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1. 发明专利

TW201419467A 烘烤處理系統审中-公开
简体标题：烘烤处理系统
公开(公告)号：TW201419467A
公开(公告)日：2014-05-16
申请号：TW102126466
申请日：2013-07-24
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：成島正樹 , NARUSHIMA, MASAKI , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI , 下茂文夫 , SHIMO, FUMIO , 小泉建次郎 , KOIZUMI, KENJIRO
IPC分类号： H01L23/34
CPC分类号： H01L51/0026 , H01L21/67161 , H01L21/67748 , H01L21/68742
摘要：烘烤處理系統(100)係具備：真空烘烤裝置((VB)1)，藉由外部之噴墨印刷裝置((IJ)200)對形成於基板(S)上之有機材料膜，以大氣壓以下的壓力進行燒成；搬送裝置(11)，將基板(S)搬送至真空烘烤裝置((VB)1)；搬送室((TR)10)，可收容搬送裝置(11)而進行眞空拉製；承載裝置((LL)20)，構成可切換大氣壓狀態與真空狀態；搬送裝置(31)，被配備於噴墨印刷裝置((IJ)200)與承載裝置((LL)20)之間的基板搬送路經且收授基板(S)。
简体摘要：烘烤处理系统(100)系具备：真空烘烤设备((VB)1)，借由外部之喷墨印刷设备((IJ)200)对形成于基板(S)上之有机材料膜，以大气压以下的压力进行烧成；搬送设备(11)，将基板(S)搬送至真空烘烤设备((VB)1)；搬送室((TR)10)，可收容搬送设备(11)而进行真空拉制；承载设备((LL)20)，构成可切换大气压状态与真空状态；搬送设备(31)，被配备于喷墨印刷设备((IJ)200)与承载设备((LL)20)之间的基板搬送路经且收授基板(S)。

2. 发明专利

TWI584426B 烘烤處理系統及有機EL元件之有機功能膜之層積體之製造方法有权
简体标题：烘烤处理系统及有机EL组件之有机功能膜之层积体之制造方法
公开(公告)号：TWI584426B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW102126466
申请日：2013-07-24
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：成島正樹 , NARUSHIMA, MASAKI , 林輝幸 , HAYASHI, TERUYUKI , 下茂文夫 , SHIMO, FUMIO , 小泉建次郎 , KOIZUMI, KENJIRO
IPC分类号： H01L23/34
CPC分类号： H01L51/0026 , H01L21/67161 , H01L21/67748 , H01L21/68742

3. 发明专利

TW201214599A 遮罩固持裝置及薄膜形成裝置 MASK HOLDING DEVICE AND FILM FORMATION DEVICE 审中-公开
简体标题：遮罩固持设备及薄膜形成设备 MASK HOLDING DEVICE AND FILM FORMATION DEVICE
公开(公告)号：TW201214599A
公开(公告)日：2012-04-01
申请号：TW100108767
申请日：2011-03-15
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：小野裕司 , 林輝幸 , 戶部康弘 , 下茂文夫
IPC分类号： H01L
CPC分类号： C23C14/042 , H01L51/0011
摘要：本發明提供一種遮罩固持裝置，其能以不讓遮罩產生皺褶的方式固持著遮罩，將不具有遮罩框之單體之遮罩運送到基板上，或是進行遮罩相對於基板的位置調整。於固持含有磁性材料並形成用以令薄膜於基板上形成圖案之開口的片狀遮罩之遮罩固持‧對位裝置5中，具有遮罩磁性吸附板54，其藉由配置於一面側的複數個永久磁石，而使遮罩磁性吸附於另一面側；該複數個永久磁石，在該遮罩磁性吸附板54的另一面側中的第1區域之磁場分布，與該另一面側中的第2區域之磁場分布相異。
简体摘要：本发明提供一种遮罩固持设备，其能以不让遮罩产生皱褶的方式固持着遮罩，将不具有遮罩框之单体之遮罩运送到基板上，或是进行遮罩相对于基板的位置调整。于固持含有磁性材料并形成用以令薄膜于基板上形成图案之开口的片状遮罩之遮罩固持‧对位设备5中，具有遮罩磁性吸附板54，其借由配置于一面侧的复数个永久磁石，而使遮罩磁性吸附于另一面侧；该复数个永久磁石，在该遮罩磁性吸附板54的另一面侧中的第1区域之磁场分布，与该另一面侧中的第2区域之磁场分布相异。

4. 发明专利

TW201131682A 基板處理系統审中-公开
简体标题：基板处理系统
公开(公告)号：TW201131682A
公开(公告)日：2011-09-16
申请号：TW099133452
申请日：2010-10-01
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：戶部康弘 , 西村優 , 八木靖司 , 林輝幸 , 小野裕司 , 下茂文夫
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6776 , H01L21/67161 , H01L21/67173 , H01L21/67253 , H01L51/56 , H05B33/10
摘要：本發明關於一種基板處理系統、基板處理室及成膜機構,係提供一種可利用既有的搬送技術或模組設備,並更進一步地除了連接各PM彼此之間的TM以外,藉由設置進行壓力調整之直通模組來使壓力調整帶域相異之模組的連接易於進行,以避免產能惡化,並確保充分的生產性之基板處理系統。該基板處理系統係用以進行基板的處理,其中藉由可被抽真空之複數個轉移模組而構成有直線狀搬送路徑,該各轉移模組之側面處連接有用以進行基板處理之處理室,該各轉移模組之間設置有進行壓力調整之直通模組(pass through module)。
简体摘要：本发明关于一种基板处理系统、基板处理室及成膜机构,系提供一种可利用既有的搬送技术或模块设备,并更进一步地除了连接各PM彼此之间的TM以外,借由设置进行压力调整之直通模块来使压力调整带域相异之模块的连接易于进行,以避免产能恶化,并确保充分的生产性之基板处理系统。该基板处理系统系用以进行基板的处理,其中借由可被抽真空之复数个转移模块而构成有直线状搬送路径,该各转移模块之侧面处连接有用以进行基板处理之处理室,该各转移模块之间设置有进行压力调整之直通模块(pass through module)。

5. 发明专利

TW440894B 處理系統失效
简体标题：处理系统
公开(公告)号：TW440894B
公开(公告)日：2001-06-16
申请号：TW088119757
申请日：1999-11-11
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：立山清久 , 野村雅文 , 太田義治 , 荒木真一郎 , 八卷郁郎 , 下茂文夫
IPC分类号： H01L
摘要：一種處理系統，包含有：
運送路；
多數個第一處理部，係配置在沿著此運送路之第一領域，以便對於被處理體施行真空系處理；
多數個第二處理部，係配置在沿著運送路之第二領域，以便對於被處理體施行大氣系處理；及
運送裝置，係可移動地配置在運送路上，以便在與第一及第二處理間進行被處理體之交接。
简体摘要：一种处理系统，包含有：运送路；多数个第一处理部，系配置在沿着此运送路之第一领域，以便对于被处理体施行真空系处理；多数个第二处理部，系配置在沿着运送路之第二领域，以便对于被处理体施行大气系处理；及运送设备，系可移动地配置在运送路上，以便在与第一及第二处理间进行被处理体之交接。

6. 发明专利

TW201036095A 有機ＥＬ元件之處理系統审中-公开
简体标题：有机ＥＬ组件之处理系统
公开(公告)号：TW201036095A
公开(公告)日：2010-10-01
申请号：TW098138533
申请日：2009-11-13
申请人：東京威力科創股份有限公司
发明人：松林信次 , 川上聰 , 戶部康弘 , 西村優 , 八木靖司 , 林輝幸 , 小野裕司 , 下茂文夫
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L51/56 , H01L21/67173 , H01L21/6723
摘要：本發明係關於一種基板處理系統,係提供一種可使連接至轉移模組側面處的各種處理裝置間的間隔變寬、維修性佳、避免產能惡化,並能確保足夠產能之基板處理系統。為一種於基板上積層包含有例如有機層之複數層以製造有機EL元件之基板處理系統,其中係藉由已抽真空之1個或2個以上的轉移模組而構成直線狀的搬送通路;於轉移模組內部沿著搬送通路而交互地直線排列設置有用以將基板相對於處理裝置搬出入之複數個搬出入區域,以及設置於該等搬出入區域之間的1個或2個以上的儲存區域;並且於轉移模組側面處,在對向於搬出入區域的位置連接有處理裝置。
简体摘要：本发明系关于一种基板处理系统,系提供一种可使连接至转移模块侧面处的各种处理设备间的间隔变宽、维修性佳、避免产能恶化,并能确保足够产能之基板处理系统。为一种于基板上积层包含有例如有机层之复数层以制造有机EL组件之基板处理系统,其中系借由已抽真空之1个或2个以上的转移模块而构成直线状的搬送通路;于转移模块内部沿着搬送通路而交互地直线排列设置有用以将基板相对于处理设备搬出入之复数个搬出入区域,以及设置于该等搬出入区域之间的1个或2个以上的存储区域;并且于转移模块侧面处,在对向于搬出入区域的位置连接有处理设备。

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