基本信息:
- 专利标题： 摻雜二氧化鈦之石英玻璃,EUV微影用構件,EUV微影用光罩基板及摻雜二氧化鈦之石英玻璃的製造方法
- 专利标题（英）：Titania-doped quartz glass and making method, EUV lithographic member and photomask substrate
- 专利标题（中）：掺杂二氧化钛之石英玻璃,EUV微影用构件,EUV微影用光罩基板及掺杂二氧化钛之石英玻璃的制造方法
- 申请号：TW095145693 申请日：2006-12-07
- 公开(公告)号：TW200736183A 公开(公告)日：2007-10-01
- 发明人： 每田繁 MAIDA, SHIGERU , 山田素行 YAMADA, MOTOYUKI
- 申请人： 信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 申请人地址： 日本
- 专利权人： 信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人： 信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人地址： 日本
- 代理人： 林志剛
- 优先权： 日本 2005-354488 20051208 日本 2006-318172 20061127
- 主分类号： C03C
- IPC分类号： C03C ; G03F ; C03B
摘要：
【解決手段】含有3~12質量%之二氧化鈦,該二氧化鈦之濃度梯度為0.01質量%/���m以下,且厚度為6.35mm之於波長440nm中的表觀穿透率為30%以上為其特徵之摻雜二氧化鈦之石英玻璃。【效果】可提供予以EUV微影用光罩基板等之EUV微影用構件所要求之高表面精細度之均質性高之摻雜二氧化鈦之石英玻璃,由摻雜二氧化鈦之石英玻璃所構成之EUV微影用光罩基板等之EUV微影用構件為平坦度和熱膨脹特性優良者。
摘要（中）：
【解决手段】含有3~12质量%之二氧化钛,该二氧化钛之浓度梯度为0.01质量%/���m以下,且厚度为6.35mm之于波长440nm中的表观穿透率为30%以上为其特征之掺杂二氧化钛之石英玻璃。【效果】可提供予以EUV微影用光罩基板等之EUV微影用构件所要求之高表面精细度之均质性高之掺杂二氧化钛之石英玻璃,由掺杂二氧化钛之石英玻璃所构成之EUV微影用光罩基板等之EUV微影用构件为平坦度和热膨胀特性优良者。
摘要（英）：
A titania-doped quartz glass containing 3-12 wt% of titania at a titania concentration gradient less than or equal to 0.01 wt%/&mgr;m and having an apparent transmittance to 440 nm wavelength light of at least 30% at a thickness of 6.35 mm is of such homogeneity that it provides a high surface accuracy as required for EUV lithographic members, typically EUV lithographic photomask substrates. A method for preparing the titania-doped quartz glass by flame hydrolysis is also defined.
公开/授权文献:
- TWI389866B 摻雜二氧化鈦之石英玻璃，ＥＵＶ微影用構件，ＥＵＶ微影用光罩基板及摻雜二氧化鈦之石英玻璃的製造方法 公开/授权日：2013-03-21