基本信息:
- 专利标题： Reticle Constructions
- 专利标题（中）：标线结构
- 申请号：US12797474 申请日：2010-06-09
- 公开(公告)号：US20100248093A1 公开(公告)日：2010-09-30
- 发明人： Baorui Yang
- 申请人： Baorui Yang
- 申请人地址： US ID Boise
- 专利权人： MICRON TECHNOLOGY, INC.
- 当前专利权人： MICRON TECHNOLOGY, INC.
- 当前专利权人地址： US ID Boise
- 主分类号： G03F1/00
- IPC分类号： G03F1/00
摘要：
The invention includes reticle constructions and methods of forming reticle constructions. In a particular aspect, a method of forming a reticle includes provision of a reticle substrate having a defined main-field region and a defined boundary region. The substrate has a relatively transparent base and a relatively opaque material over the base. A thickness of the relatively opaque material of the main-field region is reduced relative to a thickness of the relatively opaque material of the boundary region. A reticle construction of the present invention can comprise a relatively transparent base, and a relatively opaque material over the base. The construction can have a defined main-field region and a defined boundary region, and the relatively opaque material of the main-field region can have a reduced thickness relative to the relatively opaque material of the boundary region.
摘要（中）：
本发明包括掩模版结构和形成掩模版结构的方法。 在特定方面，形成掩模版的方法包括提供具有限定的主场区域和限定的边界区域的掩模版衬底。 基底在基底上具有相对透明的基部和相对不透明的材料。 主场区域的相对不透明材料的厚度相对于边界区域的相对不透明材料的厚度减小。 本发明的掩模版结构可以包括相对透明的基底和在基底上的相对不透明的材料。 该结构可以具有限定的主场区域和限定的边界区域，并且主场区域的相对不透明的材料可以相对于边界区域的相对不透明的材料具有减小的厚度。
公开/授权文献:
- US07910270B2 Reticle constructions 公开/授权日：2011-03-22