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1. 发明公开

KR1020170112792A 터치스크린패널 및 터치스크린패널의 전극보호층 형성용 코팅 조성물 审中-实审
标题翻译：一种用于形成触摸屏面板和触摸屏面板的电极保护层的涂料组合物
公开(公告)号：KR1020170112792A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：KR1020160040400
申请日：2016-04-01
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 장원영 , 박대출
IPC分类号： G06F3/041 , C09D4/00 , C09D7/12
CPC分类号： G06F3/041 , C09D4/00 , C09D7/63 , G06F2203/04103
摘要： 본발명은기판; 상기기판위에형성된센싱전극, 배선전극및 FPCB 접합패드부를포함하는전극형성층; 및상기 FPCB 접합패드부와접합된 FPCB 기판을포함하며, 상기전극형성층상에하기화학식1의화합물을포함하는전극보호층이형성된터치스크린패널을제공한다:상기식에서 R1은수소원자, C1~C6의직쇄또는분지쇄알킬기, C1~C6의플루오르알킬기, 또는 C1~C6의퍼플루오르알킬기이다.
摘要翻译：基板本发明涉及基板，电极形成层，包括形成在所述基板上的感测电极，布线电极和FPCB接合焊盘部分; 和FPCB包括焊盘部分和接合FPCB基板，并且提供了一种触摸屏面板中，电极保护层，以形成电极层包含式（I）的化合物形成，其中：R1隐士希望在这里，C1〜C6 直链或支链烷基，C1-C6氟烷基或C1-C6全氟烷基。

2. 发明公开

KR1020170112056A 필름 터치 센서 审中-实审
标题翻译：薄膜触摸传感器
公开(公告)号：KR1020170112056A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：KR1020160038562
申请日：2016-03-30
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 장원영 , 최병진
IPC分类号： G06F3/041 , G06F3/044
摘要： 본발명은필름터치센서에관한것으로, 보다상세하게는기재필름; 및상기기재필름상측에제1 방향으로단위패턴이이음부로연결되어위치한제1 패턴및 제2 방향으로단위패턴이이격되어위치한제2 패턴을포함하는감지패턴;을포함하며, 상기기재필름의수축방향과상기제1 방향이이루는각도가 0° 내지 ±45°가되도록함으로써, 전극패턴의크랙발생을줄여터치불량을최소화할 수있는필름터치센서에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种薄膜触摸传感器，更具体地说，以及形成在所述基膜上的感测图案，所述感测图案包括第一图案和第二图案，所述单元图案在第一方向和第二方向上彼此间隔开，并且第一方向与第一方向所成的角度为0°〜+ / 45°，由此减少了电极图案中出现裂纹并使触摸失败最小化。

3. 发明公开

KR1020160107494A 광학 적층체 및 이의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：光学层压板及其制备方法
公开(公告)号：KR1020160107494A
公开(公告)日：2016-09-19
申请号：KR1020150030291
申请日：2015-03-04
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 채승진 , 장원영
IPC分类号： B32B15/08 , H01B5/14
CPC分类号： B32B15/08 , G06F3/044 , H01B5/14
摘要： 본발명은광학적층체및 이의제조방법에관한것으로, 보다상세하게는기판및 상기기판일면에위치한금속나노와이어패턴을포함하며, 상기기판상의비패턴부의헤이즈가 6% 이하로써, 낮은헤이즈및 높은투과율을나타내며, 비패턴부의금속나노와이어잔사에의해발생하는합선(short circuit)을방지할수 있는광학적층체및 이의제조방법에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种光学层叠体及其制备方法。光学层压板包括：基板; 和位于基板的一个表面上的金属纳米线图案。因此，基板上的非图案部分的雾度小于或等于6％时，光学层叠体具有低雾度和高磁导率; 并且防止由非图案部分的金属纳米线残留引起的短路。

4. 发明公开

KR1020150008518A 비표시부 패턴 형성용 조성물 审中-实审
标题翻译：用于形成不显示部分的图案的组合物
公开(公告)号：KR1020150008518A
公开(公告)日：2015-01-23
申请号：KR1020130081706
申请日：2013-07-11
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 전지민 , 장원영 , 최용석
IPC分类号： C09D11/00 , C09D11/10 , G02F1/13
CPC分类号： C09D11/00 , C09D11/033 , C09D11/10 , G02F1/13
摘要： 본 발명은 비표시부 패턴 형성용 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 이소시아네이트기를 갖는 실란 화합물을 포함함으로써, 내화학성이 현저히 개선되어 다수의 화학 약품에 노출되는 후공정을 거쳐도 우수한 밀착성을 갖는 패턴을 형성할 수 있는 비표시부 패턴 형성용 조성물에 관한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于形成非显示部分的图案的组合物。更具体地，组合物包括具有异氰酸酯基团的硅烷化合物，因此具有显着增加的耐药性。因此，组合物可用于形成图案，即使在将图案暴露于多种化学品的后处理之后也具有优异的粘附性。具有异氰酸酯基的硅烷化合物是选自3-（三乙氧基甲硅烷基）丙基异氰酸酯，（三甲基甲硅烷基）异氰酸酯，四异氰酸酯硅烷，甲基三异氰酸酯硅烷，单甲氧基 - 三异氰酸酯硅烷和γ-异氰酸酯丙基三甲氧基硅烷中的至少一种。

5. 发明公开

KR1020130040568A 롤 프린팅용 수지 조성물 및 이로부터 제조되는 절연막 有权
标题翻译：用于从其制备的辊式印刷和绝缘层的树脂组合物
公开(公告)号：KR1020130040568A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：KR1020110105421
申请日：2011-10-14
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 장원영 , 전지민 , 최용석 , 박근영
IPC分类号： C08L33/08 , H01B3/44 , G02F1/13
CPC分类号： C08L33/02 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F265/06 , C09D11/02 , G02F1/13 , H01B3/44
摘要： PURPOSE: A resin composition for roll printing is provided to have excellent adhesion, chemical resistance, and printability, and to form an insulating film between layers of a liquid crystal display. CONSTITUTION: A resin composition for roll printing comprises: a copolymer which is represented by chemical formula 1 and chemical formula 2; a photopolymerization initiator represented by chemical formula 3; an acrylate-based monomer; and a solvent. In the chemical formulas: Each of the R1 and R2 is hydrogen or a methyl group; each of R3, R4, and R5 is hydrogen, halogen, a substituted or unsubstituted C2-18 linear, branched, cyclic alkyl group, a carboxyl group, a mercapto group, a cyano group, a hydroxyl group, a nitro group, a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted benzyl group, or a substituted or unsubstituted naphthyl group.
摘要翻译：目的：提供一种用于辊印的树脂组合物以具有优异的粘附性，耐化学性和可印刷性，并且在液晶显示器的层之间形成绝缘膜。构成：用于辊印的树脂组合物包括：由化学式1和化学式2表示的共聚物; 由化学式3表示的光聚合引发剂; 丙烯酸酯类单体; 和溶剂。在化学式中：R1和R2各自为氢或甲基; R3，R4和R5各自为氢，卤素，取代或未取代的C2-18直链，支链，环状烷基，羧基，巯基，氰基，羟基，硝基，取代或未取代的苯基，取代或未取代的苯基，取代或未取代的苄基或取代或未取代的萘基。

6. 发明公开

KR1020110051837A 포지티브 포토레지스트 조성물 无效
标题翻译：积极的光电组成
公开(公告)号：KR1020110051837A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：KR1020090108620
申请日：2009-11-11
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 임민주 , 이은상 , 장원영 , 윤종흠
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0048 , G03F7/022 , G03F7/0226 , G03F7/0236 , G03F7/075 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/425
摘要： PURPOSE: A positive type photo-resist composition is provided to improve the dispersibility of the composition on a large-sized substrate by preventing a pattern delamination phenomenon and a pattern collapse phenomenon in a developing process or an etching process. CONSTITUTION: A positive type photo-resist composition includes 10 to 30 weight% of an alkaline soluble resin, 1 to 15 weight% of a photosensitive compound, 0.01 to 0.1 weight% of a compound represented by chemical formula 1, and a solvent. In the chemical formula 1, R1, R2, and R3 are respectively hydrogen or halogen element. R4 and R5 are respectively hydrogen or C1 to C4 alkoxy group. The alkaline soluble resin is novolak resin.
摘要翻译：目的：提供一种正型光致抗蚀剂组合物，以通过在显影过程或蚀刻工艺中防止图案分层现象和图案塌陷现象来改善组合物在大尺寸基材上的分散性。构成：正型光致抗蚀剂组合物包含10〜30重量％的碱溶性树脂，1〜15重量％的感光性化合物，0.01〜0.1重量％的化学式1表示的化合物和溶剂。在化学式1中，R1，R2和R3分别是氢或卤素元素。 R4和R5分别是氢或C1-C4烷氧基。碱溶性树脂是酚醛清漆树脂。

7. 发明公开

KR1020110041128A 포토레지스트 조성물 无效
标题翻译：光电组合物
公开(公告)号：KR1020110041128A
公开(公告)日：2011-04-21
申请号：KR1020090098172
申请日：2009-10-15
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 진성열 , 김용일 , 장원영
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/027 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/20 , G03F7/2002
摘要： PURPOSE: A photo-resist composition is provided to maintain the remaining rate of photo-resist and the resolution of patterns regardless of h-line light source. CONSTITUTION: A photo-resist composition includes alkaline soluble resin, a photo-polymerizable compound, a photo-polymerization initiator, and a compound represented by chemical formula 1, and a solvent. In the chemical formula 1, X is NR5R6 group or C5 to C12 of aryl group. R1 to R6 are respectively selected from hydrogen, CH_2OH group, and CH_2OR7 group. R7 is C1 to C5 of alkyl group. The alkaline soluble resin is copolymer including a unit derived from unsaturated carboxylic acid and a unit derived from a saturated compound with oxetanyl group, excluding unsaturated carboxylic acid.
摘要翻译：目的：提供光致抗蚀剂组合物，以保持光致抗蚀剂的剩余速率和图案的分辨率，而不管h线光源如何。构成：光致抗蚀剂组合物包括碱溶性树脂，光聚合性化合物，光聚合引发剂和由化学式1表示的化合物和溶剂。在化学式1中，X为NR 5 R 6基团或芳基的C 5〜C 12。 R1至R6分别选自氢，CH 2 OH基和CH 2 OR 7基。 R7是烷基的C1至C5。碱溶性树脂是包含来自不饱和羧酸的单元和衍生自具有氧杂环丁烷基的饱和化合物的单元的共聚物，不包括不饱和羧酸。

8. 发明公开

KR1020110040085A 포지티브 포토레지스트 조성물 无效
标题翻译：积极的光电组成
公开(公告)号：KR1020110040085A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：KR1020090097219
申请日：2009-10-13
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 장원영 , 윤종흠 , 진성열 , 성시진
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/022 , G03F7/0226 , G03F7/023 , G03F7/0233 , G03F7/0236 , G03F7/039 , G03F7/0397
摘要： PURPOSE: A positive photo-resist composition is provided to obtain the superior pattern profiles by preventing the generation of cracks while a wet type etching process is implemented. CONSTITUTION: A positive photo-resist composition includes a novolak resin, a photosensitive compound, and ester-based polyol, and a solvent. The ester-based polyol is represented by chemical formula 1. In the chemical formula 1, R1 and R2 are respectively selected from a group including phenyl group, benzyl group, C1 to C10 of linear or branched alkyl group, and C1 to C10 of linear or branched hydroxyalkyl group. The R1 and/or the R2 includes hydroxyl group. n is the integer of 1 to 20.
摘要翻译：目的：提供正光致抗蚀剂组合物以通过在实施湿式蚀刻工艺时防止产生裂缝来获得优异的图案轮廓。构成：正型光致抗蚀剂组合物包括酚醛清漆树脂，光敏化合物和酯基多元醇以及溶剂。酯基多元醇由化学式1表示。在化学式1中，R 1和R 2分别选自直链或支链烷基的苯基，苄基，C1〜C10，以及直链或支链烷基的C1〜C10 或支链羟烷基。 R1和/或R2包括羟基。 n为1〜20的整数。

9. 发明授权

KR102072599B1 롤 프린팅용 잉크 조성물 有权
公开(公告)号：KR102072599B1
公开(公告)日：2020-02-04
申请号：KR1020130081708
申请日：2013-07-11
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 전지민 , 장원영 , 최용석
IPC分类号： C09D11/03 , C09D11/037 , C09D11/033 , C08K5/55

10. 发明授权

KR102035490B1 롤 프린팅용 잉크 조성물 有权
公开(公告)号：KR102035490B1
公开(公告)日：2019-10-24
申请号：KR1020130104888
申请日：2013-09-02
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 전지민 , 장원영 , 최용석
IPC分类号： C09D11/10 , C09D11/037 , C09D11/033

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