基本信息:
- 专利标题： 圖案形成方法及光阻組成物
- 专利标题（英）：PATTERNING PROCESS AND RESIST COMPOSITION
- 专利标题（中）：图案形成方法及光阻组成物
- 申请号：TW101132356 申请日：2012-09-05
- 公开(公告)号：TWI522747B 公开(公告)日：2016-02-21
- 发明人： 小林知洋 , KOBAYASHI, TOMOHIRO , 旱田山潤 , HATAKEYAMA, JUN , 飯尾匡史 , LIO, MASASHI , 須賀祐輝 , SUKA, YUKI , 長谷川幸士 , HASEGAWA, KOJI , 原田裕次 , HARADA, YUJI
- 申请人： 信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 专利权人： 信越化學工業股份有限公司,SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人： 信越化學工業股份有限公司,SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 代理人： 周良謀; 周良吉
- 优先权： 2011-196667 20110909
- 主分类号： G03F7/038
- IPC分类号： G03F7/038 ; C08L33/14 ; C08L33/16 ; H01L21/027
公开/授权文献:
- TW201316125A 圖案形成方法及光阻組成物 公开/授权日：2013-04-16