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    • 2. 发明专利
    • 一種晶圓步進曝光裝置及一種晶圓步進曝光方法
    • 一种晶圆步进曝光设备及一种晶圆步进曝光方法
    • TW201504767A
    • 2015-02-01
    • TW102125792
    • 2013-07-18
    • 財團法人國家實驗研究院NATIONAL APPLIED RESEARCH LABORATORIES
    • 施錫龍SHY, SHYI LONG
    • G03F7/20
    • 本發明提供一種晶圓步進曝光裝置,應用於晶圓及光罩,晶圓表面具有光阻層,且晶圓之複數個區域中之一的尺寸與光罩之圖案區相仿,裝置包括晶圓承載台、光罩承載台以及光源。晶圓承載台用以固定晶圓;光罩承載台用以固定光罩,且與晶圓承載台間可進行相對運動,用以使光罩之圖案區對準該等區域中之一,其中,固定有光罩之光罩承載台與固定有晶圓之晶圓承載台直接接觸或僅具有空隙;光源提供光線,用以穿過光罩之圖案區而對光阻層進行曝光。另外,本發明另提供一種晶圓步進曝光方法。
    • 本发明提供一种晶圆步进曝光设备,应用于晶圆及光罩,晶圆表面具有光阻层,且晶圆之复数个区域中之一的尺寸与光罩之图案区相仿,设备包括晶圆承载台、光罩承载台以及光源。晶圆承载台用以固定晶圆;光罩承载台用以固定光罩,且与晶圆承载台间可进行相对运动,用以使光罩之图案区对准该等区域中之一,其中,固定有光罩之光罩承载台与固定有晶圆之晶圆承载台直接接触或仅具有空隙;光源提供光线,用以穿过光罩之图案区而对光阻层进行曝光。另外,本发明另提供一种晶圆步进曝光方法。