基本信息:
- 专利标题： VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG STRUKTURIERTER CHROMSCHICHTEN
- 专利标题（英）：Method for producing structured chromium layers
- 专利标题（中）：用于生产结构化铬LAYERS
- 申请号：PCT/AT2010/000277 申请日：2010-07-28
- 公开(公告)号：WO2011014897A1 公开(公告)日：2011-02-10
- 发明人： KRONBERGER, Hermann , WOLF, Günter , SCHUBERT, Martin
- 申请人： TECHNISCHE UNIVERSITÄT WIEN , KRONBERGER, Hermann , WOLF, Günter , SCHUBERT, Martin
- 申请人地址： Karlsplatz 13 A-1040 Wien AT
- 专利权人： TECHNISCHE UNIVERSITÄT WIEN,KRONBERGER, Hermann,WOLF, Günter,SCHUBERT, Martin
- 当前专利权人： TECHNISCHE UNIVERSITÄT WIEN,KRONBERGER, Hermann,WOLF, Günter,SCHUBERT, Martin
- 当前专利权人地址： Karlsplatz 13 A-1040 Wien AT
- 代理机构： VÖGELE, Andreas
- 优先权： ATA 20090804
- 主分类号： C25D3/08
- IPC分类号： C25D3/08 ; C25D5/00 ; C25D3/04 ; C25D21/02
摘要：
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung strukturierter Chromschichten, insbesondere für Medienkontaktflächen, wobei die Strukturchromschicht durch galvanische Abscheidung von Chrom aus einem Elektrolyt auf ein Substrat hergestellt wird. Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe, ein Verfahren zur Herstellung strukturierter Chromschichten für Kontaktflächen mit gegenüber den bekannten Chrombeschichtungen verbesserten Eigenschaften zu schaffen, wird dadurch gelöst, dass die Bildung der Strukturchromschicht bei konstanten Stromdichten und in einem von der Stromdichte abhängigen Temperaturbereich erfolgt und dass die Strukturbildung durch zumindest eine Temperaturänderung initiiert wird.
摘要（中）：
本发明涉及一种用于生产结构化铬层，特别是用于媒体的接触面，其中所述结构化的铬层通过铬的电沉积从衬底上的电解质形成的。 其中本发明的基本用于生产的接触表面上的结构铬层相对于改善的性能，以提供已知的铬涂层提供一种方法的对象，是这样实现的结构化铬层的形成是在恒定电流密度和以这样的方式依赖于温度的电流密度范围内并且该结构形成执行 由至少一个温度变化引发。