基本信息:
- 专利标题： 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤、化合物及び化合物の製造方法
- 专利标题（英）：Radiation-sensitive resin composition, resist pattern forming method, radiation-sensitive acid generator, compound and method for producing compound
- 专利标题（中）：辐射敏感性树脂组合物，耐光图案形成方法，辐射敏感性酸发生器，化合物和生产化合物的方法
- 申请号：PCT/JP2013/063329 申请日：2013-05-13
- 公开(公告)号：WO2014034190A1 公开(公告)日：2014-03-06
- 发明人： 生井 準人
- 申请人： JSR株式会社
- 申请人地址： 〒1058640 東京都港区東新橋一丁目9番2号 Tokyo JP
- 专利权人： JSR株式会社
- 当前专利权人： ＪＳＲ株式会社
- 当前专利权人地址： 〒1058640 東京都港区東新橋一丁目９番２号 Tokyo JP
- 代理机构： 天野 一規
- 优先权： JP2012-187083 20120827
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; C07C303/02 ; C07C303/22 ; C07C309/03 ; C07C309/04 ; C07C309/07 ; C07C309/08 ; C07C309/09 ; C07C309/10 ; C07C309/15 ; C07C309/17 ; C07C309/19 ; C07C309/71 ; C07C381/12 ; C07D307/33 ; C07D307/93 ; C07D313/06 ; C07D327/04 ; C07H15/04 ; C08F212/14 ; C08F220/10 ; C09K3/00 ; G03F7/039 ; H01L21/027
摘要：
本発明は、酸解離性基含有重合体、感放射線性酸発生剤、及び溶媒を含有し、上記感放射線性酸発生剤が、下記式（１）で表される化合物を含む感放射線性樹脂組成物である。下記式（１）中、Ｌは－ＣＯＯ－＊、－ＳＯ ２ Ｏ－、－ＣＯＮＲ Ａ －、－Ｏ－及び－Ｓ－からなる群より選ばれる少なくとも１種又は単結合である。＊は、Ｇとの結合部位を示す。式（１）のＬが－ＣＯＯ－＊、－ＳＯ ２ Ｏ－、－ＣＯＮＲ Ａ －、－Ｏ－及び－Ｓ－からなる群より選ばれる少なくとも１種、Ｒ Ａ が水素原子又は炭素数１～２０の１価の炭化水素基、Ｒ １ がＳＯ ３ － に隣接する炭素原子にフッ素原子が結合していない置換又は非置換の炭素数１～１０のアルカンジイル基、Ｇが炭素数３～３０の脂環構造を含む基であることが好ましい。 Ｇ―Ｌ―Ｒ １ ―ＳＯ ３ － Ｍ ＋ （１）
摘要（中）：
本发明是一种辐射敏感性树脂组合物，其含有含有酸分解性基团的聚合物，辐射敏感性酸产生剂和溶剂，并且其中所述辐射敏感性酸产生剂含有由式（1）表示的化合物。 在式（1）中，L表示至少一个选自-COO- *，-SO 2 O-，-CONRA-，-O-和-S-或单键的部分; 并且*表示与G键合的结合位点。在式（1）中，优选：L表示至少一个选自-COO- *，-SO 2 O-，-CONRA-，-O - 和-S-; RA表示氢原子或具有1-20个碳原子的一价烃基; R1表示具有1-10个碳原子的取代或未取代的烷二基，其中氟原子不与SO 3 - 相邻的碳原子键合; G表示含有3〜30个碳原子的脂环结构的基团。