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    • 2. 发明申请
    • TEMPERATURMESSVORRICHTUNG, LITHOGRAPHIEANLAGE UND VERFAHREN ZUM MESSEN EINER TEMPERATUR
    • WO2023012330A1
    • 2023-02-09
    • PCT/EP2022/072076
    • 2022-08-05
    • CARL ZEISS SMT GMBH
    • BERGER, LarsRETTENMAIER, Thomas
    • G03F7/20G01K7/21G01K7/25
    • Eine Temperaturmessvorrichtung (100) zum Messen einer Temperatur an oder in einem optischen System einer Lithographieanlage (1) weist eine Ansteuerungsquelle (101) zum Erzeugen eines Messstroms oder einer Messspannung zwischen einem ersten und einem zweiten Anschlusspunkt (101a, 101b) der Ansteuerungsquelle (101); mehrere Tempera-turwiderstände (102, 103, 123a – 123o), die zumindest einen Referenztemperaturwider-stand (102) und zumindest einen Messtemperaturwiderstand (103, 123a – 123o) umfas-sen, wobei die Temperaturwiderstände (102, 103, 123a – 123o) jeweils zwischen einem ersten und einem zweiten Leitungsknoten (124, 124a – 124o, 125, 125a – 125o) aus mehreren ersten und zweiten Leitungsknoten (124, 124a – 124o, 125, 125a – 125o) an-geordnet sind; eine erste Schalteinheit (104) zum wahlweisen Verbinden des ersten An-schlusspunkts (101a) der Ansteuerungsquelle (101) mit einem oder mehreren der ersten Leitungsknoten (124, 124a – 124o); eine Spannungserfassungseinheit (105) zum Erfas-sen einer Spannung an den Temperaturwiderständen (102, 103, 123a – 123o); eine erste Leitung (107), die den zweiten Leitungsknoten (125b) des zumindest einen Referenz-temperaturwiderstands (102) und den zweiten Leitungsknoten (125, 125a, 125c – 125o) des zumindest einen Messtemperaturwiderstands (103, 123a – 123o) gemeinsam mit einem ersten Anschlusspunkt (105a) der Spannungserfassungseinheit (105) elektrisch verbindet; und eine Temperaturbestimmungseinheit (130), die geeignet ist, kommunika-tiv mit der Spannungserfassungseinheit (105) gekoppelt zu sein, um die durch die Spannungserfassungseinheit (105) erfasste Spannung zu erhalten, und basierend auf der von der Spannungserfassungseinheit (105) erhaltenen Spannung die Temperatur an oder in dem optischen System zu bestimmen, auf.
    • 4. 发明申请
    • SENSORANORDNUNG UND VERFAHREN ZUR ERMITTLUNG EINER JEWEILIGEN POSITION EINER ANZAHL VON SPIEGELN EINER LITHOGRAPHIEANLAGE
    • 传感器装置和方法用于确定反射镜的数字的光刻系统的相应位置
    • WO2016184670A1
    • 2016-11-24
    • PCT/EP2016/059766
    • 2016-05-02
    • CARL ZEISS SMT GMBH
    • HORN, JanKRONE, StefanBERGER, Lars
    • G03F7/20G01B11/14
    • G03F7/70258G01B11/002G01B11/026G03F7/70825G03F7/7085
    • Es wird eine Sensoranordnung zur Ermittlung einer jeweiligen Position einer Anzahl von Spiegeln (M1-M6) einer Lithographieanlage (100) bereitgestellt, mit: einer Anzahl von Positionssensorvorrichtungen (140), wobei die jeweilige Positionssensorvorrichtung (140) eine Messeinheit (201) zur Bereitstellung eines optischen Positionssignals einer Position eines Spiegels (M1-M6) bei Belichtung durch einen Lichtstrahl, eine Lichtquelle (203) zur Belichtung der Messeinheit (201) mit dem Lichtstrahl, eine Detektionseinheit (204) mit einer Mehrzahl von Photodetektoren (205) zur Ausgabe eines analogen elektrischen Positionssignals durch Detektion des bereitgestellten optischen Positionssignals und eine Signalverarbeitungseinheit (207) umfasst, welche zumindest einen A/D-Wandler (208) zum Wandeln des analogen elektrischen Positionssignals in ein digitales elektrisches Positionssignals aufweist, wobei zumindest die Lichtquelle (203) und die Signalverarbeitungseinheit (207) in einer in einem Vakuum- Gehäuse (137) angeordneten integrierten Baugruppe (200) vorgesehen sind, und einer Auswertevorrichtung (304) zur Ermittlung der Position des Spiegels (M1-M6) mittels des digitalen elektrischen Positionssignals.
    • 提供了一种用于确定在一个光刻系统(100)的反射镜(M1-M6)中的相应的位置,其包括一个传感器装置:多个位置传感器装置(140),其中,所述各自的位置传感器装置(140)的测量单元(201),用于提供一个 通过光束,光源(203),用于测量单元(201)与光束曝光,具有多个光电检测器(205)的检测单元(204),用于输出一模拟用于曝光的反射镜(M1-M6)的位置的光学位置信号 包括由检测所提供的光学位置信号和包括至少一个A / D转换器(208),用于将模拟电位置信号转换成数字电位置信号的信号处理单元(207)的信号处理单元的电位置信号,其中至少所述光源(203)和 (207)在一个在真空 提供布置壳体(137)集成封装(200),和评估装置(304),用于通过将数字电位置信号的装置确定所述反射镜(M1-M6)的位置。
    • 7. 发明申请
    • SENSORANORDNUNG UND VERFAHREN ZUR ERMITTLUNG EINER JEWEILIGEN POSITION EINER ANZAHL VON SPIEGELN EINER LITHOGRAPHIEANLAGE
    • 传感器装置和方法用于确定反射镜的数字的光刻系统的相应位置
    • WO2016184836A1
    • 2016-11-24
    • PCT/EP2016/060978
    • 2016-05-17
    • CARL ZEISS SMT GMBH
    • HORN, JanKRONE, StefanBERGER, Lars
    • G03F7/20G01B11/14G01D5/26
    • G03F7/70258G01B11/002G01B11/026G01B11/26G01D5/347G03F7/70825G03F7/7085
    • Es wird eine Sensoranordnung zur Ermittlung einer jeweiligen Position einer Anzahl von Spiegeln (M1 –M6) einer Lithographieanlage (100) bereitgestellt, mit einer Anzahl von Positionssensorvorrichtungen (140), wobei die jeweilige Positionssensorvorrichtung (140) eine Lichtquelle (203) zur Belichtung einer Messeinheit (201) mit einem modulierten Lichtstrahl, die Messeinheit (201) zur Bereitstellung eines optischen Positionssignals einer Position eines Spiegels (M –M6) bei Belichtung durch den modulierten Lichtstrahl, und eine Detektionseinheit (204) mit einer Mehrzahl von Photodetektoren (205) zur Ausgabe eines elektrischen Positionssignals durch Detektion des bereitgestellten optischen Positionssignals umfasst, undeiner Auswertevorrichtung (304) zur Ermittlung der Position des Spiegels (M1 –M6) mittels des elektrischen Positionssignals. Durch die Verwendung der modulierten Belichtung kann die Verlustleistung reduziert werden, und es können die Rauscheigenschaften der Positionssignale verbessert werden. Die modulierte Belichtung erlaubt damiteine gute Signalqualität bei geringer mittlerer Verlustleistung. Ferner werden ein Verfahren zur Ermittlung einer jeweiligen Position einer Anzahl von Spiegeln einer Lithographieanlage, ein Projektionssystem einer Lithographieanlage und eine Lithographieanlage bereitgestellt.
    • 本发明提供一种传感器装置,用于确定多个具有多个位置传感器装置(140),其中,所述各自的位置传感器装置(140)包括用于测量单元的曝光光源(203)光刻系统(100)的反射镜(M1 -m6)中的相应的位置 (201)与一调制光束,用于在暴露于调制光束提供的反射镜(M -m6)的位置的光学位置信号的测量单元(201),和检测单元(204),其具有多个光电检测器(205),用于输出 包括由所述检测光学位置信号,安达评估装置(304),用于通过所述电位置信号的装置确定所述反射镜(M1 -m6)的位置的提供了一种电动位置信号。 通过使用经调制的曝光,功率损耗可以降低,并且可以提高位置信号的噪声特性。 调制光曝光允许维持低平均功耗良好的信号质量。 此外,用于确定在一个光刻设备的反射镜中的相应的位置的方法中,提供了光刻设备和光刻系统的投影系统。