基本信息:
- 专利标题： HIGH TEMPERATURE AND HIGH VOLTAGE ELECTRODE ASSEMBLY DESIGN
- 专利标题（中）：高温和高压电极组件设计
- 申请号：PCT/US2009/067643 申请日：2009-12-11
- 公开(公告)号：WO2010068849A1 公开(公告)日：2010-06-17
- 发明人： HSIEH, Jui, Hai , DELONG, David
- 申请人： GTSP GLOBAL , HSIEH, Jui, Hai , DELONG, David
- 申请人地址： 11500 NE 76th Street Suite A3-4 Vancouver, WA 98662 US
- 专利权人： GTSP GLOBAL,HSIEH, Jui, Hai,DELONG, David
- 当前专利权人： GTSP GLOBAL,HSIEH, Jui, Hai,DELONG, David
- 当前专利权人地址： 11500 NE 76th Street Suite A3-4 Vancouver, WA 98662 US
- 代理机构： WHIPPLE, Matthew, L. et al.
- 优先权： US61/164,552 20090330; US12/607,860 20091028; US61/122,066 20081212; US12/635,482 20091210
- 主分类号： C23C16/00
- IPC分类号： C23C16/00
摘要：
A chemical vapor deposition apparatus comprising a chamber having a base plate, a chamber wall, a gas inlet and a gas outlet. The base plate has holes therethrough. A plurality of electrodes extend through the holes and are attachable to a power source. At least two of the plurality of electrodes are attachable to a silicon rod within the chamber. An electrical isolation bushing can be positioned between each of the plurality of electrodes and the base plate. The bushing comprises a sleeve surrounding a portion of the electrodes extending through the base plate and a collar surrounding the holes at the surface of the base plate. In some instances, the collar portion and sleeve portion comprise different materials. In some instances, an isolation layer surrounding the holes at the surface of the base plate is employed In some instances, the collar portion and sleeve portion comprise ceramic.
摘要（中）：
一种化学气相沉积设备，包括具有基板，室壁，气体入口和气体出口的室。 基板具有穿过其中的孔。 多个电极延伸穿过孔并且可附接到电源。 多个电极中的至少两个可附接到腔室内的硅棒。 电绝缘衬套可以位于多个电极和基板中的每一个之间。 衬套包括围绕延伸穿过基板的电极的一部分的套筒和围绕基板的表面处的孔的套环。 在一些情况下，套环部分和套筒部分包括不同的材料。 在一些情况下，采用围绕基板表面的孔的隔离层。在某些情况下，套环部分和套筒部分包括陶瓷。