基本信息:
- 专利标题： 用於外延成長設備的腔室元件（一）
- 专利标题（英）：Chamber components for epitaxial growth apparatus(1)
- 专利标题（中）：用于外延成长设备的腔室组件（一）
- 申请号：TW105204237 申请日：2016-03-25
- 公开(公告)号：TWM535866U 公开(公告)日：2017-01-21
- 发明人： 大木慎一 , OKI, SHINICHI , 森義信 , MORI, YOSHINOBU
- 申请人： 應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
- 专利权人： 應用材料股份有限公司,APPLIED MATERIALS, INC.
- 当前专利权人： 應用材料股份有限公司,APPLIED MATERIALS, INC.
- 代理人： 李世章; 彭國洋
- 优先权： 62/138,365 20150325
- 主分类号： H01L21/02
- IPC分类号： H01L21/02
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |