基本信息:

• 专利标题： 高能量離子植入裝置
• 专利标题（中）：高能量离子植入设备
• 申请号：TW103113408 申请日：2014-04-11
• 公开(公告)号：TWI621149B 公开(公告)日：2018-04-11
• 发明人： 椛澤光昭 , KABASAWA, MITSUAKI , 渡邉一浩 , WATANABE, KAZUHIRO , 佐佐木玄 , SASAKI, HARUKA , 稲田耕二 , INADA, KOUJI , 佐野信 , SANO, MAKOTO
• 申请人： 住友重機械離子技術有限公司 ,  SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES ION TECHNOLOGY CO., LTD.
• 专利权人： 住友重機械離子技術有限公司,SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES ION TECHNOLOGY CO., LTD.
• 当前专利权人： 住友重機械離子技術有限公司,SUMITOMO HEAVY INDUSTRIES ION TECHNOLOGY CO., LTD.
• 代理人： 林志剛
• 优先权： 2013-111364 20130527
• 主分类号： H01J37/317
• IPC分类号： H01J37/317

公开/授权文献:

• TW201445608A  高能量離子植入裝置 公开/授权日：2014-12-01

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