基本信息:
- 专利标题： 光罩圖案之形成方法、微細圖案之形成方法及成膜裝置
- 专利标题（中）：光罩图案之形成方法、微细图案之形成方法及成膜设备
- 申请号：TW098132629 申请日：2009-09-28
- 公开(公告)号：TWI422994B 公开(公告)日：2014-01-11
- 发明人： 長谷部一秀 , HASEBE, KAZUHIDE , 中島滋 , NAKAJIMA, SHIGERU , 小川淳 , OGAWA, JUN , 村上博紀 , MURAKAMI, HIROKI
- 申请人： 東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
- 专利权人： 東京威力科創股份有限公司,TOKYO ELECTRON LIMITED
- 当前专利权人： 東京威力科創股份有限公司,TOKYO ELECTRON LIMITED
- 代理人： 林秋琴; 何愛文
- 优先权： 2008-251679 20080929;2009-206443 20090907
- 主分类号： G03F7/40
- IPC分类号： G03F7/40
公开/授权文献:
- TW201039072A 光罩圖案之形成方法、微細圖案之形成方法及成膜裝置 公开/授权日：2010-11-01