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    • 98. 发明申请
    • 透明電極付き基板の製造方法
    • 制造具有透明电极的基板的方法
    • WO2013115125A1
    • 2013-08-08
    • PCT/JP2013/051730
    • 2013-01-28
    • 株式会社カネカ
    • 藤本 貴久上田 拓明▲高▼橋 祐司口山 崇山本 憲治
    • H01B13/00B32B9/00C23C14/06G06F3/041G06F3/044H01B5/14
    • G06F3/044C23C14/02C23C14/024C23C14/083C23C14/10C23C14/562C23C14/584G06F2203/04103
    • 本発明は、透明フィルム上に金属酸化物薄膜からなる透明電極層を備える透明電極付き基板の製造方法に関する。本発明の製造方法は:透明フィルムのロール状巻回体が、巻取式スパッタ製膜装置の基材準備室内に導入される基材準備工程;基材準備室内で、透明フィルムが、ロール状巻回体から繰出され搬送されながら、加熱部からの熱によって加熱処理される加熱工程;および巻取式スパッタ製膜装置の製膜室内に不活性ガスが導入されながら、加熱処理後の透明フィルム上に、非晶質金属酸化物薄膜からなる透明電極層が形成される透明電極層製膜工程、を有する。加熱工程および前記透明電極層製膜工程は、スパッタ製膜装置から透明フィルムが取り出されることなく連続して行われる。加熱工程において、透明フィルムと加熱部とが接触することなく加熱が行われることが好ましい。加熱工程における基材準備室内の圧力は、1.0Pa以下が好ましい。
    • 本发明涉及一种具有透明电极层的基板的制造方法,该透明电极层包括设置在透明膜上的金属氧化物薄膜。 该制造方法具有:基材制备步骤,用于将由透明膜制成的卷状卷绕体引入到卷绕型溅射膜形成装置的基材制备室中; 加热步骤,其中通过来自加热单元的热量在所述基材制备室中对所述透明膜进行加热处理,同时从所述辊状卷绕体展开并传送; 以及透明电极层成膜工序,其中,将由非晶态金属氧化物薄膜制成的透明电极层形成在经热处理的透明膜上,同时将惰性气体引入绕组型溅射的成膜室 成膜装置。 连续地进行加热步骤和透明电极层成膜步骤,而不从溅射膜形成装置除去透明膜。 在加热工序中,优选在不使透明膜和加热单元相互接触的状态下进行加热。 加热工序中的基材准备室的压力优选为1.0Pa以下。