基本信息:
- 专利标题： 기판 처리 장치의 냉각장치
- 专利标题（英）：Cold Trap For Processing A Substrate
- 专利标题（中）：基板处理装置的冷却装置
- 申请号：KR2020100006969 申请日：2010-06-30
- 公开(公告)号：KR200462868Y1 公开(公告)日：2012-10-05
- 发明人： 박경완
- 申请人： 주식회사 테라세미콘
- 申请人地址： 경기 화성시 동탄면 경기동로 ***-**,
- 专利权人： 주식회사 테라세미콘
- 当前专利权人： 주식회사 테라세미콘
- 当前专利权人地址： 경기 화성시 동탄면 경기동로 ***-**,
- 代理人： 김한
- 主分类号： H01L21/02
- IPC分类号： H01L21/02
摘要：
기판 처리 장치의 냉각장치가 개시된다. 본 고안의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 냉각장치는 증착 물질의 유입구(102)가 일면부에 형성되고, 타면부에 유출구(103)가 형성된 외통(100); 및 상기 외통(100)의 내부에 구비되며, 상기 외통(100)의 길이 방향을 따라 기립되게 설치되고 냉각수가 유동될 수 있게 연결된 복수의 냉각 채널(121)을 구비한 냉각부(120)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
摘要（中）：
公开了一种用于基板处理设备的冷却装置。 根据本发明实施例的基板处理设备的冷却装置包括外圆筒100，该外圆筒100具有形成在其一个表面上的蒸发材料的入口102和形成在其另一个表面上的出口103。 并且，在外筒100的内部具有冷却部120，该冷却部120具有沿外筒100的长度方向竖立设置的多个冷却流路121，冷却水流通 而且，其特征在于。
摘要（英）：
The cooling device of a substrate processing apparatus is disclosed. One cooling unit of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present design is the outlet 103 is formed in outer tube 100 to the inlet portion of the deposition material 102 is formed on one part, the other surface; And is provided in the interior of the outer tube 100, the outer tube installed to stand along the longitudinal direction of 100 and a cooling water is provided with a plurality of cooling channels (121) connected so that it is flowing the cooling section comprises a (120) and it characterized in that.
公开/授权文献:
- KR2020120000223U 기판 처리 장치의 냉각장치 公开/授权日：2012-01-05
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |