基本信息:
- 专利标题： 微影機台及其應用
- 专利标题（英）：Micro-lithography machine and application thereof
- 专利标题（中）：微影机台及其应用
- 申请号：TW098107718 申请日：2009-03-10
- 公开(公告)号：TW201033746A 公开(公告)日：2010-09-16
- 发明人： 黃健朝 , 陳俊淇 , 施錫龍 , 吳政三 , 楊富量
- 申请人： 財團法人國家實驗研究院
- 申请人地址： NATIONAL APPLIED RESEARCH LABORATOIRES 臺北市大安區和平東路2段106號3樓 TW
- 专利权人： 財團法人國家實驗研究院
- 当前专利权人： 財團法人國家實驗研究院
- 当前专利权人地址： NATIONAL APPLIED RESEARCH LABORATOIRES 臺北市大安區和平東路2段106號3樓 TW
- 代理人： 林火泉
- 主分类号： G03F
- IPC分类号： G03F ; H01L
The present invention discloses a micro-lithography machine and an application thereof, which includes an electron beam generator or an ion beam generator used to generate electron beam or ion beam; substrate carrier used to carry a substrate; a precursor gas injector used to inject precursor gas from the top the substrate. The present invention uses the electron beam or the ion beam to induce a reaction of the precursor gas on the substrate for depositing on the substrate so as to complete micro micro-lithography layer on the substrate in single step completes. Also, through effectively utilizing the properties of the electron beam, the ion beam and the precursor gas, it is capable of achieving high lithography resolution and avoiding residue of contaminants.
公开/授权文献:
- TWI407264B 微影機台及其應用 公开/授权日：2013-09-01