基本信息:
- 专利标题： 半導體反應室之噴淋頭
- 专利标题（英）：Semiconductor reaction chamber showerhead
- 专利标题（中）：半导体反应室之喷淋头
- 申请号：TW102136496 申请日：2013-10-09
- 公开(公告)号：TWI685913B 公开(公告)日：2020-02-21
- 发明人： 懷特 卡爾 , WHITE, CARL , 杜恩 泰德 , DUNN, TODD , 席羅 艾瑞克 , SHERO, ERIC , 方杜魯利亞 凱勒 , FONDURULIA, KYLE
- 申请人： 荷蘭商ASM智慧財產控股公司 , ASM IP HOLDING B. V.
- 专利权人： 荷蘭商ASM智慧財產控股公司,ASM IP HOLDING B. V.
- 当前专利权人： 荷蘭商ASM智慧財產控股公司,ASM IP HOLDING B. V.
- 代理人： 閻啓泰; 林景郁
- 优先权： 13/651,144 20121012
- 主分类号： H01L21/683
- IPC分类号： H01L21/683
公开/授权文献:
- TW201423902A 半導體反應室之噴淋頭 公开/授权日：2014-06-16