基本信息:
- 专利标题： PLATEN FOR RETAINING POLISHING MATERIAL
- 专利标题（中）：保留抛光材料的钢板
- 申请号：PCT/US0143725 申请日：2001-11-06
- 公开(公告)号：WO0239485A2 公开(公告)日：2002-05-16
- 发明人： LI SHIJIAN , BIRANG MANOOCHER , EMAMI RAMIN , NAGENGAST ANDREW , BROWN DOUGLAS ORCUTT , WANG SHI-PING , SCALES MARTIN , WHITE JOHN
- 申请人： APPLIED MATERIALS INC
- 专利权人： APPLIED MATERIALS INC
- 当前专利权人： APPLIED MATERIALS INC
- 优先权： US70976900 2000-11-10
- 主分类号： B24B21/04
- IPC分类号： B24B21/04 ; B24B37/16 ; B24D9/08 ; B25B11/00 ; H01L21/304 ; H01L21/306 ; H01L
摘要：
Generally, a method and apparatus for retaining polishing material is provided. In one embodiment, the apparatus includes a platen having a top surface, a plurality of channels and one or more vacuum ports. The top surface is adapted to support the polishing material. The plurality of channels are formed in a polishing area of the top surface. The vacuum ports are disposed in the platen and at least one port is in communication with at least one of the channels. Upon application of a vacuum to the ports, the channels remove fluids under the polishing material while securing the polishing material to the top surface.
摘要（中）：
通常，提供了用于保持抛光材料的方法和装置。 在一个实施例中，该装置包括具有顶表面，多个通道和一个或多个真空端口的压板。 顶表面适于支撑抛光材料。 多个通道形成在顶表面的抛光区域中。 真空端口设置在压板中，并且至少一个端口与至少一个通道连通。 当向端口施加真空时，通道在将抛光材料固定到顶表面的同时移除抛光材料下面的流体。
IPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B24 | 磨削；抛光 |
| ----B24B | 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 |
| ------B24B21/00 | 使用磨削或抛光带的机床或装置；以及附件 |
| --------B24B21/04 | .用于磨削平面 |