基本信息:
- 专利标题： CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM AND BEAM MANIPULATING ARRANGEMENT
- 专利标题（中）：充电颗粒光束曝光系统和光束操纵装置
- 申请号：PCT/EP2006/007182 申请日：2006-07-20
- 公开(公告)号：WO2007009804A1 公开(公告)日：2007-01-25
- 发明人： PLATZGUMMER, Elmar , STENGL, Gerhard
- 申请人： CARL ZEISS SMS GMBH , PLATZGUMMER, Elmar , STENGL, Gerhard
- 申请人地址： Carl-Zeiss-Promenade 10, 07745 Jena DE
- 专利权人： CARL ZEISS SMS GMBH,PLATZGUMMER, Elmar,STENGL, Gerhard
- 当前专利权人： CARL ZEISS SMS GMBH,PLATZGUMMER, Elmar,STENGL, Gerhard
- 当前专利权人地址： Carl-Zeiss-Promenade 10, 07745 Jena DE
- 代理机构： SCHORR, Frank et al.
- 优先权： EP05015781.7 20050720
- 主分类号： H01J37/317
- IPC分类号： H01J37/317
摘要：
A beam manipulating arrangement for a multi beam application using charged particles comprises a multi-aperture plate having plural apertures traversed by beams of charged particles. A frame portion of the multi-aperture plate is heated to reduce temperature gradients within the multi-aperture plate. Further, a heat emissivity of a surface of the multi-aperture plate may be higher in some regions as compared to other regions in view of also reducing temperature gradients.
摘要（中）：
用于使用带电粒子的多光束施加的光束操纵装置包括具有由带电粒子束穿过的多个孔的多孔板。 加热多孔板的框架部分以降低多孔板内的温度梯度。 此外，考虑到降低温度梯度，与其他区域相比，多孔板的表面的发热率在一些区域可能更高。
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01J | 放电管或放电灯 |
| ------H01J37/00 | 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,如为了对其检验或加工的 |
| --------H01J37/02 | .零部件 |
| ----------H01J37/317 | ..用于改变物体的特性或在其上加上薄层的，如离子注入 |