基本信息:
- 专利标题： 無定形鍺／鍗沉積製程
- 专利标题（英）：Amorphous ge/te deposition process
- 专利标题（中）：无定形锗／鍗沉积制程
- 申请号：TW097142061 申请日：2008-10-31
- 公开(公告)号：TWI477641B 公开(公告)日：2015-03-21
- 发明人： 陳世輝 , CHEN, PHILIP S. H. , 威廉杭克斯 , HUNKS, WILLIAM , 陳天牛 , CHEN, TIANNIU , 史丹德爾馬休斯 , STENDER, MATTHIAS , 許從應 , XU, CHONGYING , 羅伊德傑佛里F , ROEDER, JEFFREY F. , 李衛民 , LI, WEIMIN
- 申请人： 尖端科技材料股份有限公司 , ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.
- 专利权人： 尖端科技材料股份有限公司,ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.
- 当前专利权人： 尖端科技材料股份有限公司,ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.
- 代理人： 蔡坤財; 李世章
- 优先权： 60/984,370 20071031;61/050,179 20080502;61/051,274 20080507;61/052,018 20080509;61/076,428 20080627
- 主分类号： C23C16/30
- IPC分类号： C23C16/30 ; C23C16/455 ; C07F7/30 ; C07F9/90 ; C07F11/00 ; H01L45/00
公开/授权文献:
- TW200938652A 無定形鍺/鍗沉積製程 AMORPHOUS GE/TE DEPOSITION PROCESS 公开/授权日：2009-09-16