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1. 发明申请

WO2011025256A2 증착가스 공급장치 审中-公开
标题翻译：沉积气供应装置
公开(公告)号：WO2011025256A2
公开(公告)日：2011-03-03
申请号：PCT/KR2010/005695
申请日：2010-08-25
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 이병일 , 박경완 , 강호영 , 김철호 , 송종호
发明人： 이병일 , 박경완 , 강호영 , 김철호 , 송종호
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： C23C16/4481
摘要： 반도체 소자나 평판 디스플레이 제조를 위한 박막 증착 공정 시에 매 증착 공정마다 균일한 양의 증착가스가 공급될 수 있도록 하는 증착가스 공급장치가 개시된다. 본 발명에 따른 증착가스 공급장치(100)는, 증착물질이 저장되는 증착물질 저장부(200), 증착물질에 열을 인가하여 증착가스를 발생시키는 증착물질 증발부(300) 및 운반가스를 공급하는 운반가스 공급부(400)를 포함하는 증착가스 공급장치(100)로서, 증착물질 저장부(200)와 증착물질 증발부(300) 사이에 배치되는 증착물질 공급부(500)를 더 포함하고, 증착물질 공급부(500)는 매 증착 공정 마다 증착물질 증발부(300)로 일정 양의 증착물질을 공급하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：公开了一种沉积气体供给装置，当进行薄膜沉积以制造半导体器件或平板显示器时，能够为每个沉积工艺提供恒定量的沉积气体。根据本发明的沉积气体供应装置（100）包括：沉积材料存储单元（200），其中存储沉积材料; 沉积材料蒸发单元（300），其向所述沉积材料施加热量以产生蒸发气体; 以及供给载气的载气供给单元（400）。沉积气体供给装置（100）还包括插入在沉积材料存储单元（200）和沉积材料蒸发单元（300）之间的沉积材料供应单元（500）。沉积材料供给单元（500）为每个沉积处理向沉积材料蒸发单元（300）供应恒定量的沉积材料。

2. 发明申请

WO2011065688A3 다결정 실리콘 형성 장치 및 그 방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2011065688A3
公开(公告)日：2011-06-03
申请号：PCT/KR2010/007872
申请日：2010-11-09
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 이병일 , 박경완 , 허관선 , 강호영 , 송종호
发明人： 이병일 , 박경완 , 허관선 , 강호영 , 송종호
IPC分类号： C30B33/02
摘要： 다결정 실리콘 형성 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 장치는, 기판 상에 형성된 비정질 실리콘을 열처리하여 다결정 실리콘을 형성하는 장치로서, 비정질 실리콘을 예열(pre-heating)하는 예열부(200); 및 예열부(200)에서 예열된 비정질 실리콘을 결정화 열처리하는 열처리부(300)를 포함하는 것을 특징으로 한다.

3. 发明申请

WO2011136604A3 기판 처리 장치 审中-公开
公开(公告)号：WO2011136604A3
公开(公告)日：2011-11-03
申请号：PCT/KR2011/003193
申请日：2011-04-29
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 강호영 , 송종호
发明人： 강호영 , 송종호
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/683
摘要： 기판 처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 기판 홀더의 사용이 필수적으로 요구되는 공정에만 기판 홀더가 이용되므로, 기판의 처리 공정의 효율성이 향상되는 효과가 있다. 또한, 복수개의 기판을 동시에 처리하므로, 기판의 처리 공정의 생산성이 향상되는 효과가 있다. 또한, 기판의 냉각이 이루어지는 냉각부의 공간 활용을 극대화하는 효과가 있다. 또한, 기판과 기판 홀더의 분리 과정에서 기판 홀더의 관통홀과 기판 지지핀의 얼라인이 맞지 않아 발생하는 기판 및/또는 기판 홀더의 파손이 방지되는 효과가 있다.

4. 发明申请

WO2012105786A3 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛 审中-公开
公开(公告)号：WO2012105786A3
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：PCT/KR2012/000715
申请日：2012-01-31
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 강호영 , 박경완 , 조병호 , 박주영
发明人： 강호영 , 박경완 , 조병호 , 박주영
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/324 , G02F1/13
摘要： 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛이 개시된다. 본 발명에 따른 기판 지지용 보트 및 지지유닛은 기판의 전체면이 균일하게 지지되므로, 기판의 처리시 기판이 자중에 의하여 처지는 것이 방지된다. 그러므로, 기판을 처리하여도, 기판의 특성 변화가 없으므로, 기판의 처리공정의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.

5. 发明申请

WO2012105785A2 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛 审中-公开
标题翻译：支持基板和支持单元的船
公开(公告)号：WO2012105785A2
公开(公告)日：2012-08-09
申请号：PCT/KR2012/000714
申请日：2012-01-31
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 강호영 , 박경완 , 조병호 , 박주영
发明人： 강호영 , 박경완 , 조병호 , 박주영
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/324 , G02F1/13
CPC分类号： H01L21/67309 , H01L21/6734
摘要： 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛이 개시된다. 본 발명에 따른 기판 지지용 보트 및 이를 사용한 지지유닛은 복수의 제 1 및 제 2 지지핀에 의하여 기판의 전체면이 균일하게 지지되므로, 기판의 처리시 기판이 자중에 의하여 처지는 것이 방지된다. 그러므로, 기판을 처리 하여도, 기판의 특성 변화가 없으므로, 기판의 처리공정의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.
摘要翻译：公开了一种用于支撑基板的船和使用其的支撑单元。根据本发明的用于支撑基板的船和使用该基板的支撑单元能够使用多个第一支撑销和第二支撑销均匀地支撑基板的整个表面，从而防止由于皮重而引起的基板的下垂当处理基材时。因此，即使在处理时，由于基板的特性也不会发生变化，所以提高了基板的处理工艺的可靠性。

6. 发明申请

WO2012030032A1 배치식 기판 처리 장치 审中-公开
标题翻译：批量类型基板处理装置
公开(公告)号：WO2012030032A1
公开(公告)日：2012-03-08
申请号：PCT/KR2011/001318
申请日：2011-02-25
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 송종호 , 강호영
发明人： 송종호 , 강호영
IPC分类号： H01L21/324
CPC分类号： H01L21/6734 , H01L21/67303 , H01L21/67309
摘要： 배치식 기판 처리 장치가 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 배치식 기판 처리 장치(1)는 기판(10)을 처리하는 기판 처리부(400); 기판(10)을 이송하는 이송부(200, 300); 및 기판(10) 처리된 기판(10)을 냉각하는 냉각부(500)를 포함하며, 기판 처리부(400)는, 기판(10)이 기판(10) 처리되는 공간을 제공하는 챔버(430); 챔버(430)의 내부에 설치되고, 기판(10)이 다층으로 적재되는 보트(440); 보트(440)에 다층으로 탈착 가능하게 설치되며, 기판(10)을 지지하는 홀더(450); 및 홀더(450) 상에 구비되어 기판(10)을 지지하는 복수개의 기판 지지대(460)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：公开了一种间歇式基板处理装置。根据本发明的一个实施例的分批式基板处理装置（1）包括：用于处理基板（10）的基板处理单元（400）; 用于输送基板（10）的输送单元（200,300）; 以及用于冷却已经被处理的基板（10）的基板（10）的冷却单元（500），其中所述基板处理单元（400）包括：提供用于处理所述基板的基板（10）的空间的室（430） 10）; 安装在所述室（430）内的船（440），并且其中所述基板（10）装载在多层中; 保持器（450），其以可附接/可拆卸的方式多层安装在所述船（440）上，并且支撑所述基板（10）; 以及设置在所述保持器（450）上以支撑所述基板（10）的多个基板支架（460）。

7. 发明申请

WO2012141459A2 기판 지지용 지지유닛 审中-公开
标题翻译：支持基地的支持单位
公开(公告)号：WO2012141459A2
公开(公告)日：2012-10-18
申请号：PCT/KR2012/002668
申请日：2012-04-09
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 강호영 , 조병호 , 박주영 , 김철호
发明人： 강호영 , 조병호 , 박주영 , 김철호
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/324 , H01L21/673 , G02F1/13
CPC分类号： H01L21/6734
摘要： 기판의 처리시 기판이 처짐에 의하여 변형되는 것을 방지한 기판 지지용 지지유닛이 개시된다. 본 발명에 따른 기판 지지용 지지유닛은, 기판의 처리시, 기판의 전체면이 복수의 지지핀에 의하여 균일하게 지지되므로, 기판이 자중에 의하여 휘어서 변형될 우려가 없다. 따라서, 평판 디스플레이의 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.
摘要翻译：公开了一种用于支撑基板的支撑单元，其防止基板在基板的处理期间下垂或变形。根据本发明的用于支撑衬底的支撑单元由于衬底的重量而防止衬底翘曲或变形，因为衬底的整个表面在衬底的处理期间被多个支撑翅片均匀地支撑。因此，可以提高平板显示器的可靠性。

8. 发明申请

WO2012169754A2 기판 처리 장치 审中-公开
标题翻译：基板处理装置
公开(公告)号：WO2012169754A2
公开(公告)日：2012-12-13
申请号：PCT/KR2012/004397
申请日：2012-06-04
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 강호영 , 조병호
发明人： 강호영 , 조병호
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/324 , G02F1/13
CPC分类号： H01L21/324 , H01L21/6719 , H01L21/6776 , H01L21/68742
摘要： 기판 처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 홀더는 챔버에 배치되어 남아있고, 기판만이 챔버에 로딩되고 챔버로부터 언로딩된다. 따라서, 홀더를 재가열하기 위한 에너지 및 시간이 상대적으로 적게 소요되므로, 기판 처리 공정의 생산성이 향상되는 효과가 있다.
摘要翻译：提供了一种基板处理装置。在根据本发明的基板处理装置中，保持器设置成保持在室内，并且仅将基板装载到室中或者从室卸载。因此，由于重新加热保持器所需的能量和时间相对较少，所以可以提高基板处理工艺中的生产率。

9. 发明申请

WO2010008211A2 배치식 열처리 장치 및 이에 적용되는 히터 审中-公开
标题翻译：批量式热处理设备和应用于其上的加热器
公开(公告)号：WO2010008211A2
公开(公告)日：2010-01-21
申请号：PCT/KR2009/003909
申请日：2009-07-16
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 허관선 , 강호영
发明人： 허관선 , 강호영
IPC分类号： H01L21/324
CPC分类号： H01L21/67109 , H01L21/6734
摘要： 복수개의 기판을 동시에 열처리할 수 있으며 각 기판은 상기 각 기판에 대응하는 복수개의 히터에 의해 가열되는 배치식 열처리 장치 및 이에 적용되는 히터가 개시된다. 본 발명에 따른 배치식 열처리 장치는 복수개의 기판(10)에 대하여 열처리 공간을 제공하는 챔버(100); 복수개의 기판(10)이 로딩되어 지지되는 보트(108); 및 기판(10)의 적층 방향을 따라 일정 간격을 가지면서 배치되는 복수개의 메인 히터 유닛(120) - 메인 히터 유닛(120)은 복수개의 단위 메인 히터(200)를 포함함 - 을 포함하고, 기판(10)은 복수개의 메인 히터 유닛(120) 사이에 배치되는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：
可以是热处理的同时多个基板，每个基板是间歇式热加工装置的，因此加热要被施加由多个对应于各基板的加热器的加热被公开。根据本发明的分批式热处理设备包括：腔室100，用于为多个基板10提供热处理空间; 装载并支撑多个基板10的舟皿108; 和所述衬底中的多个主加热器单元120，其是10布置，同时具有沿着所述-主加热器单元120的层叠方向上的预定距离的包括多个主加热器200的单元 - 包括基板（10）设置在多个主加热器单元（120）之间。

10. 发明申请

WO2010110558A3 인라인 열처리 장치 审中-公开
公开(公告)号：WO2010110558A3
公开(公告)日：2010-09-30
申请号：PCT/KR2010/001736
申请日：2010-03-22
申请人： 주식회사 테라세미콘 , 강호영
发明人： 강호영
IPC分类号： H01L21/324 , G02F1/13
摘要： 열처리를 위해 기판을 챔버로 로딩 및 언로딩하는 구동 롤러의 회전축에 히터를 설치하여 기판에 대한 균일한 열처리를 수행할 수 있고 챔버 내부의 공간 활용도를 높일 수 있는 인라인 열처리 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 인라인 열처리 장치는, 기판을 연속적으로 열처리할 수 있는 인라인 열처리 장치로서, 기판에 대한 열처리 공간을 제공하며 전후에 개구가 대향하여 형성되어 있는 챔버(110); 기판을 지지하면서 이동시키는 구동 롤러(122)와 구동 롤러(122)를 관통하는 중공 형태의 회전축(124)을 포함하는 구동 롤러 유닛(120); 및 회전축(124)의 내측에 배치되는 히터(130)를 포함하고, 구동 롤러 유닛(120)은 기판의 이동 방향을 따라 복수개로 설치되어 챔버(110)로 기판을 로딩 및 챔버(110)로부터 기판을 언로딩하며, 히터(130)의 양단은 챔버(110)의 외벽에 고정되어 회전축(124)의 동작과 연동되지 않는 것을 특징으로 한다.

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