基本信息:
- 专利标题: 마이크로-전사 인쇄를 위한 장치 및 방법들
- 专利标题(英):APPARATUS AND METHODS FOR MICRO-TRANSFER PRINTING
- 申请号:KR1020177004506 申请日:2015-07-20
- 公开(公告)号:KR102085212B1 公开(公告)日:2020-03-05
- 发明人: 보워,크리스토퍼 , 메이틀,매튜 , 크니부르크,데이비드 , 고메즈,데이비드 , 보나페데,살바토르
- 申请人: 엑스-셀레프린트 리미티드
- 申请人地址: Lee Maltings, Dyke Parade, Cork, IRELAND
- 专利权人: 엑스-셀레프린트 리미티드
- 当前专利权人: 엑스-셀레프린트 리미티드
- 当前专利权人地址: Lee Maltings, Dyke Parade, Cork, IRELAND
- 代理人: 특허법인 남앤남
- 优先权: US62/026,694 2014-07-20; US62/027,166 2014-07-21
- 国际申请: PCT/EP2015/066566 2015-07-20
- 国际公布: WO2016012409 2016-01-28
- 主分类号: H01L21/52
- IPC分类号: H01L21/52 ; B41K3/04 ; B41K3/12 ; B41F16/00 ; H01L21/3065 ; H01L21/683 ; H01L21/67 ; H01L21/56
公开/授权文献:
- KR1020170063528A 마이크로-전사 인쇄를 위한 장치 및 방법들 公开/授权日:2017-06-08
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01L | 半导体器件;其他类目未包含的电固体器件 |
------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
--------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |
------------H01L21/50 | ...应用H01L21/06至H01L21/326中的任一小组都不包含的方法或设备组装半导体器件的 |
--------------H01L21/52 | ....半导体在容器中的安装 |