基本信息:
- 专利标题： PHASE CONTRAST X-RAY IMAGING SYSTEM
- 申请号：US16636492 申请日：2018-09-19
- 公开(公告)号：US20200249178A1 公开(公告)日：2020-08-06
- 发明人： Naoki MORIMOTO , Kenji KIMURA , Taro SHIRAI , Takahiro DOKI , Satoshi SANO , Akira HORIBA
- 申请人： Shimadzu Corporation
- 申请人地址： JP Kyoto-shi, Kyoto
- 专利权人： Shimadzu Corporation
- 当前专利权人： Shimadzu Corporation
- 当前专利权人地址： JP Kyoto-shi, Kyoto
- 优先权： com.zzzhc.datahub.patent.etl.us.BibliographicData$PriorityClaim@7e8fab97
- 国际申请： PCT/JP2018/034674 WO 20180919
- 主分类号： G01N23/041
- IPC分类号： G01N23/041 ; A61B6/00
摘要：
A phase contrast X-ray imaging system includes an X-ray source; a plurality of gratings; a detector; a grating movement mechanism; and an image processor that generates a phase contrast image. The image processor generates the phase contrast image by using a pitch of an intensity change and a function which has the pitch as a variable and expresses the intensity change in a pixel value as a grating moves.
公开/授权文献:
- US11013482B2 Phase contrast X-ray imaging system 公开/授权日：2021-05-25
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01N | 借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料 |
| ------G01N23/00 | 利用未包括在G01N21/00或G01N22/00组内的波或粒子辐射来测试或分析材料，例如X射线、中子 |
| --------G01N23/02 | .通过使辐射透过材料 |
| ----------G01N23/04 | ..并形成图像 |
| ------------G01N23/041 | ...相位差图像，例如使用光栅干涉仪 |