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91. 发明专利

TW201821907A 度量衡配方選擇审中-公开
简体标题：度量衡配方选择
公开(公告)号：TW201821907A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106132953
申请日：2017-09-26
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：巴塔哈爾亞卡司徒夫 , BHATTACHARYYA, KAUSTUVE , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN
IPC分类号： G03F7/20 , G01B11/24 , G01B11/30 , G01N21/47
摘要：一種方法，其包括：對照堆疊敏感度及疊對敏感度，評估複數個基板量測配方以用於量測使用一圖案化程序進行處理之一度量衡目標；及自該複數個基板量測配方選擇該堆疊敏感度之一值滿足或超越一臨限值且該疊對敏感度之一值在該疊對敏感度之一最大值或最小值的某一有限範圍內的一或多個基板量測配方。
简体摘要：一种方法，其包括：对照堆栈敏感度及叠对敏感度，评估复数个基板量测配方以用于量测使用一图案化进程进行处理之一度量衡目标；及自该复数个基板量测配方选择该堆栈敏感度之一值满足或超越一临限值且该叠对敏感度之一值在该叠对敏感度之一最大值或最小值的某一有限范围内的一或多个基板量测配方。

92. 发明专利

TW201812477A 微影裝置审中-公开
简体标题：微影设备
公开(公告)号：TW201812477A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106127871
申请日：2017-08-17
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：寇克斯漢卓克斯赫曼馬里 , COX, HENDRIKUS HERMAN MARIE , 迪威特保羅寇尼亨利 , DE WIT, PAUL CORNE HENRI , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 克佛耶茲安卓尼斯亨瑞克 , KOEVOETS, ADRIANUS HENDRIK , 奧維卡皮金文森 , OVERKAMP, JIM VINCENT , 凡丹慕蘭佛利茲 , VAN DER MEULEN, FRITS , 凡迪沙登賈寇柏卡理尼司賈拉度司 , VAN DER SANDEN, JACOBUS CORNELIS GERARDUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/70433 , G03F7/70783
摘要：本發明揭示一種微影裝置，其包含一投影系統，該投影系統經組態以投影一經圖案化輻射光束以在被固持於一基板台上之一基板上形成一曝光區域。該微影裝置進一步包含一加熱裝置，該加熱裝置包含經組態以提供在曝光期間照明及加熱該基板之部分之額外輻射光束的一或多個輻射源。
简体摘要：本发明揭示一种微影设备，其包含一投影系统，该投影系统经组态以投影一经图案化辐射光束以在被固持于一基板台上之一基板上形成一曝光区域。该微影设备进一步包含一加热设备，该加热设备包含经组态以提供在曝光期间照明及加热该基板之部分之额外辐射光束的一或多个辐射源。

93. 发明专利

TWI618990B 用於量測微影裝置之聚焦效能之方法及圖案化器件及裝置及器件製造方法有权
简体标题：用于量测微影设备之聚焦性能之方法及图案化器件及设备及器件制造方法
公开(公告)号：TWI618990B
公开(公告)日：2018-03-21
申请号：TW105142238
申请日：2016-12-20
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：希尼保羅克利絲丁安 , HINNEN, PAUL CHRISTIAAN , 麥提森賽門吉司伯喬瑟佛思 , MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS , 葛森邁可羅伯特 , GOOSEN, MAIKEL ROBERT , 凡德斯加毛瑞斯 , VAN DER SCHAAR, MAURITS , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70525 , G03F7/702 , G03F7/70641 , G03F7/70683 , G03F7/7085

94. 发明专利

TW201732278A 度量衡設備之調整或基於經量測目標之特性而由度量衡設備進行之量測审中-公开
简体标题：度量衡设备之调整或基于经量测目标之特性而由度量衡设备进行之量测
公开(公告)号：TW201732278A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105141584
申请日：2016-12-15
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：蘇洽羅伯特約翰 , SOCHA, ROBERT JOHN , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 帕迪尼特許 , PANDEY, NITESH
IPC分类号： G01N21/956 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70633 , G01N21/956 , G03F7/70641
摘要：本文中揭示一種調整一度量衡設備之方法，該方法包含：將該度量衡設備之一光瞳平面中之一強度分佈在空間上劃分成複數個像素；藉由使用一電腦調整該複數個像素之強度而縮減一目標中之一結構不對稱性對由該度量衡設備對該目標進行的一量測之一效應。
简体摘要：本文中揭示一种调整一度量衡设备之方法，该方法包含：将该度量衡设备之一光瞳平面中之一强度分布在空间上划分成复数个像素；借由使用一电脑调整该复数个像素之强度而缩减一目标中之一结构不对称性对由该度量衡设备对该目标进行的一量测之一效应。

95. 发明专利

TW201732270A 度量衡方法、度量衡裝置及器件製造方法审中-公开
简体标题：度量衡方法、度量衡设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201732270A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW105142817
申请日：2016-12-22
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：昆塔尼哈李察 , QUINTANILHA, RICHARD , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY
IPC分类号： G01N21/88 , G01N21/956 , G03F7/20 , H05G2/00
CPC分类号： G03F7/70633 , G01N21/8806 , G01N21/956 , G01N2021/95676 , G03F7/70625 , G03F7/7065 , H05G2/008
摘要：一種混合度量衡裝置(1000、1100、1200、1300、1400)量測藉由微影製造之一結構(T)。一種EUV度量衡裝置(244，IL1/DET1)運用EUV輻射輻照該結構且自該結構偵測一第一光譜。另一種度量衡裝置(240，IL2/DET2)運用包含EUV輻射或較長波長輻射之第二輻射輻照該結構且偵測一第二光譜。在一起使用該所偵測到之第一光譜及該所偵測到之第二光譜的情況下，一處理器(MPU)判定該結構之一屬性(CD/OV)。該光譜可以各種方式組合。舉例而言，該第一所偵測到之光譜可用於控制用於俘獲該第二光譜之照明及/或偵測之一或多個參數，或該第二所偵測到之光譜可用於控制用於俘獲該第一光譜之照明及/或偵測之一或多個參數。該第一光譜可用於區分該結構中之不同層(T1，T2)之屬性。第一及第二輻射源(SRC1，SRC2)可共用一共同驅動雷射(LAS)。
简体摘要：一种混合度量衡设备(1000、1100、1200、1300、1400)量测借由微影制造之一结构(T)。一种EUV度量衡设备(244，IL1/DET1)运用EUV辐射辐照该结构且自该结构侦测一第一光谱。另一种度量衡设备(240，IL2/DET2)运用包含EUV辐射或较长波长辐射之第二辐射辐照该结构且侦测一第二光谱。在一起使用该所侦测到之第一光谱及该所侦测到之第二光谱的情况下，一处理器(MPU)判定该结构之一属性(CD/OV)。该光谱可以各种方式组合。举例而言，该第一所侦测到之光谱可用于控制用于俘获该第二光谱之照明及/或侦测之一或多个参数，或该第二所侦测到之光谱可用于控制用于俘获该第一光谱之照明及/或侦测之一或多个参数。该第一光谱可用于区分该结构中之不同层(T1，T2)之属性。第一及第二辐射源(SRC1，SRC2)可共享一共同驱动激光(LAS)。

96. 发明专利

TW201728868A 用於調整照明之方法及設備审中-公开
简体标题：用于调整照明之方法及设备
公开(公告)号：TW201728868A
公开(公告)日：2017-08-16
申请号：TW105141787
申请日：2016-12-16
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：凡德斯加毛瑞斯 , VAN DER SCHAAR, MAURITS , 華那爾派翠克 , WARNAAR, PATRICK , 張幼平 , ZHANG, YOUPING , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 肖鋒 , XIAO, FENG , 艾伯特馬汀 , EBERT, MARTIN
IPC分类号： G01B11/02 , H01L21/66
CPC分类号： G03F7/70633 , G01N21/956
摘要：本發明揭示一種方法，其包括：將一照明輻射光束投影至一基板上之一度量衡目標上；偵測自該基板上之該度量衡目標反射之輻射；及基於該偵測到輻射來判定該基板上之一特徵之一特性，其中該偵測到輻射之一偏光狀態經可控地選擇以最佳化該偵測到輻射之一品質。
简体摘要：本发明揭示一种方法，其包括：将一照明辐射光束投影至一基板上之一度量衡目标上；侦测自该基板上之该度量衡目标反射之辐射；及基于该侦测到辐射来判定该基板上之一特征之一特性，其中该侦测到辐射之一偏光状态经可控地选择以最优化该侦测到辐射之一品质。

97. 发明专利

TWI696043B 度量衡配方選擇有权
简体标题：度量衡配方选择
公开(公告)号：TWI696043B
公开(公告)日：2020-06-11
申请号：TW106132953
申请日：2017-09-26
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：巴塔哈爾亞卡司徒夫 , BHATTACHARYYA, KAUSTUVE , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN
IPC分类号： G03F7/20 , G01B11/24 , G01B11/30 , G01N21/47

99. 发明专利

TWI679398B 度量衡方法、目標及基板有权
简体标题：度量衡方法、目标及基板
公开(公告)号：TWI679398B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW105142816
申请日：2016-12-22
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 艾伯特馬汀 , EBERT, MARTIN
IPC分类号： G01B11/26 , G01N21/95 , G03F7/20

100. 发明专利

TW201920939A 度量衡方法及設備审中-公开
简体标题：度量衡方法及设备
公开(公告)号：TW201920939A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107131106
申请日：2018-09-05
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：賈克馬丁賈庫柏斯喬漢 , JAK, MARTIN JACOBUS JOHAN , 艾伯特馬汀 , EBERT, MARTIN , 丹包伊夫亞歷傑福瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 帕迪尼特許 , PANDEY, NITESH
IPC分类号： G01N21/49 , G01N21/41
摘要：本發明提供一種方法，其包含：對照一或多個量測品質參數來評估與對使用一圖案化程序處理之一基板之一度量衡目標的量測相關聯的複數個偏光特性；及基於該等量測品質參數中之一或多者而自該複數個偏光特性選擇一或多個偏光特性。
简体摘要：本发明提供一种方法，其包含：对照一或多个量测品质参数来评估与对使用一图案化进程处理之一基板之一度量衡目标的量测相关联的复数个偏光特性；及基于该等量测品质参数中之一或多者而自该复数个偏光特性选择一或多个偏光特性。

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