基本信息:
- 专利标题： ILLUMINATION SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY
- 专利标题（中）：微观照明系统
- 申请号：US14496689 申请日：2014-09-25
- 公开(公告)号：US20150022798A1 公开(公告)日：2015-01-22
- 发明人： Axel Scholz , Frank Schlesener , Nils Haverkamp , Vladimir Davydenko , Michael Gerhard , Gerhard-Wilhelm Ziegler , Mirco Kern , Thomas Bischoff , Thomas Stammler , Stephan Kellner , Manfred Maul , Daniel Walldorf , Igor Hurevich , Markus Deguenther
- 申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
- 优先权： DE102009006685.3 20090129
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
A raster arrangement includes first and second types of raster elements which have different bundle-influencing effects. There is a distance step between a first raster area and a second raster area. The first raster area comprises a raster element of the first raster element type. The second raster area includes a raster element of the second raster element type. The raster arrangement is configured to be used in a microlithography illumination system.
摘要（中）：
光栅装置包括具有不同束影响效应的第一和第二类型的光栅元件。 在第一光栅区域和第二光栅区域之间存在距离步长。 第一光栅区域包括第一光栅元素类型的光栅元素。 第二光栅区域包括第二光栅元素类型的光栅元素。 光栅布置被配置为在微光刻照明系统中使用。
公开/授权文献:
- US09280060B2 Illumination system for microlithography 公开/授权日：2016-03-08