基本信息:
- 专利标题： IMPROVED LITHOGRAPHIC PROCESS
- 专利标题（中）：改进的光刻过程
- 申请号：PCT/GB2004/005048 申请日：2004-12-01
- 公开(公告)号：WO2005057289A1 公开(公告)日：2005-06-23
- 发明人： JIANG, Kyle , JIN, Peng
- 申请人： THE UNIVERSITY OF BIRMINGHAM , JIANG, Kyle , JIN, Peng
- 申请人地址： Edgbaston, Birmingham B15 2TT GB
- 专利权人： THE UNIVERSITY OF BIRMINGHAM,JIANG, Kyle,JIN, Peng
- 当前专利权人： THE UNIVERSITY OF BIRMINGHAM,JIANG, Kyle,JIN, Peng
- 当前专利权人地址： Edgbaston, Birmingham B15 2TT GB
- 代理机构： WARD, David, I.
- 优先权： GB0328683.8 20031211
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
The present invention provides a lithographic process for producing high aspect ratio parts from an epoxy-type negative photoresist comprising the steps of: (i) irradiating a prebaked masked epoxy-type negative photoresist on a substrate with light at a total energy density of from 18,000 to 35,000mJ/cm 2 , (ii) post-baking the exposed photoresist at elevated temperature, and (iii) developing the exposed photoresist in a solvent, wherein no more than 15 % of the energy density is contributed by light having a wavelength of 400nm or less. The invention also discloses a reciprocating microengine (10) comprising a cylinder (14), piston (12) and crankshaft made by the process.
摘要（中）：
本发明提供了一种用于从环氧型负型光致抗蚀剂制造高纵横比部件的光刻工艺，其特征在于包括以下步骤：（i）在总能量密度为18,000的光照射基底上的预焙掩膜的环氧型负性光致抗蚀剂 至35,000mJ / cm 2，（ii）在升高的温度下对曝光的光致抗蚀剂进行后烘烤，和（iii）在溶剂中显影曝光的光致抗蚀剂，其中不超过15％的能量密度由具有 波长400nm以下。 本发明还公开了一种往复式微发动机（10），其包括由该过程制成的气缸（14），活塞（12）和曲轴。