发明专利
TWI359457B 具有一溫度分佈均勻之加熱／冷卻晶圓支撐件的電容式耦合電漿反應器 CAPACITIVELY COUPLED PLASMA REACTOR HAVING A COOLED/HEATED WAFER SUPPORT WITH UNIFORM TEMPERATURE DISTRIBUTION
有权
基本信息:
- 专利标题： 具有一溫度分佈均勻之加熱／冷卻晶圓支撐件的電容式耦合電漿反應器 CAPACITIVELY COUPLED PLASMA REACTOR HAVING A COOLED/HEATED WAFER SUPPORT WITH UNIFORM TEMPERATURE DISTRIBUTION
- 专利标题（英）：Capacitively coupled plasma reactor having a coole
- 专利标题（中）：具有一温度分布均匀之加热／冷却晶圆支撑件的电容式耦合等离子反应器 CAPACITIVELY COUPLED PLASMA REACTOR HAVING A COOLED/HEATED WAFER SUPPORT WITH UNIFORM TEMPERATURE DISTRIBUTION
- 申请号：TW100132768 申请日：2006-10-13
- 公开(公告)号：TWI359457B 公开(公告)日：2012-03-01
- 发明人： 霍夫曼丹尼爾J , 布利哈特保羅路卡斯 , 佛菲爾理查 , 塔法梭利哈米德 , 布卻柏格道格拉斯二世A , 伯恩斯道格拉斯H , 貝拉卡羅
- 申请人： 應用材料股份有限公司
- 申请人地址： APPLIED MATERIALS, INC. 美國 US
- 专利权人： 應用材料股份有限公司
- 当前专利权人： 應用材料股份有限公司
- 当前专利权人地址： APPLIED MATERIALS, INC. 美國 US
- 代理人： 蔡坤財; 李世章
- 优先权： 美國 60/729,314 20051020
- 主分类号： H01L
- IPC分类号： H01L
摘要：
用於處理工作物件的電漿反應器包括一反應室、一位於反應室中之靜電吸座，用以支撐工作物件、一RF電漿偏壓功率產生器，用以施加RF功率至靜電吸座、以及一相變化熱傳(PCHT)迴路，包括一熱交換器，位於靜電吸座內且具有入口與出口。PCHT迴路可在二種模式下操作：冷卻模式(在此熱交換器當作蒸發器)、和加熱模式(在此熱交換器當作冷凝器)。PCHT迴路更包括一壓縮機(用以透過迴路抽吸相變化熱傳媒介)，不直接耦接至熱交換器的出口、一冷凝器(冷卻模式)，耦接壓縮機的出口、以及一擴張閥，耦接於冷凝器的出口與熱交換器的入口之間。較佳地，熱交換器內的PCHT媒介為氣相與液相的混合物。如此，靜電吸座與熱交換器內之PCHT媒介間的熱傳進行為一恆溫的過程。此將改善整個靜電吸座之溫度分布的均勻度。
摘要（中）：
用于处理工作对象的等离子反应器包括一反应室、一位于反应室中之静电吸座，用以支撑工作对象、一RF等离子偏压功率产生器，用以施加RF功率至静电吸座、以及一相变化热传(PCHT)回路，包括一热交换器，位于静电吸座内且具有入口与出口。PCHT回路可在二种模式下操作：冷却模式(在此热交换器当作蒸发器)、和加热模式(在此热交换器当作冷凝器)。PCHT回路更包括一压缩机(用以透过回路抽吸相变化热传媒介)，不直接耦接至热交换器的出口、一冷凝器(冷却模式)，耦接压缩机的出口、以及一扩张阀，耦接于冷凝器的出口与热交换器的入口之间。较佳地，热交换器内的PCHT媒介为气相与液相的混合物。如此，静电吸座与热交换器内之PCHT媒介间的热传进行为一恒温的过程。此将改善整个静电吸座之温度分布的均匀度。