基本信息:
- 专利标题： 실리콘의 정련 장치
- 专利标题（英）：Silicon refining apparatus
- 专利标题（中）：硅精炼设备
- 申请号：PCT/KR2013/004545 申请日：2013-05-23
- 公开(公告)号：WO2014010825A1 公开(公告)日：2014-01-16
- 发明人： 이진석 , 안영수 , 장보윤 , 김준수
- 申请人： 한국에너지기술연구원
- 申请人地址： 305-343 대전시 유성구 장동 71-2, Daejeon KR
- 专利权人： 한국에너지기술연구원
- 当前专利权人： 한국에너지기술연구원
- 当前专利权人地址： 305-343 대전시 유성구 장동 71-2, Daejeon KR
- 代理机构： 고영갑
- 优先权： KR10-2012-0075044 20120710
- 主分类号： C01B33/037
- IPC分类号： C01B33/037 ; C01B33/021 ; B01J19/12
摘要：
실리콘의 정련 장치가 개시된다. 진공 분위기를 유지하는 진공 챔버, 상기 진공 챔버에 구비되어 전자빔을 조사하는 적어도 하나 이상의 전자총(Electron-gun), 상기 진공챔버 내에 실리콘 원료물질을 공급하는 원료 공급부, 상기 전자빔이 조사되는 영역 내에 배치되며, 상기 실리콘 원료물질이 장입되어 상기 전자빔에 의해 상기 실리콘 원료물질이 용융되어 실리콘 용탕이 형성되는 실리콘 용융부, 상기 실리콘 용융부로부터 공급되는 실리콘 용탕을 응고시키는 일방향 응고부 및 상기 실리콘 용융부의 제 1 채널부와 상기 일방향 응고부의 제 2 채널부가 서로 접하여 이루어진 연결탕로부를 포함하고, 상기 연결탕로부의 중심축은 상기 원료 공급부의 투입구의 중심축과 다른 위치에 있는 휘발성 불순물 제거를 위한 실리콘의 정련 장치가 제공될 수 있다. 이에 따라, 실리콘 용탕의 이동경로를 길게 하여 내부에 존재하는 휘발성 불순물이 제거되는 시간과 공간을 충분히 확보하여 진공 정련의 효율을 향상시킬 수 있다.
摘要（中）：
公开了一种硅精炼装置。 本发明提供一种用于除去挥发性杂质的硅精炼装置，该装置包括：保持真空气氛的真空室; 一个或多个电子枪，其形成在真空室中并照射电子束; 原料供给部，其将硅原料供给到真空室的内部; 硅熔化部，其设置在电子束的照射范围内，并且其中硅原料被充电然后用电子束熔化，从而形成硅熔体; 固化从硅熔融部提供的硅熔体的单向凝固部; 连接通路部分，其形成有与所述单向凝固部分的第二通道部分连通的所述硅熔化部分的第一通道部分，其中所述连接的通路部分的中心轴线处于与插入件的中心轴线不同的位置 原料供应部分的孔。 因此，通过延长硅熔体的行进路径，从而确保足够的时间和空间去除存在于其中的挥发性杂质，可以提高真空精炼的效率。