基本信息:
- 专利标题： 熱處理腔內高溫計之校準系統及方法
- 专利标题（英）：System and process for calibrating pyrometers in thermal processing chambers
- 专利标题（中）：热处理腔内高温计之校准系统及方法
- 申请号：TW089108334 申请日：2000-05-03
- 公开(公告)号：TW523845B 公开(公告)日：2003-03-11
- 发明人： 朱利歐 吉阿丹度
- 申请人： 史悌克RTP系統有限公司
- 申请人地址： 美國
- 专利权人： 史悌克RTP系統有限公司
- 当前专利权人： 史悌克RTP系統有限公司
- 当前专利权人地址： 美國
- 代理人： 李品佳
- 优先权： 美國 09/303,733 19990503
- 主分类号： H01L
- IPC分类号： H01L
摘要：
本發明係關於一種方法及系統用於校準輻射感測裝置，如熱處理腔內之高溫計。此系統包含一反射裝置，設置於輻射感測裝置之對面，及一校正光源，其可放射光能至反射裝置上。此系統之設計係便於每一輻射感測裝置曝晒自反射裝置之光能，均接收相同之強度，且反射裝置具有一預設值。接著輻射感測裝置可用於測量反射之光能量，此再與預設值比較，即可視需要做任何調整。
摘要（中）：
本发明系关于一种方法及系统用于校准辐射传感设备，如热处理腔内之高温计。此系统包含一反射设备，设置于辐射传感设备之对面，及一校正光源，其可放射光能至反射设备上。此系统之设计系便于每一辐射传感设备曝晒自反射设备之光能，均接收相同之强度，且反射设备具有一默认值。接着辐射传感设备可用于测量反射之光能量，此再与默认值比较，即可视需要做任何调整。
摘要（英）：
A method and system for calibrating radiation sensing devices, such as pyrometers, in thermal processing chambers are disclosed. The system includes a reflective device positioned opposite the radiation sensing devices and a calibrating light source which emits light energy onto the reflective device. The system is designed so that each radiation sensing device is exposed to the same intensity of light being reflected off the reflective device, which has a preset value. The radiation sensing devices are then used to measure the amount of light energy being reflected which is then compared to the preset value for making any necessary adjustments.