基本信息:
- 专利标题： 電漿處理裝置及使用彼之電漿處理方法
- 专利标题（中）：等离子处理设备及使用彼之等离子处理方法
- 申请号：TW107114742 申请日：2016-05-19
- 公开(公告)号：TWI689227B 公开(公告)日：2020-03-21
- 发明人： 小藤直行 , KOFUJI, NAOYUKI , 森政士 , MORI, MASAHITO , 西田敏明 , NISHIDA, TOSHIAKI , 濱崎良二 , HAMASAKI, RYOJI
- 申请人： 日商日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
- 专利权人： 日商日立全球先端科技股份有限公司,HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
- 当前专利权人： 日商日立全球先端科技股份有限公司,HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
- 代理人： 林志剛
- 优先权： 2015-104115 20150522;PCT/JP2016/063129 20160427
- 主分类号： H05H1/46
- IPC分类号： H05H1/46 ; H01L21/3065
公开/授权文献:
- TW201832621A 電漿處理裝置及使用彼之電漿處理方法 公开/授权日：2018-09-01