基本信息:
- 专利标题： METALLIC GRATINGS AND MEASUREMENT METHODS THEREOF
- 专利标题（中）：金属镀层及其测量方法
- 申请号：PCT/US2015/048913 申请日：2015-09-08
- 公开(公告)号：WO2016040306A1 公开(公告)日：2016-03-17
- 发明人： O'MULLANE, Sam , DIEBOLD, Alain , PETERSON, Brennan , KELLER, Nicholas
- 申请人： THE RESEARCH FOUNDATION OF STATE UNIVERSITY OF NEW YORK
- 申请人地址： 257 Fuller Road Albany, New York 12203 US
- 专利权人： THE RESEARCH FOUNDATION OF STATE UNIVERSITY OF NEW YORK
- 当前专利权人： THE RESEARCH FOUNDATION OF STATE UNIVERSITY OF NEW YORK
- 当前专利权人地址： 257 Fuller Road Albany, New York 12203 US
- 代理机构： BLASIAK, George S.
- 优先权： US62/047,626 20140908
- 主分类号： H01L29/78
- IPC分类号： H01L29/78 ; H01L21/28 ; H01L21/768
摘要：
There is set forth herein in one embodiment, a structure including a metallic grating having a grating pattern, the metallic grating including a critical dimension. The metallic grating can output a spectral profile when exposed to electromagnetic radiation, the spectral profile having a feature. The grating pattern can be configured so that a change of the critical dimension produces a shift in a value of the feature of the spectral profile. A method can include propagating input electromagnetic radiation onto a metallic grating having a two dimensional periodic grating pattern and measuring a critical dimension of the metallic grating using output electromagnetic radiation from the metallic grating.
摘要（中）：
这里在一个实施例中阐述了包括具有光栅图案的金属光栅的结构，金属光栅包括临界尺寸。 当暴露于电磁辐射时，金属光栅可以输出光谱轮廓，光谱轮廓具有特征。 光栅图案可被配置成使得临界尺寸的变化产生光谱轮廓特征值的偏移。 一种方法可以包括将输入电磁辐射传播到具有二维周期性光栅图案的金属光栅上，并使用来自金属光栅的输出电磁辐射来测量金属光栅的临界尺寸。
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L29/00 | 专门适用于整流、放大、振荡或切换，并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的半导体器件；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒，例如PN结耗尽层或载流子集结层的电容器或电阻器；半导体本体或其电极的零部件 |
| --------H01L29/02 | .按其半导体本体的特征区分的 |
| ----------H01L29/68 | ..只能通过对一个不通有待整流、放大或切换的电流的电极供给电流或施加电位方可进行控制的 |
| ------------H01L29/70 | ...双极器件 |
| --------------H01L29/762 | ....电荷转移器件 |
| ----------------H01L29/78 | .....由绝缘栅产生场效应的 |