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91. 发明专利

JPWO2013140499A1 露光ヘッド及び露光装置有权
标题翻译：曝光头Oyobi曝光装置
公开(公告)号：JPWO2013140499A1
公开(公告)日：2015-08-03
申请号：JP2014505832
申请日：2012-03-19
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：梶山　康一 , 康一梶山 , 水村　通伸 , 通伸水村
IPC分类号： G03F7/20 , H01L33/64 , H05K3/00
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/201 , G03F7/2041 , G03F7/70341 , G03F7/70891
摘要：本発明による露光ヘッドは、透明基板と、前記透明基板に形成され露光光を放射する複数の露光光源と、前記露光光源からの露光光を前記露光対象物上へ集光する集光レンズと、前記透明基板を挟んで前記集光レンズと反対側に配置され前記露光対象物を撮像する撮像手段と、前記撮像手段により撮像された画像情報に基づいて前記露光光源の点灯を制御する制御手段と、を含んで構成される。また、本発明による露光装置は、本発明による露光ヘッドを含んで構成される。このような構成により、露光対象物の位置合わせ精度が向上し、露光対象物の露光精度を向上させることができる。
摘要翻译：根据本发明的曝光头包括：透明基板，多个曝光源发射的形成在透明衬底的曝光光，聚光透镜，其收集所述曝光光从曝光光源对曝光的对象，成像装置，用于在整个透明基板相对设置的成像到聚光透镜所述曝光对象，以及控制装置，用于根据由图像拾取装置捕获的图像信息来控制曝光光源的点亮，配置为包括。根据本发明的曝光装置包括：根据本发明的曝光头。这样的结构提高了曝光对象的对准精度，所以能够提高曝光对象的曝光精度。

92. 发明专利

JP5747303B2 露光装置有权
公开(公告)号：JP5747303B2
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：JP2010253416
申请日：2010-11-12
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：水村通伸
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/20 , G03F7/70275 , G03F7/70291

93. 发明专利

JP5704535B2 マイクロレンズアレイを使用した露光装置有权
标题翻译：使用微透镜阵列的曝光装置
公开(公告)号：JP5704535B2
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：JP2011084090
申请日：2011-04-05
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：水村通伸
IPC分类号： H01L21/027 , G02F1/13 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/50 , G02F1/1303 , G02F1/1333 , G03F7/70275

94. 发明专利

JP2015057639A 偏光素子ユニット及び偏光素子ユニットを使用した偏光光照射装置审中-公开
标题翻译：偏振元件单元和偏振光照射器件使用极化元件单元
公开(公告)号：JP2015057639A
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：JP2014151387
申请日：2014-07-25
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー , V Technology Co Ltd
发明人： ARAI TOSHINARI , HASHIMOTO KAZUSHIGE
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/1337 , G03F7/20
摘要：【課題】無偏光光等が漏れるのを防ぎ、光配向膜用レジストに対する、無偏光光の照射や、露光光の照射ムラを少なくした偏光素子ユニットと、このユニットを用いた偏光光照射装置を提供する。【解決手段】配向膜用レジストW1に偏光光を照射して光配向を行う偏光光照射装置10であって、レジストW1に光を照射するための光源部11と、該光源からの光を所定の偏光光に偏光するための平行四辺形の単位偏光素子から構成される偏光素子ユニット1と、光源部11の光源12が偏光素子ユニット1の単位偏光素子2の並び方向に平行に配置された線状の光源であることを特徴とする偏光光照射装置。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了提供一种防止非偏振光等的泄漏并且减少非偏振光的照射或曝光光的不均匀照射的光偏振元件单元在光取向膜的抗蚀剂上，以及偏振光使用上述单元的照射装置。解决方案：偏振光照射装置10用偏振光照射用于取向膜的抗蚀剂W1以引起光取向，并且该装置包括：光源单元11，其用光照射抗蚀剂W1; 以及偏振元件单元1，其包括将来自光源的光偏振成预定偏振光的平行四边形单位偏振元件。光源单元11的光源12是与偏振元件单元1的单位偏振元件2的排列方向平行设置的线状光源。

95. 发明专利

JP5678333B2 レーザアニール方法及び装置有权
公开(公告)号：JP5678333B2
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：JP2010121945
申请日：2010-05-27
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー
发明人：梶山　康一 , 康一梶山 , 水村　通伸 , 通伸水村 , 邦幸濱野 , 邦幸濱野
IPC分类号： H01L21/20 , H01L21/268
CPC分类号： H01L21/268 , B23K26/0648 , B23K26/066 , H01L21/02532 , H01L21/02675

96. 发明专利

JP2015010270A 成膜マスク及び成膜マスクの製造方法有权
标题翻译：沉积掩模及其制造方法
公开(公告)号：JP2015010270A
公开(公告)日：2015-01-19
申请号：JP2013138814
申请日：2013-07-02
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー , V Technology Co Ltd
发明人： MIZUMURA MICHINOBU
IPC分类号： C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： C23C14/042 , B23K11/11 , B23K26/382 , C23C16/042 , H01L51/0011
摘要：【課題】高精細な薄膜パターンを位置精度よく形成する。【解決手段】貫通する複数の開口パターン4を形成すると共に、一面に複数の開口パターン4を内包する大きさの開口を有する枠状の金属薄膜5を設けた樹脂製のフィルム1と、フィルム1の一面1a側にて金属薄膜5の開口に対応した位置にフィルム1と分離独立して設けられ、複数の開口パターン4のうち少なくとも一つの開口パターン4を内包する大きさの複数の貫通孔6を設けたメタルマスク2と、フィルム1の一面1a側に位置し、メタルマスク2の複数の貫通孔6を内包する大きさの開口部7を設けて枠状に形成され、フィルム1及びメタルマスク2を張架した状態で、金属薄膜5の部分及びメタルマスク2の縁部領域を一端面3aにスポット溶接してフィルム1及びメタルマスク2を支持する金属フレーム3と、を備えて構成したものである。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：形成具有良好定位精度的高清晰度薄膜图案。解决方案：掩模包括：树脂膜1，其中形成有多个穿透开口图案4，并且框状金属薄膜5是其具有开口，其尺寸使得多个开口图案4包括在表面中; 金属掩模2，其在与膜1的表面的1a侧的金属薄膜5的开口对应的位置处独立于膜1设置，并且设置有多个通孔6，其包括在多个打开模式4中的至少一个; 并且位于膜1的表面的1a侧的金属框架3形成为框架形状并且具有包括金属掩模2的多个通孔6以提供开口7的尺寸，并且当膜1和金属掩模2处于拉伸状态时，通过将金属薄膜5的一部分和金属掩模2的绝缘区域点焊到边缘3a来支撑膜1和金属掩模2。

97. 发明专利

JP2014215139A 形状計測装置有权
标题翻译：形状测量装置
公开(公告)号：JP2014215139A
公开(公告)日：2014-11-17
申请号：JP2013091830
申请日：2013-04-24
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー , V Technology Co Ltd
发明人： YOSHIDA TARO , OBUCHI KAZUTO , UEHARA MAKOTO
IPC分类号： G01B11/24 , G01B11/02
CPC分类号： G01B11/02 , G01B11/24
摘要：【課題】光源光の受光効率を高めることで、光源光の光量むらを無くすと同時に迷光の計測精度への悪影響を排除することができる形状計測装置を提供する。【解決手段】被計測物Wの設置面2に投光する投光部3と、投光部3が投光した光を受光する受光部4を備え、受光部4の出力によって被計測物の形状や寸法を計測する形状計測装置1であって、投光部3は、光源10と、光源10から出射された光が入射するロッドインテグレータ11と、ロッドインテグレータ11の光出射面11Aから出射した全光束を取り込むことができる開口数と視野を有し、少なくとも被計測物側でテレセントリックな投光光学系20とを備え、受光部4は、被計測物の投影像を受光する撮像素子12と、設置面2と撮像素子12の受光面とを共役な関係にする物体側テレセントリックな受光光学系30とを備え、投光光学系20内部の開口絞りと受光光学系30内部の開口絞りが共役の関係にある。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够通过提高光源光的受光效率并消除对杂散光的测量精度的不利影响而消除光源光的光量不均匀的形状测量装置。解决方案：一种形状测量装置1包括：用于将光投射到待测量对象W的安装表面2的光投射部; 以及用于接收由所述光投射部投影的光的光接收部，并且测量被测量物的形状和尺寸。光投影部3具有光源10; 从光源10发射的光入射的杆状积分器11; 以及能够获取从棒状积分器11的发光面11A发出的整体光束的数值孔径和视野，并且包括远心光投射光学系统20.光接收部分4包括图像拾取装置12，用于接收被测量对象的投影图像; 以及物体侧的远心光接收光学系统30，其将安装面2和摄像元件12的受光面彼此共轭。在光投射光学系统20内的孔径光阑和光接收光学系统30内的孔径光阑彼此共轭关系。

98. 发明专利

JP2014205870A 蒸着マスク有权
标题翻译：蒸气沉积掩模
公开(公告)号：JP2014205870A
公开(公告)日：2014-10-30
申请号：JP2013082687
申请日：2013-04-11
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー , V Technology Co Ltd
发明人： MIZUMURA MICHINOBU , KUDO SHUJI , KAJIYAMA KOICHI
IPC分类号： C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： C23C14/042 , H01L51/0011
摘要：【課題】熱変形を抑制して蒸着される薄膜パターンの高精細化を図る。【解決手段】スリット状の複数の貫通孔5を並列に並べて有するシート状の磁性金属部材2の一面に樹脂製のフィルム3を密接させた構造を有し、前記各貫通孔5内の前記フィルム3の部分に貫通する複数の開口パターン6を設けた蒸着マスク1であって、前記フィルム3は、線膨張係数が直交二軸で異なる異方性を有し、前記磁性金属部材2の前記貫通孔5の長軸に交差する方向に前記フィルム3の線膨張係数の小さい軸を合わせたものである。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过抑制热变形来提供高清晰度薄膜图案的气相沉积掩模。解决方案：蒸镀掩模1被构造成使得塑料膜3与片状物的一个表面接触磁性金属构件2，其中狭缝状多个通孔5平行布置，并且穿透膜3的多个开放图案6设置在相应的通孔5中。膜3具有不同各向异性的线性膨胀系数在正交双轴中，膜3中具有较小线膨胀系数的轴与磁性金属构件2的通孔5的长轴交叉的方向对齐。

99. 发明专利

JP2014199889A 露光ヘッド及びその製造方法有权
标题翻译：光曝光头及其制造方法
公开(公告)号：JP2014199889A
公开(公告)日：2014-10-23
申请号：JP2013075232
申请日：2013-03-29
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー , V Technology Co Ltd
发明人： KAJIYAMA KOICHI , NASUKAWA TOSHIMICHI , MIZUMURA MICHINOBU , KANAO MASAYASU , ISHIKAWA SUSUMU
IPC分类号： H01S5/18
摘要：【課題】基板上に複数の半導体レーザ素子を形成するに際して、基板に対して任意の方向にレーザ光の出射方向を設定することができると共に、効果的な発光層の冷却を行う。【解決手段】露光ヘッド1は、一つの半導体基板(基板10)と、基板10を共通基板として、基板10の表面に沿った発光層2Aと表面に垂直な一対の共振器端面20を有する複数の半導体レーザ素子部2と、隣接する半導体レーザ素子部2の共振器端面20間に形成される凹溝部3と、凹溝部3内で半導体レーザ素子部2の光出射面に対面させて光出射面から出射されるレーザ光Lbを基板10側に反射させる反射面4とを備え、基板10を介して被露光面にレーザ光Lbを照射する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：当在基板上形成多个半导体激光元件时，将激光束的出射方向设定为相对于基板的任意方向，并且对发光层进行有效的冷却。解决方案：曝光头1包括：一个半导体衬底（衬底10）; 使用基板10作为公共基板的多个半导体激光元件部件2，各自具有沿着基板10的表面的发光层2A和与表面垂直的一对谐振器端面20; 形成在相邻半导体激光元件部2的谐振器端面20之间的凹槽部3; 以及在凹槽部3中面向半导体激光元件部2的发光面的反射面4，将从发光面发射的激光束Lb反射到基板10侧。暴露的表面经由衬底10用激光束Lb照射。

100. 发明专利

JP2014182228A Method and device for removing light point defect of liquid crystal display panel 有权
标题翻译：用于去除液晶显示面板的光点缺陷的方法和装置
公开(公告)号：JP2014182228A
公开(公告)日：2014-09-29
申请号：JP2013055809
申请日：2013-03-18
申请人： V Technology Co Ltd , 株式会社ブイ・テクノロジー
发明人： SAKAINO TETSUO
IPC分类号： G02F1/13 , G02B5/20 , G02F1/1335 , G09F9/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To remove a light point defect existing at a local part in pixels, without exerting a bad influence on peripheral normal pixels in a short processing time, by turning the light point defect into a dark spot locally.SOLUTION: The method for removing a light point defect of a liquid crystal display panel includes the steps of: detecting a light point defect Db existing in pixels P of a liquid crystal display panel by observation from a side of a color filter substrate; setting an optical axis of a laser beam irradiation device on a position on the color filter substrate, corresponding to the detected light point defect, and making the beam spot size of a laser beam to be radiated correspond to the size of the light point defect; and gradually increasing the output of the laser beam radiated from the laser beam irradiation device, and stopping the output of the laser beam when the light point defect Db observed from the side of the color filter substrate is turned into a black point locally.
摘要翻译：要解决的问题：通过局部地将光点缺陷转换为暗点，去除在局部部分存在的像素中的光点缺陷，而不会在短处理时间内对外围正常像素造成不良影响。解决方案：用于去除液晶显示面板的光点缺陷包括以下步骤：通过从滤色器基板的侧面观察来检测存在于液晶显示面板的像素P中的光点缺陷Db; 将激光束照射装置的光轴设置在与所检测的光点缺陷相对应的滤色器基板上的位置上，使得要照射的激光束的光束尺寸对应于光点缺陷的尺寸; 并且逐渐增加从激光束照射装置发射的激光束的输出，并且当从滤色器基板侧观察到的光点缺陷Db局部变成黑点时停止激光束的输出。

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