基本信息:
- 专利标题： 電漿處理裝置
- 专利标题（英）：Plasma processing apparatus
- 专利标题（中）：等离子处理设备
- 申请号：TW100140364 申请日：2011-11-04
- 公开(公告)号：TWI533396B 公开(公告)日：2016-05-11
- 发明人： 長山將之 , NAGAYAMA, NOBUYUKI , 菊池英一郎 , KIKUCHI, EIICHIRO
- 申请人： 東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
- 专利权人： 東京威力科創股份有限公司,TOKYO ELECTRON LIMITED
- 当前专利权人： 東京威力科創股份有限公司,TOKYO ELECTRON LIMITED
- 代理人： 周良謀; 周良吉
- 优先权： 2010-250461 20101109
- 主分类号： H01L21/683
- IPC分类号： H01L21/683 ; H05H1/24 ; H01L21/3065
公开/授权文献:
- TW201234519A 電漿處理裝置 PLASMA PROCESSING APPARATUS 公开/授权日：2012-08-16