基本信息:
- 专利标题： Lithographic apparatus and device manufacturing method
- 专利标题（中）：平版印刷设备和器件制造方法
- 申请号：US11647426 申请日：2006-12-29
- 公开(公告)号：US20070109510A1 公开(公告)日：2007-05-17
- 发明人： Pieter Willem De Jager , Cheng-Qun Gui , Peter Spit , Eduard Hoeberichts
- 申请人： Pieter Willem De Jager , Cheng-Qun Gui , Peter Spit , Eduard Hoeberichts
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 主分类号： G03B27/52
- IPC分类号： G03B27/52
摘要：
A lithographic apparatus and method in which an illumination system supplies a projection beam, a patterning system imparts to the beam a pattern in its cross section, and a projection system projects the patterned beam onto a target portion of a substrate. The projection system comprises an array of lenses spaced from the substrate such that each lens in the array focuses part of the patterned beam onto the substrate. A displacement system causes displacement between the lens array and the substrate. A particle detector detects particles on the substrate which are approaching the lens array. A free working distance control system increases the spacing between the lens array and the substrate in response to detection of a particle. The lens array is moved away from the substrate as the detected particle passes the lens array. Thus damage to the lens array can be avoided.
摘要（中）：
一种光刻设备和方法，其中照明系统提供投影光束，图案化系统在其横截面中赋予光束图案，并且投影系统将图案化的光束投射到基板的目标部分上。 投影系统包括与衬底间隔开的透镜阵列，使得阵列中的每个透镜将图案化束的一部分聚焦到衬底上。 位移系统导致透镜阵列和基板之间的位移。 颗粒检测器检测正在接近透镜阵列的基板上的颗粒。 响应于颗粒的检测，自由工作距离控制系统增加了透镜阵列和基板之间的间隔。 当检测到的颗粒通过透镜阵列时，透镜阵列移动离开基板。 因此可以避免对透镜阵列的损坏。
公开/授权文献:
- US07684009B2 Lithographic apparatus and device manufacturing method 公开/授权日：2010-03-23
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G03 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术 |
| ----G03B | 摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件 |
| ------G03B27/00 | 印片设备 |
| --------G03B27/02 | .接触印制用曝光设备 |
| ----------G03B27/52 | ..零部件 |