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1. 发明专利

TW201412557A 積層體审中-公开
简体标题：积层体
公开(公告)号：TW201412557A
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW102124152
申请日：2013-07-05
申请人：三井化學股份有限公司 , MITSUI CHEMICALS, INC. , 三井化學東賽璐股份有限公司 , MITSUI CHEMICALS TOHCELLO, INC.
发明人：福本晴彥 , FUKUMOTO, HARUHIKO , 小田川健二 , ODAGAWA, KENJI , 臼井英夫 , USUI, HIDEO , 高橋英一 , TAKAHASHI, EIICHI , 高木斗志彥 , TAKAKI, TOSHIHIKO , 高野雅子 , TAKANO, MASAKO , 中村修 , NAKAMURA, OSAMU , 進藤清孝 , SHINDO, KIYOTAKA
IPC分类号： B32B9/00 , B32B27/16 , B32B27/30 , B32B33/00
CPC分类号： C08J7/045 , B32B27/08 , B32B27/28 , B32B37/182 , B32B2307/7244 , B32B2307/7246 , B32B2309/105 , B32B2310/08 , B32B2310/0831 , B32B2457/12 , B32B2457/20 , C08J7/042 , C08J7/126 , C08J2333/14 , C08J2367/02 , C08J2443/00 , C08J2483/00 , C08J2483/16 , H01L31/0481 , Y02E10/50 , Y10T428/31663
摘要：本發明之積層體，係含有基材(A)、於上述基材(A)之至少一面依序積層之含矽層(B)、與由具有聚合性基之有機酸金屬鹽所得的聚合體層(C)；含矽層(B)係具有由矽原子與氮原子、或矽原子與氮原子與氧原子、或矽原子與氮原子與氧原子與碳原子所形成的氮高濃度區域；上述氮高濃度區域係藉由對形成於基材(A)上之聚矽氮烷膜依氧濃度5%以下及/或室溫23℃下之相對濕度30%以下進行能量射線照射，使該膜之至少一部分改質而形成。
简体摘要：本发明之积层体，系含有基材(A)、于上述基材(A)之至少一面依序积层之含硅层(B)、与由具有聚合性基之有机酸金属盐所得的聚合体层(C)；含硅层(B)系具有由硅原子与氮原子、或硅原子与氮原子与氧原子、或硅原子与氮原子与氧原子与碳原子所形成的氮高浓度区域；上述氮高浓度区域系借由对形成于基材(A)上之聚硅氮烷膜依氧浓度5%以下及/或室温23℃下之相对湿度30%以下进行能量射线照射，使该膜之至少一部分改质而形成。

2. 发明专利

TWI499505B 疊層體及其製造方法有权
简体标题：叠层体及其制造方法
公开(公告)号：TWI499505B
公开(公告)日：2015-09-11
申请号：TW099123473
申请日：2010-07-16
申请人：三井化學股份有限公司 , MITSUI CHEMICALS, INC.
发明人：高木斗志彥 , TAKAKI, TOSHIHIKO , 福本晴彥 , FUKUMOTO, HARUHIKO
IPC分类号： B32B27/06 , B32B27/16
CPC分类号： C08J7/047 , C08G77/62 , C08J2483/16 , C09D183/16 , Y10T428/265

4. 发明专利

TW201113152A 疊層體及其製造方法 LAMINATE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：叠层体及其制造方法 LAMINATE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW201113152A
公开(公告)日：2011-04-16
申请号：TW099123473
申请日：2010-07-16
申请人：三井化學股份有限公司
发明人：高木斗志彥 , 福本晴彥
IPC分类号： B32B
CPC分类号： C08J7/047 , C08G77/62 , C08J2483/16 , C09D183/16 , Y10T428/265
摘要：本發明提供一種疊層體及其製造方法,該疊層體包含:基材;及含矽膜,在該基材上形成;該疊層體之特徵在於:該含矽膜包含矽原子與氮原子,或矽原子、氮原子與氧原子所構成之氮高濃度區域,在實質上不含氧或水蒸氣之周圍環境下對在基材上形成之聚矽氮烷膜照射能量線,使該膜至少一部分變性,藉此形成該氮高濃度區域。
简体摘要：本发明提供一种叠层体及其制造方法,该叠层体包含:基材;及含硅膜,在该基材上形成;该叠层体之特征在于:该含硅膜包含硅原子与氮原子,或硅原子、氮原子与氧原子所构成之氮高浓度区域,在实质上不含氧或水蒸气之周围环境下对在基材上形成之聚硅氮烷膜照射能量线,使该膜至少一部分变性,借此形成该氮高浓度区域。

5. 发明专利

TW482794B 具有良好分散安定性及透明性之有機聚合物/無機微粒子之分散水溶液及複合體、其製造方法以及用於造紙與噴墨記錄片材之藥品失效
简体标题：具有良好分散安定性及透明性之有机聚合物/无机微粒子之分散水溶液及复合体、其制造方法以及用于造纸与喷墨记录片材之药品
公开(公告)号：TW482794B
公开(公告)日：2002-04-11
申请号：TW088119721
申请日：1999-11-11
申请人：三井化學股份有限公司
发明人：高木斗志彥 , 田邊勝 , 伊藤博 , 大柳俊樹
IPC分类号： C08J
摘要：按含有羧基之水溶性或水分散性之合成高分子化合物(A)與粒徑500nm以下之水難溶性無機微粒(B)之比率即(A)：(B)=10：90~99.99：0.01(重量比)包含(A)及(B)之具有優良之分散安定性之有機聚合物/無機微粒分散水溶液，其中(B)係在(A)之存在下使(a)周期表2族元素之化合物與(b)選自有機酸、無機酸、以及其鹽類之一種以上之化合物進行反應所合成者，上述分散水溶液可被使用以作為造紙用之藥品或噴墨記錄用之藥品，此外可用作醫用材料或化粧品原料。
简体摘要：按含有羧基之水溶性或水分散性之合成高分子化合物(A)与粒径500nm以下之水难溶性无机微粒(B)之比率即(A)：(B)=10：90~99.99：0.01(重量比)包含(A)及(B)之具有优良之分散安定性之有机聚合物/无机微粒分散水溶液，其中(B)系在(A)之存在下使(a)周期表2族元素之化合物与(b)选自有机酸、无机酸、以及其盐类之一种以上之化合物进行反应所合成者，上述分散水溶液可被使用以作为造纸用之药品或喷墨记录用之药品，此外可用作医用材料或化妆品原料。

6. 发明专利

TWI350384B 光學膜及其製造方法 OPTICAL FILM AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME 失效
简体标题：光学膜及其制造方法 OPTICAL FILM AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME
公开(公告)号：TWI350384B
公开(公告)日：2011-10-11
申请号：TW096109472
申请日：2007-03-20
申请人：三井化學股份有限公司
发明人：西埜文晃 , 西浦克典 , 福田和幸 , 高木斗志彥 , 宮下武博
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B5/0278 , C03C17/008 , C03C2218/113 , G02B5/0242 , Y10T428/24355
摘要：本發明之目的在於提供雖屬薄膜，但卻是由具有高的光線穿透率及光擴散性之透明樹脂與金屬氧化物所組成之光學膜及光學膜之製造方法。具體言之，本發明之光學膜之製造方法係關於全光線穿透率70%以上且霧度值(haze value)20%以上之光學膜之製造方法，包括：(A)使藉由溶膠－凝膠反應產生金屬氧化物之金屬化合物在溶媒中進行溶膠－凝膠反應之步驟；(B)準備以透明樹脂為溶質之溶液之步驟；(C)將前述(A)步驟所得之混合物與(B)步驟所得之溶液混合之步驟；及(D)將前述(C)步驟所得之混合物在基板或容器中塗佈或展開後，加熱使溶媒蒸發而形成膜之步驟。
简体摘要：本发明之目的在于提供虽属薄膜，但却是由具有高的光线穿透率及光扩散性之透明树脂与金属氧化物所组成之光学膜及光学膜之制造方法。具体言之，本发明之光学膜之制造方法系关于全光线穿透率70%以上且雾度值(haze value)20%以上之光学膜之制造方法，包括：(A)使借由溶胶－凝胶反应产生金属氧化物之金属化合物在溶媒中进行溶胶－凝胶反应之步骤；(B)准备以透明树脂为溶质之溶液之步骤；(C)将前述(A)步骤所得之混合物与(B)步骤所得之溶液混合之步骤；及(D)将前述(C)步骤所得之混合物在基板或容器中涂布或展开后，加热使溶媒蒸发而形成膜之步骤。

7. 发明专利

TW386087B 具有丁二酸主幹之兩親媒性化合物失效
简体标题：具有丁二酸主干之两亲媒性化合物
公开(公告)号：TW386087B
公开(公告)日：2000-04-01
申请号：TW085106983
申请日：1996-06-08
申请人：三井化學股份有限公司
发明人：高木斗志彥 , 田邊勝 , 伊藤博 , 柳雅之 , 大柳鐘子 , 渡部恭吉 , 宇都宮淳
IPC分类号： C08F
摘要：本發明提供由下式中任一式所表示之兩親媒性化合物
简体摘要：本发明提供由下式中任一式所表示之两亲媒性化合物

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