基本信息:

• 专利标题： 基板處理裝置及基板處理系統
• 专利标题（英）：SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM
• 专利标题（中）：基板处理设备及基板处理系统
• 申请号：TW106142690 申请日：2017-12-06
• 公开(公告)号：TWI696212B 公开(公告)日：2020-06-11
• 发明人： 井上正史 , INOUE, MASAFUMI , 瀧昭彥 , TAKI, AKIHIKO , 谷口寛樹 , TANIGUCHI, HIROKI , 田中孝佳 , TANAKA, TAKAYOSHI , 中野佑太 , NAKANO, YUTA
• 申请人： 日商斯庫林集團股份有限公司 ,  SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
• 专利权人： 日商斯庫林集團股份有限公司,SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
• 当前专利权人： 日商斯庫林集團股份有限公司,SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
• 代理人： 陳長文
• 优先权： 2016-255335 20161228
• 主分类号： H01L21/02
• IPC分类号： H01L21/02 ; H01L21/67 ; H01L21/683 ; H01L21/687

公开/授权文献:

• TW201842537A  基板處理裝置、基板處理方法及基板處理系統 公开/授权日：2018-12-01

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