이배진 , 장석이
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/3065 , H01L21/302
摘要： 본 발명은 PCB등의 스트립 제품의 표면에 부착된 무기물 등의 불순물을 제거하는데 사용되는 플라즈마 처리장치의 PCB 이송장치에 관한 것으로서,
일측에 형성되어 PCB를 적재, 이송시키는 로딩부(1)와; 중앙에 형성되어 상기 이송된 PCB를 플라즈마로 표면처리하는 전극부(2)와; 타측에 형성되어 상기 표면처리된 PCB를 반출시키는 취출부(3)로 구성되는 PCB 이송장치에 있어서, 상기 로딩부와 취출부는 상측에 형성된 레일에 고정되어 PCB를 흡착 또는 탈착시켜 이송시키는 PCB피커(4)를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 PCB 이송장치인데, 상기 이송장치에 의해 PCB를 이송할 때 발생하는 걸림현상이나 마찰현상을 방지하여 PCB의 오염을 방지할 수 있고 다수개의 PCB를 동시에 이송할 뿐만 아니라 다양한 크기의 PCB를 이송할 수 있는 효과가 있다.
PCB피커, 진공패드

16. 发明授权

KR100859206B1 플라즈마를 이용한 ＬＶＨ 제조방법 有权
标题翻译：激光通孔使用等离子体处理方法
公开(公告)号：KR100859206B1
公开(公告)日：2008-09-18
申请号：KR1020070025418
申请日：2007-03-15
申请人： 주식회사제4기한국
发明人： 백태일 , 이배진 , 박남선
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H05K3/0026 , H05K3/0041 , H05K3/0055
摘要： A LVH(Laser Via Hole) processing method using plasma is provided to reduce an error rate in a post process by increasing efficiency in a cleaning process. A laser drill process is performed to form a hole on a multilayer substrate by irradiating laser beams(S100). A plasma cleaning process is performed to generate plasma in an inner wall of a hole by using one power supply source of RF(1-100V,10-15MHz), microwaves(1-50V,1-3GHz), and Pulsed DC(200-1000V,5-100KHz) and foreign materials are removed from the inner wall of the hole in a temperature range of room temperature to 100 degrees centigrade by irradiating the plasma(S200). A plasma desmear process is performed to remove residues and to form an illuminance by irradiating the plasma under the same conditions(S300). A copper plating process is performed to plate copper on the inner wall of the hole(S400).
摘要翻译：提供使用等离子体的LVH（激光通孔）处理方法，以通过提高清洁过程的效率来减少后期处理中的错误率。执行激光钻孔工艺以通过照射激光束在多层基板上形成孔（S100）。通过使用一个RF（1-100V，10-15MHz），微波（1-50V，1-3GHz）和脉冲DC（200）的电源，进行等离子体清洗处理，以在孔的内壁产生等离子体 -1000V，5-100KHz），并且通过照射等离子体在室温至100摄氏度的温度范围内从孔的内壁除去异物（S200）。通过在相同条件下照射等离子体，进行等离子体去污处理以除去残留物并形成照度（S300）。进行镀铜处理以在孔的内壁上镀铜（S400）。

17. 发明授权

KR100794961B1 인쇄회로기판 제조용 ＰＳＡＰ 방법 有权
标题翻译：用于制造PCB的等离子体半加工方法
公开(公告)号：KR100794961B1
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：KR1020060062638
申请日：2006-07-04
申请人： 주식회사제4기한국
发明人： 백태일
IPC分类号： H05K3/06
CPC分类号： H05K3/108 , H05K3/382 , H05K2203/095 , H05K2203/1476
摘要： 본 발명은 인쇄회로기판 제조용 PSAP(Plasma Semi Additive Process) 방법에 관한 것으로, 인쇄회로기판 제조를 위한 통상의 SAP 공정에서, 동을 포함한 도전성이 높은 막으로 PI 또는 절연기판의 양표면이나 일면에 코팅 혹은 캐스팅하고, 그 면에 DFR을 라미네이트 하기 전에 그 면을 플라즈마 처리하여 미세이물질제거와 표면개질을 통해 DFR의 밀착력을 향상시키는 제1 플라즈마처리단계와; 상기 단계후 DFR 패턴이 형성되고, 그 패턴 및 패턴월 사이의 표면을 플라즈마 처리하여 디스컴과 표면개질을 행하는 제2 플라즈마처리단계와; 플라즈마처리된 패턴월 사이에 동 도금을 실시하여 회로를 형성하고, 제1 에칭을 통해 기판상에 동 만을 남기고 패턴월을 제거한 후 노출된 기판의 표면 및 동 도금면을 플라즈마 처리하여 디스컴 및 표면개질을 행하는 제3 플라즈마처리단계와; 플라즈마처리된 기판을 최종 에칭하여 전기회로를 완성하는 제2 에칭단계를 포함하여 구성된다.
이에 따라, 본 발명은 인쇄회로기판 제조를 위한 SAP 공정중 필요개소에서 플라즈마 공정을 추가하는 PSAP 공정을 수행함으로써 약품공정으로 제거하기 어려운 미세한 스컴, 잔사 등을 제거하고 표면을 개질하여 깊고 균질한 동 에칭을 가능케하여 고품위의 인쇄회로기판을 신속하게 제작할 수 있고, 공정불량을 최소화시키는 효과를 제공하게 된다.
PSAP, SAP, DFR, CCL, PI, PCB, 스컴, 잔사, 표면개질, 플라즈마
摘要翻译：本文公开了一种使用等离子体半添加法（PSAP）制造印刷电路板的方法，包括：改善DFR的粘合性的第一等离子体处理步骤; 第二等离子体处理步骤，通过等离子体处理在第一等离子体处理步骤之后形成的图案壁之间的表面进行去除和表面重整; 第三等离子体处理步骤，通过在等离子体处理的图案壁之间镀铜形成电路，通过第一蚀刻步骤去除图案壁，同时铜保留在基板上，然后等离子体处理暴露的基板的表面和镀铜表面; 以及通过最后蚀刻等离子体处理的基板来完成电路的第二蚀刻步骤。

18. 实用新型

KR200384219Y1 플라즈마 세정용 전극 조립체 失效
标题翻译：使用等离子体的印刷电路板的水平型清洁装置
公开(公告)号：KR200384219Y1
公开(公告)日：2005-05-12
申请号：KR2020050003758
申请日：2005-02-11
申请人： 주식회사제4기한국
发明人： 백태일 , 이형윤
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/304
CPC分类号： H05K3/0055 , H01J37/32568 , H05K2203/095
摘要： 본 고안은 플라즈마를 이용한 피씨비 수평세정장치에 관한 것으로, 진공 및 배기를 위한 펌핑포트를 갖는 플라즈마 처리용 챔버의 후벽면에 형성되고 외부 전원공급원과 연결된 전극 및 접지소켓과; 상기 챔버의 바닥면에 배설된 한쌍의 가이드레일과; 하단면에는 캐스터가 고정되어 이동가능한 사각틀형상의 대차와; 상기 대차의 상면에 상기 가이드레일과 대응됨과 동시에 접촉시 일직선을 이루도록 배설되는 또다른 가이드레일과; 상기 가이드레일들을 따라 슬라이딩되는 가이드롤을 구비한 판상의 베이스플레이트와; 상기 베이스플레이트의 상면에 수직입설되고 적소에는 상기 전극 및 접지소켓과 각각 접속되는 전극 및 접지블럭을 갖는 애노드전극 및 캐소드전극과; 절연부재를 통해 애노드전극 및 캐소드전극에 교차 적층되고 피처리물이 개재되는 애노드전극판 및 캐소드전극판을 포함하여 구성된다.
본 고안에 따르면 플라즈마 발생용 전극 자체를 인출입시킬 수 있는 구조를 갖추고 있고 수평형의 전극체를 가지고 있어 연성PCB만을 전용으로 세정, 에칭하기에 적당하며, 매우 효율적이고, 작업이 간단 용이할 뿐만 아니라 이동성이 용이하여 대량생산이 가능하다.

19. 实用新型

KR200384218Y1 플라즈마를 이용한 피씨비 수평세정장치 失效
标题翻译：用于等离子体清洁的电极组件
公开(公告)号：KR200384218Y1
公开(公告)日：2005-05-12
申请号：KR2020050003756
申请日：2005-02-11
申请人： 주식회사제4기한국
发明人： 백태일 , 이형윤
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/3065
CPC分类号： H05K3/0055 , H05K3/0041
摘要： 본 고안은 플라즈마 세정용 전극 조립체에 관한 것으로, 플라즈마 세정설비의 챔버 내부 바닥면에 설치된 베이스플레이트와; 상기 베이스플레이트의 상면에 브라켓에 의해 이격되게 고정되고 전원공급수단과 연결된 애노드전극판과; 상기 애노드전극판의 네모서리에 절연상태로 입설된 지지대에 의해 지지고정되고 전원공급수단과 연결된 캐소드전극판과; 일단은 상기 애노드전극판에 피팅되고 타단은 상기 캐소드전극판에 피팅되되 절연부재를 통해 두개의 전극판을 서로 교차 통전되게 배설되고 내부는 냉각수 혹은 열매체가 관류되도록 중공되며 피처리물이 인출입되게 서로 일정간격을 갖고 이격설치된 다수의 제1,2전극봉과; 상기 제1,2전극봉의 단부를 같은 극끼리 연결하는 연결관을 포함하여 구성된다.
본 고안에 따르면 전극봉과 전극판이 연결되는 부위에서의 크랙발생이 없어지고, 부분 교체가 쉬워 유지관리가 용이함은 물론 챔버 내부에서의 온도 균일성, 인가전류의 균일성을 유지하므로 플라즈마에 의한 처리품위가 급격히 향상되는 장점을 제공한다.

20. 发明公开

KR1020050019692A 공조라인에 설치가능한 공기살균 청정유닛 无效
标题翻译：空调灭菌和清洁装置可安装在空调管路中
公开(公告)号：KR1020050019692A
公开(公告)日：2005-03-03
申请号：KR1020030057790
申请日：2003-08-21
申请人： 주식회사제4기한국
发明人： 백태일 , 이형윤
IPC分类号： A61L9/20
摘要： PURPOSE: An air sterilizing and cleaning unit is provided to effectively sterilize and clean large amount of air using a combined function of plasma and infrared rays together with plural filters. CONSTITUTION: The unit includes a filter(10) installed in a duct for filtering large dusts or suspended particles, a medium filter(20) for trapping fine particles or bacteria contained in air passing the filter, a plasma discharging filter(30) for decomposing harmful substance contained in the air passing the medium filter and forming a first sterilizing region, an infrared lamp(40) disposed at a rear of the first sterilizing region for emitting infrared rays and forming a second sterilizing region, a photocatalytic filter(50) for finally sterilizing bacteria and odor and forming a third sterilizing region, and a manganese filter(60) for absorbing ozone produced from sterilizing regions.
摘要翻译：目的：提供一种空气消毒和清洁单元，能够利用等离子体和红外线与多个过滤器的组合功能对大量空气进行消毒和清洁。构成：该装置包括安装在用于过滤大尘埃或悬浮颗粒的管道中的过滤器（10），用于捕获通过过滤器的空气中所含的细颗粒或细菌的介质过滤器（20），用于分解的等离子体放电过滤器包含在通过介质过滤器的空气中并形成第一灭菌区域的有害物质，设置在第一灭菌区域的后方，用于发射红外线并形成第二灭菌区域的红外线灯（40），用于最后对细菌和气味进行灭菌并形成第三杀菌区域，以及用于吸收由杀菌区域产生的臭氧的锰过滤器（60）。

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