基本信息:

• 专利标题： 金屬烷氧化合物、薄膜形成用原料及薄膜之製造方法
• 专利标题（中）：金属烷氧化合物、薄膜形成用原料及薄膜之制造方法
• 申请号：TW096128292 申请日：2007-08-01
• 公开(公告)号：TWI383990B 公开(公告)日：2013-02-01
• 发明人： 和田仙二 , WADA, SENJI , 阿部徹司 , ABE, TETSUJI , 櫻井淳 , SAKURAI, ATSUSHI , 東野貴志 , HIGASHINO, TAKASHI , 藤本龍作 , FUJIMOTO, RYUSAKU , 清水雅子 , SHIMIZU, MASAKO
• 申请人： 艾迪科股份有限公司 ,  ADEKA CORPORATION
• 专利权人： 艾迪科股份有限公司,ADEKA CORPORATION
• 当前专利权人： 艾迪科股份有限公司,ADEKA CORPORATION
• 代理人： 陳長文
• 优先权： 2006-251575 20060915
• 主分类号： C07F7/00
• IPC分类号： C07F7/00 ; C07F7/28 ; C23C16/40

公开/授权文献:

• TW200833701A  金屬烷氧化合物、薄膜形成用原料及薄膜之製造方法 公开/授权日：2008-08-16

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