基本信息:

• 专利标题： 含氟單體、高分子化合物、光阻材料及圖案形成方法
• 专利标题（英）：Fluorinated monomer, polymer, resist composition, and patterning process
• 专利标题（中）：含氟单体、高分子化合物、光阻材料及图案形成方法
• 申请号：TW100112058 申请日：2011-04-07
• 公开(公告)号：TWI429632B 公开(公告)日：2014-03-11
• 发明人： 提箸正義 , SAGEHASHI, MASAYOSHI , 長谷川幸士 , HASEGAWA, KOJI , 佐佐見武志 , SASAMI, TAKESHI
• 申请人： 信越化學工業股份有限公司 ,  SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
• 专利权人： 信越化學工業股份有限公司,SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
• 当前专利权人： 信越化學工業股份有限公司,SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
• 代理人： 周良謀; 周良吉
• 优先权： 2010-088537 20100407
• 主分类号： C07D317/34
• IPC分类号： C07D317/34 ; C07D317/72 ; C08F20/28 ; C08F22/20 ; G03F7/004 ; H01L21/027

公开/授权文献:

• TW201211016A  含氟單體、高分子化合物、光阻材料及圖案形成方法 FLUORINATED MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS 公开/授权日：2012-03-16

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