基本信息:
- 专利标题： 具薄膜的基材單元之製法
- 专利标题（中）：具薄膜的基材单元之制法
- 申请号：TW101138213 申请日：2012-10-17
- 公开(公告)号：TWI514636B 公开(公告)日：2015-12-21
- 发明人： 張錫薰
- 申请人： 張錫薰
- 申请人地址： 南投縣
- 专利权人： 張錫薰
- 当前专利权人： 張錫薰
- 当前专利权人地址： 南投縣
- 代理人： 桂齊恆; 林景郁
- 主分类号： H01L33/64
- IPC分类号： H01L33/64 ; F21V29/00
公开/授权文献:
- TW201417360A 具薄膜的基材單元之製法及其成品 公开/授权日：2014-05-01