基本信息:
- 专利标题: 矽微粒子之製造方法及製造裝置
- 专利标题(英):Method and apparatus for producing silicon fine particle
- 专利标题(中):硅微粒子之制造方法及制造设备
- 申请号:TW101148582 申请日:2012-12-20
- 公开(公告)号:TW201343550A 公开(公告)日:2013-11-01
- 发明人: 遠藤忍 , ENDO, SHINOBU , 岩淵芳典 , IWABUCHI, YOSHINORI , 山本由紀子 , YAMAMOTO, YUKIKO
- 申请人: 普利司通股份有限公司 , BRIDGESTONE CORPORATION
- 专利权人: 普利司通股份有限公司,BRIDGESTONE CORPORATION
- 当前专利权人: 普利司通股份有限公司,BRIDGESTONE CORPORATION
- 代理人: 黃慶源; 陳彥希
- 优先权: 2011-279733 20111221
- 主分类号: C01B33/025
- IPC分类号: C01B33/025 ; C01B33/027
摘要:
本發明之課題係提高矽微粒子之產率。本發明之矽微粒子之製造方法,係具有下述製程:製程A,係在由非碳物質所形成之區域內、於惰性氛圍下,將藉由加熱機構以乾燥含有矽源以及碳源之混合物所得之前驅物予以加熱;以及製程B,係在由非碳物質所形成之區域內、於惰性氛圍下,將藉由加熱該前驅物所生成之氣體予以急速冷卻。該矽源以及該碳源之至少一者為液狀。
摘要(中):
本发明之课题系提高硅微粒子之产率。本发明之硅微粒子之制造方法,系具有下述制程:制程A,系在由非碳物质所形成之区域内、于惰性氛围下,将借由加热机构以干燥含有硅源以及碳源之混合物所得之前驱物予以加热;以及制程B,系在由非碳物质所形成之区域内、于惰性氛围下,将借由加热该前驱物所生成之气体予以急速冷却。该硅源以及该碳源之至少一者为液状。
摘要(英):
A method for producing silicon microparticles according to the present invention comprises: a step (A) of heating a precursor using a heating means under an inert atmosphere in a zone (20) formed by a non-carbon substance, wherein the precursor is produced by drying a mixture comprising a silicon source and a carbon source; and a step (B) of rapidly cooling a gas generated by heating the precursor under an inert atmosphere in the zone (20) formed by the non-carbon substance. The silicon source and/or the carbon source is in a liquid form.
公开/授权文献:
- TWI488806B 矽微粒子之製造方法及製造裝置 公开/授权日:2015-06-21
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
C | 化学;冶金 |
--C01 | 无机化学 |
----C01B | 非金属元素;其化合物 |
------C01B33/00 | 硅;其化合物 |
--------C01B33/02 | .硅 |
----------C01B33/021 | ..制备 |
------------C01B33/023 | ...用二氧化硅或含二氧化硅的物料的还原方法 |
--------------C01B33/025 | ....使用碳或固体碳质物料,即碳热还原工艺 |