专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR101412329B1 감방사선성 수지 조성물, 중합체 및 레지스트 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：辐射敏感树脂组合物，聚合物和电阻图案形成方法
公开(公告)号：KR101412329B1
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：KR1020127009977
申请日：2010-11-16
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 기리도시,유코 , 나루오카,다케히코 , 니시무라,유키오 , 아사노,유스케 , 가와카미,다카노리 , 나카시마,히로미츠
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/00 , C08F220/22
CPC分类号： C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C08L101/00
摘要： 본 발명은 양호한 패턴 형상을 얻을 수 있고, MEEF 성능이 우수하며, 브리지 등의 결함이 발생하기 어려운 감방사선성 수지 조성물, 그 감방사선성 수지 조성물에 적절하게 사용되는 중합체 및 그 감방사선성 수지 조성물을 사용하는 패턴 형성 방법을 제공하는 것을 목적으로 하고, [A] 하기 화학식 (1-1) 및 (1-2)로 각각 나타내는 복수개의 구조 단위로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 구조 단위 (I)을 갖고, 불소 원자 함유량이 5질량% 이상인 중합체, [B] 산 해리성기를 갖고, 불소 원자 함유량이 5질량% 미만인 중합체 및 [C] 감방사선성 산발생제를 함유하는 감방사선성 수지 조성물이다.

2. 发明公开

KR1020110010095A 액침 노광용 감방사선성 수지 조성물, 중합체 및 레지스트 패턴 형성 방법 无效
标题翻译：用于液体暴露的辐射敏感性树脂组合物，聚合物和形成耐蚀图案的方法
公开(公告)号：KR1020110010095A
公开(公告)日：2011-01-31
申请号：KR1020107025829
申请日：2009-05-18
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 마츠무라,노부지 , 소야노,아키마사 , 아사노,유스케 , 나루오카,다케히코 , 사카키바라,히로카즈 , 시미즈,마코토 , 니시무라,유키오
IPC分类号： G03F7/039 , C08F20/28 , C07C69/96 , H01L21/027
CPC分类号： C07C69/96 , C08F220/18 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , C08F20/28 , C08F220/22 , C08F220/28 , H01L21/0275
摘要： 본 발명의 목적은, 방사선에 대한 투명성이 높고, 감도 등의 레지스트로서의 기본 물성이 우수함과 동시에, 최소 도괴 치수(붕괴)가 우수하고, 액침 노광 공정에 있어서의 패턴 형상의 변동이 개선된 액침 노광용 감방사선성 수지 조성물, 중합체 및 레지스트 패턴 형성 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 액침 노광용 감방사선성 수지 조성물은 (A) 수지 성분, (B) 감방사선성 산발생제, 및 (C) 용제를 함유하며, (A) 수지 성분은 상기 (A) 수지 성분을 100 질량％로 한 경우에 측쇄에 불소 원자와 산해리성기를 갖는 반복 단위 (a1)을 함유하는 산해리성기 함유 수지 (A1)을 50 질량％를 초과하여 함유한다.

3. 发明授权

KR102248827B1 감방사선성 수지 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법, 산 발생체 및 화합물 有权
公开(公告)号：KR102248827B1
公开(公告)日：2021-05-07
申请号：KR1020140060303
申请日：2014-05-20
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 도미오카,히로시 , 기모토,다카카즈 , 아사노,유스케
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039
摘要： 본발명은 LWR 성능이우수한감방사선성수지조성물의제공을목적으로한다. 본발명의해결수단은산 해리성기를포함하는구조단위를갖는중합체, 및산 발생체를함유하고, 상기산 발생체가 SO3-를포함하고, 이 SO3-의α 위치의탄소원자에수소원자또는전자공여기가결합하고, β위치의탄소원자에 1개의전자구인기가결합하여이루어지는술포네이트음이온과, 방사선분해성오늄양이온을갖는화합물을포함하는감방사선성수지조성물이다. 상기화합물은하기화학식 (1-1) 또는 (1-2)로표시되는기를갖는것이바람직하다. 하기화학식 (1-1) 및 (1-2) 중, R1 및 R2는각각독립적으로수소원자또는 1가의전자공여기이다. R3은 1가의전자구인기이다. R4는수소원자또는 1가의탄화수소기이다. TIFF112014047219608-pat00054.tif3589

4. 发明授权

KR101368585B1 감방사선성 수지 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법, 화합물 및 중합체 有权
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，形成抗蚀剂图案，化合物和聚合物的方法
公开(公告)号：KR101368585B1
公开(公告)日：2014-02-28
申请号：KR1020117029913
申请日：2010-06-15
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 아사노,유스케 , 가와카미,다카노리
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , C08F20/22
CPC分类号： C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要： 본 발명은 물 등의 액침 노광액에 대한 후퇴 접촉각이 크고, 현상 결함이 생기기 어려운 레지스트 피막의 재료이며, (A) 산 해리성기를 갖는 반복 단위를 포함하고, 상기 산 해리성기가 해리됨으로써 알칼리 가용성으로 되는 중합체와, (B) 감방사선성 산 발생제를 함유하며, 산 해리성기가 하기 화학식 1로 표시되는 구조를 갖는 것인 감방사선성 수지 조성물에 관한 것이다.

[화학식 1에서, R
1 은 메틸기 등이고, R
2 는 환상 구조를 형성하는 탄화수소기이고, R
3 은 불소 원자 등이고, R
4 는 탄소 원자이고, n
1 은 1 내지 7의 정수이다.]

5. 发明公开

KR1020120033267A 감방사선성 수지 조성물, 중합체 및 화합물 审中-实审
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，聚合物和化合物
公开(公告)号：KR1020120033267A
公开(公告)日：2012-04-06
申请号：KR1020110098198
申请日：2011-09-28
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 나카하라,가즈오 , 사토,미츠오 , 아사노,유스케
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , C08F12/20
CPC分类号： C07C255/20 , C07C205/52 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F220/42 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , C08F12/20 , G03F7/0045 , G03F7/0392
摘要： PURPOSE: Radiation sensitive resin composition, polymer, and compound are provided to improve the hydrophobicity of a film surface and to shorten required for reducing the hydrophobicity of the film surface after an immersion exposing process. CONSTITUTION: A radiation sensitive resin composition includes polymer and a radiation-sensitive acid generator. The polymer includes a repeating unit and further includes fluorine atoms. The repeating unit includes a group which is represented by one of chemical formula 1-1 to chemical formula 1-3. In chemical formulas, Rp is monovalent organic group; Z1 is carbon atom; Z2 is trivalent group forming a cyclic hydrocarbon group with the Z1; and the Q0 is respectively hydrogen or monovalent group. In chemical formula 1-3, the Q0 represents monovalent organic group with an electron accepting group.
摘要翻译：目的：提供辐射敏感性树脂组合物，聚合物和化合物，以改善膜表面的疏水性，并缩短浸渍曝光工艺后降低膜表面的疏水性所需的量。构成：辐射敏感树脂组合物包括聚合物和辐射敏感的酸发生剂。聚合物包括重复单元并且还包含氟原子。重复单元包括由化学式1-1至化学式1-3之一表示的基团。化学式中，Rp为单价有机基团; Z1是碳原子; Z2是与Z1形成环状烃基的三价基团; Q0分别为氢或一价基团。在化学式1-3中，Q0表示具有电子接受基团的一价有机基团。

6. 发明公开

KR1020120011815A 감방사선성 수지 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법, 중합체 및 화합물 有权
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，形成耐火图案，聚合物和化合物的方法
公开(公告)号：KR1020120011815A
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：KR1020110073877
申请日：2011-07-26
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 아사노,유스케 , 사토,미츠오
IPC分类号： G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： C08F214/18 , C07C69/653 , C08F220/18 , C08F220/22 , C08F220/28 , C08F220/30 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , H01L21/027 , H01L21/0271
摘要： PURPOSE: A radiation-sensitive resin composition, a resist pattern forming method, polymer, and compounds are provided to efficiently form resist patterns by improving surface wettability in a short period of time. CONSTITUTION: A radiation-sensitive resin composition includes a fluorine-containing compound and a radiation-sensitive acid generator. The fluorine-containing compound includes a group represented by chemical formula 1. In the chemical formula 1, the RC is p+1-valent aromatic cyclic group which is capable of being substituted. The Q is a linker which is one of monovalent hydrophilic groups except for one hydrogen atom. The RE is C1 to C10 hydrocarbon group which is capable of including hydrogen or fluorine. The p is the integer of 1 to 5. If the p is 2 to 5, a plurality of Qs and REs respectively follows the pre-determined definition. The * is a linkage.
摘要翻译：目的：提供辐射敏感性树脂组合物，抗蚀剂图案形成方法，聚合物和化合物，以通过在短时间内改善表面润湿性来有效地形成抗蚀剂图案。构成：辐射敏感性树脂组合物包含含氟化合物和辐射敏感性酸产生剂。含氟化合物包括由化学式1表示的基团。在化学式1中，RC是能够被取代的p + 1价芳香族环状基团。 Q是除了一个氢原子以外的单价亲水基团之一的接头。 RE是能够包含氢或氟的C1至C10烃基。 p是1到5的整数。如果p是2到5，则多个Q和RE分别遵循预定义的定义。 *是一个联动。

7. 发明授权

KR101868143B1 감방사선성 수지 조성물, 중합체 및 화합물 有权
公开(公告)号：KR101868143B1
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：KR1020110098198
申请日：2011-09-28
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 나카하라,가즈오 , 사토,미츠오 , 아사노,유스케
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , C08F12/20
CPC分类号： C07C255/20 , C07C205/52 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F220/42 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要： 본발명의목적은액침노광시에피막표면의소수성을높게하면서, 액침노광후의소수성의저하에요하는시간의단축을도모하는것이다. 본발명은하기화학식 (1-1) 내지 (1-3) 중어느하나로표시되는기를갖는반복단위 (a1)을포함하고, 불소원자를더 포함하는중합체 [A]와, 감방사선성산 발생제 [B]를함유하는감방사선성수지조성물을제공한다.

8. 发明授权

KR101751555B1 감방사선성 수지 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법, 중합체 및 중합성 화합물 有权
公开(公告)号：KR101751555B1
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：KR1020127004184
申请日：2010-09-17
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 아사노,유스케 , 사토,미츠오 , 나카시마,히로미츠 , 가사하라,가즈키 , 오이즈미,요시후미 , 호리,마사후미 , 가와카미,다카노리 , 마츠다,야스히코 , 나카하라,가즈오
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , C08F20/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0392 , C08F20/22 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/30 , G03F7/32
摘要： 본발명은산해리성기를갖는중합체 (A)와, 방사선조사에의해산을발생하는산 발생제 (B)와, 하기화학식 (x)로표시되는관능기및 불소원자를갖는중합체 (C)를함유하고, 상기중합체 (C)는상기중합체 (A)보다불소원자함유량이높은중합체인감방사선성수지조성물을제공한다.[화학식 (x) 중, R은알칼리해리성기를나타내고, A는산소원자(단, 방향환, 카르보닐기및 술폭실기에직결하는것을제외함), 이미노기, -CO-O-* 또는 -SO-O-*("*"은 R에결합하는결합손을나타냄)를나타냄]

9. 发明公开

KR1020140136398A 감방사선성 수지 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법, 산 발생체 및 화합물 审中-实审
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，形成耐蚀图案，酸发生剂和化合物的方法
公开(公告)号：KR1020140136398A
公开(公告)日：2014-11-28
申请号：KR1020140060303
申请日：2014-05-20
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 도미오카,히로시 , 기모토,다카카즈 , 아사노,유스케
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/039
摘要： 본 발명은 LWR 성능이 우수한 감방사선성 수지 조성물의 제공을 목적으로 한다.
본 발명의 해결 수단은 산 해리성기를 포함하는 구조 단위를 갖는 중합체, 및 산 발생체를 함유하고, 상기 산 발생체가 SO
3
- 를 포함하고, 이 SO
3
- 의 α 위치의 탄소 원자에 수소 원자 또는 전자 공여기가 결합하고, β 위치의 탄소 원자에 1개의 전자 구인기가 결합하여 이루어지는 술포네이트 음이온과, 방사선 분해성 오늄 양이온을 갖는 화합물을 포함하는 감방사선성 수지 조성물이다. 상기 화합물은 하기 화학식 (1-1) 또는 (1-2)로 표시되는 기를 갖는 것이 바람직하다. 하기 화학식 (1-1) 및 (1-2) 중, R
1 및 R
2 는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 1가의 전자 공여기이다. R
3 은 1가의 전자 구인기이다. R
4 는 수소 원자 또는 1가의 탄화수소기이다.
摘要翻译：本发明的目的是提供具有良好的LWR性能的辐射敏感性树脂组合物。本发明的溶液是包含具有含有酸解离基团的结构单元的聚合物和酸产生剂的辐射敏感性树脂组合物，其中酸产生剂包括SO 3 - 。氢原子或给电子基团与SO_3 - 的α位上的碳原子合并，一个吸电子基团与SO_3 - 的β位上的碳原子结合，辐射敏感树脂组合物包括包含可分解的鎓阳离子的化合物。该化合物优选包括由下式（1-1）或（1-2）表示的基团。在下式（1-1）和（1-2）中，R 1和R 2独立地是氢原子或一价的给电子基团。 R 3是单价吸电子基团。 R 4是氢原子或一价烃基。

10. 发明公开

KR1020140121789A 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법 및 레지스트용 용매 审中-实审
标题翻译：电阻组合物，形成电阻图案的方法和电阻溶剂
公开(公告)号：KR1020140121789A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：KR1020140041038
申请日：2014-04-07
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 아사노,유스케 , 나카무라,신이치 , 후타이,도모노리
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/038 , G03F7/0045 , G03F7/0048 , G03F7/039 , G03F7/0397
摘要： 본 발명의 과제는 LWR 성능, CDU 성능 및 결함 억제성이 우수함과 동시에, 도포성 및 보존 안정성도 우수한 레지스트 조성물의 제공을 목적으로 한다.
본 발명의 해결수단은 산 해리성기를 포함하는 구조 단위를 갖는 중합체, 감방사선성 산 발생체 및 용매를 함유하고, 상기 용매가 케톤성 카르보닐기와 알코올성 수산기를 갖는 화합물을 포함하는 레지스트 조성물이다. 상기 알코올성 수산기는 3급인 것이 바람직하다. 상기 용매가 알킬렌글리콜모노알킬에테르카르복실레이트 화합물을 더 포함하는 것이 바람직하다.
摘要翻译：本发明的目的是提供具有改进的LWR性能，CDU性能，缺陷抑制性能，适用性和储存稳定性的抗蚀剂组合物。本发明的解决方案是一种抗蚀剂组合物，其包含具有包含酸解离基团，辐射产酸材料和溶剂的单元结构的聚合物，其中溶剂具有酮羰基和醇的化合物羟基。醇羟基优选为叔。溶剂还优选包括亚烷基二醇单烷基醚羧酸酯化合物。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式