基本信息:
- 专利标题： 化學增幅型負型光阻組成物及圖型形成方法
- 专利标题（英）：Chemically amplified negative resist composition and patterning process
- 专利标题（中）：化学增幅型负型光阻组成物及图型形成方法
- 申请号：TW101106282 申请日：2012-02-24
- 公开(公告)号：TWI507821B 公开(公告)日：2015-11-11
- 发明人： 增永惠一 , MASUNAGA, KEIICHI , 土門大將 , DOMON, DAISUKE , 渡邊聰 , WATANABE, SATOSHI
- 申请人： 信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 专利权人： 信越化學工業股份有限公司,SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人： 信越化學工業股份有限公司,SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 代理人： 林志剛
- 优先权： 2011-041528 20110228
- 主分类号： G03F7/038
- IPC分类号： G03F7/038 ; C08F220/38 ; C08F220/30 ; C08F232/08 ; H01L21/027