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    • 1. 发明申请
    • LEUCHTDIODENCHIP UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES LEUCHTDIODENCHIPS
    • LEDS芯片和方法进行生产LEDS芯片
    • WO2012004112A1
    • 2012-01-12
    • PCT/EP2011/060158
    • 2011-06-17
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHMAYER, BerndSCHMID, Wolfgang
    • MAYER, BerndSCHMID, Wolfgang
    • H01L33/44H01L33/20H01L33/02
    • H01L33/26H01L33/025H01L33/20H01L33/44H01L2933/0025
    • Es wird ein Leuchtdiodenchip angegeben, mit - einer n-leitenden Halbleiterschicht (3), - einer p-leitenden Halbleiterschicht (4), - einem aktiven Bereich (2) zwischen der n-leitenden Halbleiterschicht (3) und der p-leitenden Halbeiterschicht (4), - einer Seitenfläche (14), welche die n-leitende Halbleiterschicht (3), die p-leitende Halbleiterschicht (4), und den aktiven Bereich (2) in einer lateralen Richtung begrenzt, und - einem Dotierbereich (1), in dem ein Dotierstoff in ein Halbleitermaterial des Leuchtdiodenchips eingebracht ist, und/oder - einem neutralisierten Bereich (1), wobei - der Dotierbereich (1) und/oder der neutralisierte Bereich (1) an der Seitenfläche (14) zumindest im Bereich des aktiven Bereichs ausgebildet ist, und - der Leuchtdiodenchip im Betrieb zur Abstrahlung von inkohärenter elektromagnetischer Strahlung vorgesehen ist.
    • 公开了一种发光二极管芯片,具有 - (活性区域(2)的n型半导体层(3)之间和p型半导体层 - 一个n型半导体层(3), - 一个p-型半导体层(4), 4), - 一个侧表面(14)的连接(3),p型半导体层(4)和所述有源区(2)在横向方向上界定的n型半导体层,以及 - 一个掺杂区(1), 在其中掺杂剂被引入到LED芯片的半导体材料,和/或 - 中和的区域(1),其中 - 所述掺杂区域(1)和/或在活动的区域中的至少所述侧表面(14)上的中和的区域(1) 形成区域,以及 - 所述LED芯片中的操作提供给发射非相干的电磁辐射。
    • 10. 发明授权
    • STRAHLUNGSEMITTIERENDES HALBLEITERBAUELEMENT
    • STRAHLUNGSEMITTIERENDHALBLEITERBAUELEMENT
    • EP1642347B1
    • 2008-08-13
    • EP04738791.5
    • 2004-06-25
    • OSRAM Opto Semiconductors GmbH
    • BUTENDEICH, RainerLINDER, NorbertMAYER, BerndPIETZONKA, Ines
    • H01L33/00
    • H01L33/025H01L33/02H01S5/3086
    • The invention relates to a radiation-emitting semi-conductor element provided with a layered structure, comprising an n-doped confinement layer (14), a p-doped confinement layer (22), and an active layer (18) emitting photons, said layer being arranged between the n-doped confinement layer (14) and the p-doped confinement layer (22). According to the invention, the n-doped confinement layer (14) is doped with a first n-dopant (or two n-dopants which are different from each other) in order to produce a high active doping and a precise doping profile, and the active layer (18) is doped with exclusively one second n dopant, which is different form the first dopant, in order to improve the layer quality of the active layer (18).
    • 本发明涉及设置有分层结构的发射辐射的半导体元件,其包括n掺杂限制层(14),p掺杂限制层(22)和发射光子的活性层(18),所述 层设置在n掺杂限制层(14)和p掺杂限制层(22)之间。 根据本发明,为了产生高活性掺杂和精确的掺杂分布,n型掺杂限制层(14)被掺杂有第一n型掺杂剂(或者彼此不同的两种n型掺杂剂),并且 为了改善有源层(18)的层质量,有源层(18)仅掺杂有与第一掺杂剂不同的第二n掺杂剂。